Abstract:
The present invention relates to an electron beam lithography apparatus adjusting an electron beam focus in accordance to the type of substrate, and to a method to adjust focus of the same. According to the present invention, the method to adjust a focus of the electron beam lithography apparatus comprises the steps of: measuring the height of a substrate; regarding a height map showing measurement error of the measured height to adjust the measured height; and adjusting a focus of an electron beam irradiated in accordance to the adjusted height.
Abstract:
본 발명은 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머에 관한 것으로서, 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머의 제조방법에 있어서, 글라스 기판을 준비하는 제1단계와, 상기 글라스 기판 상에 비아홀 형성을 위한 마스크 패턴층을 형성하는 제2단계와, 상기 글라스 기판에 상기 마스크 패턴층의 설정패턴에 따라 비아홀을 형성하는 제3단계와, 상기 비아홀에 도전재를 채우는 제4단계와, 상기 비아홀과 전기적으로 연결되며, 상기 글라스 기판 표면에 금속배선전극을 형성하는 제5단계 및 상기 글라스 기판 상에 금속배선전극 간 절연을 위한 절연막을 형성하는 제6단계포함하며, 상기 제1단계에서 제6단계를 반복하여 형성되는 제1층의 글라스 기판 스페이스 트랜스포머를 적층하여 형성되는 것을 특징으로 하는 글라스 기반 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머의 제조방법 및 이에 의해 제조된 글라스 기반 프로브 카드용 스페이스 트랜스포머에 관한 것이다. 이에 의해 본 발명은, 기존의 다층세라믹 동시소결 방법을 사용하지 않기 때문에 수축 및 팽창으로 인한 스페이스 트랜스포머의 변형이 발생하지 않아 수율을 향상시킴으로써 생산성을 향상 시키고 제조비용이 절감시키는 이점이 있다.
Abstract:
본 발명은 정렬된 금속산화물 나노구조체를 형성하는 방법에 관한 것으로서, 임프린트 리소그래피(Imprint Lithography) 공정 또는 KrF 스텝퍼, KrF 스캐너, i-line 스텝퍼 및 i-line 스캐너를 이용하여 정렬된 금속산화물 나노구조체를 형성하는 방법에 있어서, 기판에 금속산화물 시드층을 형성한 후 임프린팅 공정에 의한 레진패턴층을 형성한 후 건식 식각 공정을 거쳐 상기 금속산화물 시드층을 노출시키거나, KrF 스텝퍼, KrF 스캐너, i-line 스텝퍼 및 i-line 스캐너를 이용하여 레진패턴층을 형성하여 상기 금속산화물 시드층을 노출시켜, 수열 합성법을 이용하여 상기 금속산화물 시드층으로부터 금속산화물 나노구조체를 성장시키는 것을 특징으로 하는 정렬된 금속산화물 나노구조체 형성 방법을 기술적 요지로 한다. 이에 의해 다양한 형상, 크기 및 패터닝의 금속산화물 나노구조체를 제조할 수 있고, 비교적 저가로 제공할 수 있으며, 대면적의 금속산화물 나노구조체의 정렬을 용이하게 하며, 금속산화물 나노구조체의 유착 또는 변형을 방지하고, 균일한 나노구조체의 형성 및 배열이 가능한 이점이 있다.
Abstract:
본 발명은 반도체 발광 다이오드 소자에 있어서, 반도체 발광 다이오드 소자의 제조 방법에 있어서, 기판 상층에 레지스트층을 형성하는 제1단계와, 상기 레지스트층을 패터닝하여 3차원 블락킹(blocking) 마스크를 형성하는 제2단계, 상기 3차원 블락킹 마스크 상층 및 기판 상층에 블락킹 패턴층을 증착하는 제3단계, 상기 3차원 블락킹 마스크를 제거하여 기판 상층에 "┰" 형태의 3차원 블락킹 패턴을 형성하는 제4단계 및 상기 3차원 블락킹 패턴 형성 후 반도체층을 증착하는 제5단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 3차원 블락킹 패턴을 이용한 반도체 발광 다이오드 소자의 제조 방법 및 이에 의해 제조된 반도체 발광 다이오드 소자를 기술적 요지로 한다. 이에 의해 기판 상에 3차원 블락킹 패턴을 형성하여 반도체층 형성시 발생하는 결함을 줄여서 발광 다이오드 소자의 효율을 개선시키는 이점이 있다.
Abstract:
The present invention relates to a method of forming an electrode of an electric power generation device using self-generated electricity of the electric power generation device. The method of forming the electrode of the electric power generation device includes a first step of immersing a substrate of the electric power generation device, which generates electron-hole pairs when energy is applied, into a plating solution; a second step of transmitting energy by changing an energy transmitting condition required when the electric power generation device generates the electricity; and a third step of plating with the self-generated electricity of the electric power generation device to form the electrode of the electric power generation device. Since a seed metal is not necessary, different from the conventional electrode forming method of a solar cell or the like using a light induced plating process, process time and costs can be shortened. The characteristic of the electric power generation device is improved by the simplified process. In addition, since the light source transmitting condition to generate the electricity is changed to adjust characteristics, such as plating speed, density and structure of the plating electrode, thereby forming the high quality electrode suitable for the characteristic of the electric power generation device to be used.