公开(公告)号：KR20200130289A

公开(公告)日：2020-11-18

申请号：KR20207025911

申请日：2019-02-07

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： KURGANOVA EVGENIA ,  GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA ,  KLEIN ALEXANDER LUDWIG ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  NOTENBOOM ARNOUD WILLEM ,  PETER MARIA ,  VAN ZWOL PIETER JAN ,  VLES DAVID FERDINAND ,  VOLLEBREGT STEN ,  VOORTHUIJZEN WILLEM PIETER

IPC: B01J21/18 ,  B01J23/28 ,  B01J23/30 ,  B01J23/652 ,  B01J23/883 ,  B01J23/885 ,  B01J27/22 ,  B01J35/00 ,  B01J37/02 ,  G03F1/62 ,  G03F7/20

Abstract: 몰리브덴을포함하는제 1 층; 베이스층; 및중간층을포함하고, 중간층은베이스층과제 1 층사이에배치되는촉매가개시된다. 또한, 촉매를제조하는방법및 그래핀을합성하는방법, 본명세서에개시된촉매또는방법을사용하여생성되는펠리클, 및이러한펠리클을포함하는리소그래피장치가개시된다.

公开(公告)号：KR20180072786A

公开(公告)日：2018-06-29

申请号：KR20187014403

申请日：2016-10-11

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： PETER MARIA ,  ABEGG ERIK ACHILLES ,  GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA ,  KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES ,  VAN DER ZANDE WILLEM JOAN ,  VAN ZWOL PIETER JAN ,  VERMEULEN JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  VLES DAVID FERDINAND ,  VOORTHUIJZEN WILLEM PIETER

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/66 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70958 ,  G03F1/62 ,  G03F7/70983 ,  G21K2201/067

Abstract: 리소그래피장치를위한펠리클을제조하는방법들이개시된다. 일배치에서, 상기방법은기판의평탄한표면상에적어도하나의그래핀층을증착하는단계를포함한다. 상기기판은제1기판부및 제2기판부를포함한다. 상기방법은상기적어도하나의그래핀층으로부터프리스탠딩막을형성하기위해상기제1기판부를제거하는단계를더 포함한다. 상기프리스탠딩막은상기제2기판부에의해지지된다.