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公开(公告)号：KR100211025B1
公开(公告)日：1999-07-15
申请号：KR1019960069277
申请日：1996-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
진동형 마이크로 자이로스코프
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
본 발명은 압저항체을 이용하여 휨(bending) 변형으로부터 감지(sensing) 방향의 진동 크기를 측정하고, 이를 이용해 감지 방향의 변형이 상대적으로 크게 생기도록 구조체를 설계하여 우수한 감도를 가지는 진동형 마이크로 자이로스코프를 제공하는데 그 목적이 있다.
3. 발명의 해결방법의 요지
본 발명은, 상하부에 지지부가 형성되며, 상하방향으로 진동하는 외부구조물; 상기 외부구조물의 내부 중앙부에 구비되며, 가로방향으로 진동하여 외부로부터 평면에 수직한 축을 갖는 회전 각속도가 가해짐에 따라 회전속도에 비례하는 코리올리 힘을 수직방향으로 전달하는 진동질량; 상기 질량의 양측에 구비되며, 그에 가로방향 정전력을 제공하는 빗살전극; 및 상기 외부구조물의 상측 지지부 양단에 연결되며, 각기 다른 가진신호를 출력하여 진동을 발생시키도록 각각 전극이 구비된 제1 및 제2 앵커를 포함하는 진동형 마이크로 자이로스코프를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
가진축과 수직한 방향으로 회전 각속도에 비례하는 진동의 크기는 압저항체를 이용하여 측정하는 것임.-
公开(公告)号：KR100198812B1
公开(公告)日：1999-06-15
申请号：KR1019960035934
申请日：1996-08-28
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 마스크 패턴(mask pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜, 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer)할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것으로서, X-선 마스크 구성 요서의 하나인 지지링(support ring)의 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 지지링의 기계적 강도(mechanical strength)를 향상시키고, 마스크 기판(mask subtrate)과 지지 링간의 열팽창계수(coefficient of thermal expansion)의 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 최소화 하기 위해, 상기 지지링의 단면 구조를 종래의 단순 사각형 형태로부터 다각형이나 삼각형, 원형 등의 새로운 형태로 변경하거나, 보강용 홈(trench) 또는 보강용 빔(beam)을 종래의 지지 링에 추가한 새로운 구조의 지지 링을 사용하는 X-선 마스크에 관한 것이다. 본 발명은 상기의 X-선 마스크는 물론 전자빔 셀 투사용 리소그래피(electron-beam cell projection lithography)용 마스크 및 이온 빔 리소그래피(ion-beam lithography)용 마스크에도 응용할 수 있다.-
公开(公告)号：KR1019990033430A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970054787
申请日：1997-10-24
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B6/27
Abstract: 본 발명은 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 이용한 미세 패턴 노광 장비의 광학계에 소요되는 S-파는 반사시키고, P-파는 투과시키는 편광 광 분할기와 그 제작방법에 관한 것이다. 편광 광 분할기는 직각프리즘 2개와 유전체 다층 박막층, 접착층으로 구성되는 데, 기존의 박막물질들은 193nm에서 흡수가 커서 투과율이 떨어지고, 접착제는 193nm 파장에서 흡수율이 높거나 장시간의 조사에 의해서 변성을 일으키므로 사용이 불가능하다. 따라서 본 발명에서는 프리즘 재료로 193nm에서 내부 투과율이 1센티미터당 99% 이상인 용융 석영을 이용하였으며, 유전체 박막 물질은 소멸 계수가 0.01 이하인 물질을 이용하였다. 특히 접착제로 기존의 가시광선 영역에서 사용하던 에폭시 수지의 경우 ArF 엑시머 레이저를 조사할 경우 막이 상해서 사용이 불가능하게 된다. 따라서 193nm 파장 영역에서 흡수가 적고, 장시간의 조사에 의해서 변형이 생기지 않는 새로운 접착제를 사용하고, 이러한 접착제를 사용할 때 프리즘 재료와의 굴절률 차이를 보상해 줄 수 있는 편광 광 분할기와 그 제작방법을 제안하고 있다.
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公开(公告)号：KR1019990033429A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970054786
申请日：1997-10-24
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 193nm 파장의 ArF 엑시머 레이저를 조명 광원으로 이용한 미세 패턴 노광 장비의 광학계에 소요되는 S-파는 반사시키고, P-파는 투과시키는 편광 광 분할기와 그 제작방법에 관한 것이다. 본 광학계에서는 미세패턴을 형성시키기 위한 조명광으로 ArF 엑시머 레이저를 사용하는 외에 웨이퍼, 광학계, 레티클을 서로 정렬시키기 위한 정렬용 Ar 레이저가 동시에 이용되고 있다. Ar 엑시머 레이져의 출력파장인 193nm에서는 기존에 사용하던 박막물질은 흡수 계수가 커서 불투명하므로 사용이 불가능하다. 또한, 일반적으로 이 발명에서와 같이 ArF 엑시머 레이저 출력 파장과 정렬광인 Ar 레이저 출력 파장에서 동시에 광 분할기의 성능을 갖도록 하는 것은 어렵다고 알려져 있다. 본 발명에서는 193nm에서 흡수가 적은 유전체 물질을 사용하여 한쪽 프리즘의 빗면에 굴절률이 높은 물질과 낮은 물질을 교대로 층착하되, 그 층수와 두께를 조절하여 다층 코팅한 후, 두 프리즘의 빗면을 옵티칼 콘택트(optical contact)에 의해 부착시키는 방법을 이용하여 두 파장용 편광 광 분할기 성능을 갖는 광학 부품을 제작하는 방법과 그 분할기를 제안하고 있다.
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公开(公告)号：KR1019990033158A
公开(公告)日：1999-05-15
申请号：KR1019970054427
申请日：1997-10-23
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 GaAs의 햄트(HEMTs) 소자 개발에 필요한 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트(special gate) 제작에 사용되는 X-선 마스크 및 그 제조방법에 관한 것이다. 종래에는 X-선 마스크를 사용하여 티형 게이트를 제작할 때, 티형 게이트의 풋프린터(footprint)를 X-선 리소그래피를 통해 먼저 형성시킨 후, 다시 광 리소그래피로 헤드(Head)부분을 형성하는 방법으로 리소그래피를 다시 수행하는 등 공정상의 절차가 쉽지 않은 문제가 있다. 따라서, 본 발명은 풋프린터 부분에 해당되는 X-선 흡수체와 헤드 부분에 해당되는 X-선 흡수체의 두께를 달리하여 X-선 투과도를 조절하고, 이들 X-선 흡수체가 마스크 기판에 동시에 존재하도록 X-선 마스크를 제작하므로써, 한번의 X-선 리소그래피로 티형 및 감마형 게이트와 같은 특수 게이트를 웨이퍼상에 창출할 수 있도록 한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019990030944A
公开(公告)日：1999-05-06
申请号：KR1019970051435
申请日：1997-10-07
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B5/30
Abstract: 본 발명은 ArF 엑시머레이저를 광원으로 사용하여 원본인 마스크 상의 패턴을 웨이퍼 위에 전사시켜 미세한 선폭 구현을 하는 반사경과 렌즈로 구성된 리소그래피용 반사굴절 결상광학계에 관한 것으로서, 굴절능을 갖는 주반사경과 수차보정을 위한 보정용 렌즈들을 결합시키고, 광학계의 마지막 렌즈를 CaF
2 로 대체한 광학계를 제공함으로써, 파장이 짧으면서도 넓은 대역폭을 가지는 광원을 사용할 수 있고, 광학계의 수명을 향상시키고, 확대된 원본인 마스크 상의 패턴을 웨이퍼면 위에 전사시켜 미세 선폭을 구현할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR100170501B1
公开(公告)日：1999-05-01
申请号：KR1019950042071
申请日：1995-11-17
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: F21V5/04
Abstract: 본 발명은 파리 눈 렌즈를 이용한 조명계 인터그레이터에 관한 것이다.
본 발명은, 다수의 파리 눈 렌즈로 구성되는 인터그레이터에서 파리 눈 렌즈의 각각을 지나온 부분 광속들의 중심이 조명하고자 하는 영역의 중심과 일치하도록 각 파리 눈 렌즈의 광축을 인터그레이터의 광축에 대해 소정의 각도로 기울어지게 하거나 일정한 각도로 절단함으로써 구성되며, 종래의 인터그레이터 장치보다 광의 균일도를 향상시키고 광량의 손실을 줄여 효율을 높일 수 있을 뿐만 아니라 조명계 시스템의 크기를 줄여 경량화시킬 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019990025140A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970046644
申请日：1997-09-10
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 1. 청구 범위에 기재된 발명이 속한 기술 분야
반도체 장치.
2. 발명이 해결하고자 하는 기술적 과제
일반적인 IC 공정으로, 3차원 코일 구조를 가지며 코일의 내부가 빈 인덕터 및 그 형성 방법을 제공하여, 평면 구조의 인덕터에 비하여 면적이 감소되고, 코일의 고주파 전류에 흐름에 의한 기생 캐패시턴스의 용량을 줄일 수 있도록 한다.
3. 발명의 해결 방법의 요지
절연막 상에 형성된 홈 내부에, 홈의 바닥 및 양측벽의 소정 부위를 덮으며, 그 양단이 상기 홈 양측의 절연막 표면에 걸쳐지고 이웃하는 패턴과 소정의 간격을 갖는 다수의 제1 전도막 패턴 및 상기 홈 양측의 절연막 표면에 걸쳐진 상기 제1 전도막 패턴의 양단과 연결되며 상기 다수의 제1 전도막 패턴을 이웃하는 제1 전도막 패턴과 연결하여 상기 제1 전도막 패턴과 함께 코일 구조를 이루는 다수의 제2 전도막 패턴으로 3차원 코일 구조 미세 인덕터를 형성한다.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 장치 및 그 제조 방법에 이용됨-
公开(公告)号：KR100170484B1
公开(公告)日：1999-03-30
申请号：KR1019950050525
申请日：1995-12-15
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/321
Abstract: 본 발명은 슬러리 공급장치가 내설된 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.
좀 더 구체적으로, 본 발명은 웨이퍼의 화학적 기계적(chemical mechanical polishing) 연마공정시 웨이퍼의 일부가 연마장치의 플레이튼(platen) 외부로 노출되도록 하고, 웨이퍼의 하부에서 스터러(stirrer)에 의해 균일하게 혼합된 슬러리(slurry)를 웨이퍼의 전체면에 공급함으로써, 웨이퍼의 평탄화를 증진시킬 수 있는 슬러리 공급장치가 내설된 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.
본 발명의 화학적 기계적 연마장치는, 슬러리(6)를 충진하기 위한 슬러리 탱크(7) 내에, 웨이퍼(2)를 장착하기 위한 웨이퍼 캐리어(1)와, 상단에 복수개의 슬러리 공급구(4)가 형성된 연마 패드(3)가 장착되고, 웨이퍼(2)의 연마시 웨이퍼(2)의 일부가 플레이튼(8)의 외부로 노출되도록 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와 비동축상으로 플레이튼 회전축(9) 상에 부설되며, 복수개의 슬러리 공급구(4)가 관통형성되어 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와의 회전에 의해 웨이퍼(2)를 연마하는 플레이튼(8)이 포함되어 구성된다.-
公开(公告)号：KR100155314B1
公开(公告)日：1998-12-01
申请号：KR1019950034137
申请日：1995-10-05
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/30
Abstract: 본 발명은 반도체 제조공정에서 플라즈마 표면처리를 이용한 배선금속박막의 평탄화 장비에 관한 것으로 증착된 금속박막과 접촉창 및 비아구멍의 플라즈마에 의한 표면처리로 기판 또는 박막표면의 불순물과 산화물의 제거가 가능하고, 정밀한 온도제어가 가능하며, 금속박막 증착 후의 가열에 의한 리플로우(reflow) 열처리와 접촉창과 비아의 전처리 공정을 하나의 반응로 내에서 동시 또는 순차적으로 수행 가능하기 위하여 반응로의 상부에 장착되며, 이온화율이 높고 플라즈마 포텐셜이 낮아 반응로로 부터의 오염물질이 적고, 웨이퍼로 입사되는 이온에너지가 작아 접촉창과 비아구멍의 손상을 최소화 할수 있는 TCP(Transformer Coupled Plasma)를 플라즈마원으로 사용하는 플라즈마 세정 모듈과; 외선 램프와 반사효율 및 온도 균일도를 위한 반사경에 의해 웨이퍼홀더 어셈블리를 가열하여 간접가열방식에 의해 기판의 열처리가 가능하도록 기판가열모듈과; 반응로의 진공유지를 위한 반응로 일측의 진공배기구를 포함하는 진공모듈과; 웨이퍼 홀더 구동기구와 구동축 및 벨로오즈를 구성요소로 하는 웨이퍼 반송모듈로 구성됨을 특징으로 하는 것임.
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