公开(公告)号：DE102024109179A1

公开(公告)日：2025-04-24

申请号：DE102024109179

申请日：2024-04-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV ,  ZEISS CARL SMT GMBH

Inventor： EHM DIRK ,  WIDMANN DANIEL ,  STARZMANN JOERG ,  LEUNISSEN LEONARDUS HENDRIKUS ALBERTINO ,  NEDANOVSKA ELENA ,  PANDIYAN ARUNKUMAR ,  ZDRAVKOV ALEXANDAR NIKOLOV ,  VORONINA VICTORIA

IPC: G03F7/20 ,  B01D35/06 ,  B03C3/28 ,  H01J19/70

Abstract: Die Erfindung betrifft eine optische Anordnung (24) für eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage (1), umfassend mindestens ein einen Strahlengang (25) einer zur Abbildung genutzten Nutzstrahlung (16) zumindest teilweise umschließendes Gehäuse (26,28), wobei eine Öffnung (27,29) des Gehäuses (26,28) von einer Kontamination (33) und dem Strahlengang (25) zumindest teilweise durchdrungene Durchdringungsfläche (AD) definiert. Die optische Anordnung zeichnet sich dadurch aus, dass eine Partikelfalle (30) die Kontamination (33) in Strahlungsrichtung zumindest teilweise abschattet.Weiterhin betrifft die Erfindung eine EUV-Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer optischen Anordnung (24) nach einer der erläuterten Ausführungsformen.

公开(公告)号：CA3066546A1

公开(公告)日：2018-12-20

申请号：CA3066546

申请日：2018-06-08

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： VLES DAVID FERDINAND ,  ANDE CHAITANYA KRISHNA ,  DE GROOT ANTONIUS FRANCISCUS JOHANNES ,  GIESBERS ADRIANUS JOHANNES MARIA ,  JANSSEN JOHANNES JOSEPH ,  JANSSEN PAUL ,  KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK ,  KNAPEN PETER SIMON ANTONIUS ,  KURGANOVA EVGENIA ,  MEIJER MARCEL PETER ,  MEIJERINK WOUTER ROGIER ,  NASALEVICH MAXIM ALEKSANDROVICH ,  NOTENBOOM ARNOUD WILLEM ,  OLSMAN RAYMOND ,  PATEL HRISHIKESH ,  PETER MARIA ,  VAN DEN BOSCH GERRIT ,  VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES ,  VAN DER ZANDE WILLEM JOAN ,  VAN ZWOL PIETER-JAN ,  VERMEULEN JOHANNES PETRUS MARTINUS BERNARDUS ,  VOORTHUIJZEN WILLEM-PIETER ,  WONDERGEM HENDRIKUS JAN ,  ZDRAVKOV ALEXANDAR NIKOLOV

IPC: G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: The invention relates to a pellicle assembly comprising a pellicle frame defining a surface onto which a pellicle is attached. The pellicle assembly comprises one or more three-dimensional expansion structures that allow the pellicle to expand under stress. The invention also relates to a pellicle assembly for a patterning device comprising one or more actuators for moving the pellicle assembly towards and way from the patterning device.

公开(公告)号：CA3008939A1

公开(公告)日：2017-06-22

申请号：CA3008939

申请日：2016-12-02

Applicant: ASML NETHERLANDS BV

Inventor： JANSSEN PAUL ,  KLOOTWIJK JOHAN HENDRIK ,  VAN DEN EINDEN WILHELMUS THEODORUS ANTHONIUS JOHANNES ,  ZDRAVKOV ALEXANDAR NIKOLOV

IPC: G03F7/20 ,  G03F1/62 ,  G03F1/64

Abstract: Methods of manufacturing a membrane assembly are disclosed. In one arrangement, a stack comprises a planar substrate and at least one membrane layer. The planar substrate comprises an inner region, a border region around the inner region, a bridge region around the border region and an edge region around the bridge region. The inner region and a first portion of the bridge region are selectively removed. The membrane assembly after removal comprises: a membrane formed from the at least one membrane layer, a border holding the membrane, the border formed from the border region of the planar substrate, an edge section around the border, the edge section formed from the edge region of the planar substrate, a bridge between the border and the edge section, the bridge formed from the at least one membrane layer and a second portion of the bridge region of the planar substrate. The method further comprises separating the edge section from the border by cutting or breaking the bridge.