公开(公告)号：WO2012091851A2

公开(公告)日：2012-07-05

申请号：PCT/US2011/063095

申请日：2011-12-02

Applicant: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. ,  BENVENISTE, Victor, M. ,  SINCLAIR, Frank ,  RADOVANOV, Svetlana ,  KOO, Bon, Woong

Inventor： BENVENISTE, Victor, M. ,  SINCLAIR, Frank ,  RADOVANOV, Svetlana ,  KOO, Bon, Woong

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/08 ,  H01J27/02

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/20 ,  H01J49/30 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/20221

Abstract: An implantation system includes an ion extraction plate having a set of apertures configured to extract ions from an ion source to form a plurality of beamlets. A magnetic analyzer is configured to provide a magnetic field to deflect ions in the beamlets in a first direction that is generally perpendicular to a principle axis of the beamlets. A mass analysis plate includes a set of apertures wherein first ion species having a first mass/charge ratio are transmitted through the mass analysis plate and second ion species having a second mass/charge ratio are blocked by the mass analysis plate. A workpiece holder is configured to move with, respect to the mass analysis plate in a second direction perpendicular to the first direction, wherein a pattern of ions transmitted through the mass analysis plate forms a continuous ion beam current along the first direction at the substrate.

Abstract translation: 植入系统包括具有一组孔口的离子提取板，其被配置为从离子源提取离子以形成多个子束。 磁分析器被配置为提供磁场，以在大体上垂直于子束的主轴的第一方向上偏转子束中的离子。 质量分析板包括一组孔，其中具有第一质量/荷率的第一离子种类通过质量分析板传输，具有第二质量/荷重比的第二离子种被质量分析板阻挡。 工件保持器构造成在垂直于第一方向的第二方向上相对于质量分析板移动，其中透过质量分析板的离子图案在衬底处沿着第一方向形成连续的离子束电流。

公开(公告)号：WO2010008469A3

公开(公告)日：2011-03-24

申请号：PCT/US2009003742

申请日：2009-06-23

Applicant: AXCELIS TECH INC ,  SATOH SHU ,  SIERADSKI MANNY ,  EISNER EDWARD

Inventor： SATOH SHU ,  SIERADSKI MANNY ,  EISNER EDWARD

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/02

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/304 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/24507 ,  H01J2237/24542 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/31703

Abstract: An ion beam uniformity control system, wherein the uniformity control system comprising a differential pumping chamber (422, 216) that encloses an array of individually controlled gas jets (402, 506), wherein the gas pressure of the individually controlled gas jets are powered by a controller to change the fraction of charge exchanged ions, and wherein the charge exchange reactions between the gas and ions change the fraction of the ions with original charge state of a broad ion beam (110), wherein the charge exchanged portion of the broad ion beam is removed utilizing an deflector (114) that generates a magnetic field, a Faraday cup profiler for measuring the broad ion beam profile; and adjusting the individually controlled gas jets based upon feedback provided to the controller to obtain the desired broad ion beam.

Abstract translation: 一种离子束均匀性控制系统，其中所述均匀性控制系统包括封闭独立控制的气体射流阵列（402,506）的差动泵送室（422,216），其中单独控制的气体射流的气体压力由 用于改变电荷交换离子的分数的控制器，并且其中气体和离子之间的电荷交换反应改变具有宽离子束（110）的原始电荷状态的离子的分数，其中宽离子的电荷交换部分 使用产生磁场的偏转器（114）去除光束，用于测量宽离子束分布的法拉第杯分析器; 以及基于提供给控制器的反馈来调节单独控制的气体射流，以获得所需的宽离子束。

公开(公告)号：WO2010067512A1

公开(公告)日：2010-06-17

申请号：PCT/JP2009/005999

申请日：2009-11-11

Applicant: 株式会社 日立ハイテクノロジーズ ,  寺田尚平 ,  谷口佳史 ,  平野辰己

Inventor： 寺田尚平 ,  谷口佳史 ,  平野辰己

IPC: H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J37/26

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/153 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/2446

Abstract: 　電子分光器および透過型電子顕微鏡を用いて、エネルギー損失量と位置情報の軸が直交する二軸で形成されスペクトル像において、エネルギー損失量と位置情報の軸が直交する二軸で形成される二次元の電子線位置像から算出される電子線位置を基準電子線位置と比較し、各電子線位置の相違点に基づき、歪み量を算出することにより、分析対象試料のスペクトル像の歪みを高効率かつ高精度に補正する。 　エネルギー損失量と位置情報が直交する二軸で形成されるスペクトル像について、スペクトル像の歪みを高効率かつ高精度に補正する方法および装置を提供するものである。

Abstract translation: 如下由电子光谱仪和透射电子显微镜处理由能量损失量的轴形成的光谱图像和轴正交的位置信息的轴。 从由上述两个轴形成的二维电子束位置图像计算电子束位置。 将电子束位置与参考电子束位置进行比较。 根据各个电子束位置之间的不同点来计算失真量。 因此，可以高效率和高精度地校正要分析的样品的光谱图像的失真。 提供了一种用于有效且准确地校正由能量损失量的轴和轴彼此正交相交的位置信息的轴形成的光谱图像的失真的方法和装置。

公开(公告)号：WO2010056823A2

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：PCT/US2009/064159

申请日：2009-11-12

Applicant: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES ,  BENVENISTE, Victor, M. ,  BUFF, James, S. ,  SINCLAIR, Frank ,  OLSON, Joseph, C.

Inventor： BENVENISTE, Victor, M. ,  BUFF, James, S. ,  SINCLAIR, Frank ,  OLSON, Joseph, C.

IPC: H01L21/265

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J49/30 ,  H01J2237/022 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/083 ,  H01J2237/31705

Abstract: A ribbon beam mass analyzer having a first and second solenoid coils and steel yoke arrangement. Each of the solenoid coils have a substantially "racetrack" configuration defining a space through which an ion ribbon beam travels. The solenoid coils are spaced apart along the direction of travel of the ribbon beam. Each of the solenoid coils generates a uniform magnetic field to accommodate mass resolution of wide ribbon beams to produce a desired image of ions generated from an ion source.

Abstract translation: 具有第一和第二螺线管线圈以及钢轭装置的带状梁质量分析仪。 每个电磁线圈具有基本上“跑道” 限定离子带束行进通过的空间的配置。 螺线管线圈沿带状束的行进方向间隔开。 每个螺线管线圈产生均匀的磁场以适应宽带状光束的质量分辨率，从而产生由离子源产生的离子的期望图像。

公开(公告)号：WO2010025211A3

公开(公告)日：2010-05-20

申请号：PCT/US2009055127

申请日：2009-08-27

Applicant: CARL ZEISS SMT INC ,  RAHMAN FHM-FARIDUR ,  FARKAS LOUIS S III ,  NOTTE JOHN A IV

Inventor： RAHMAN FHM-FARIDUR ,  FARKAS LOUIS S III ,  NOTTE JOHN A IV

IPC: G01N23/225 ,  H01J27/26 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/08 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/0807 ,  H01J2237/24514

Abstract: Ion microscope methods and systems are disclosed. In general, the systems and methods provide high ion beam stability. In a method an ion beam is formed using a gas field ion source having a tip operating at voltage that is at least 5% greater than a best imaging voltage for the gas. Other methods of forming an ion beam using a mixture of gases are also disclosed. I

Abstract translation: 公开了离子显微镜的方法和系统。 通常，这些系统和方法提供了高离子束稳定性。 在一种方法中，使用气体离子源形成离子束，所述气体场离子源的尖端的操作电压比气体的最佳成像电压大至少5％。 还公开了使用气体混合物形成离子束的其它方法。 一世

公开(公告)号：WO2010052289A1

公开(公告)日：2010-05-14

申请号：PCT/EP2009/064726

申请日：2009-11-06

Applicant: NanoMEGAS SPRL ,  INSTITUT POLYTECHNIQUE DE GRENOBLE ,  CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE ,  NICOLOPOULOS, Stavros ,  BULTREYS, Daniel ,  RAUCH, Edgard

Inventor： NICOLOPOULOS, Stavros ,  BULTREYS, Daniel ,  RAUCH, Edgard

IPC: H01J37/20 ,  G01N23/20

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01N23/20058 ,  H01J37/05 ,  H01J37/222 ,  H01J37/256 ,  H01J37/2955 ,  H01J2237/226 ,  H01J2237/25 ,  H01J2237/2802

Abstract: A method and device for electron diffraction tomography of a crystal sample, which employs scanning of the electron beam over a plurality of discrete locations of the sample, in combination with a beam scanning protocol as the beam converges at every discrete location (42, 43) of the sample (38) to obtain a series of electron diffraction patterns, use of template matching to determine crystal orientations and thickness maps to obtain a common intensity scaling factor.

Abstract translation: 一种晶体样品的电子衍射断层摄影的方法和装置，当束在每个离散位置（42,43）处会聚时，其结合光束扫描方案，在样本的多个离散位置上扫描电子束， 的样品（38）以获得一系列电子衍射图案，使用模板匹配来确定晶体取向和厚度图以获得共同的强度比例因子。

公开(公告)号：WO2008099501A1

公开(公告)日：2008-08-21

申请号：PCT/JP2007/052850

申请日：2007-02-16

Applicant: 富士通株式会社 ,  添田 武志

Inventor： 添田 武志

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/21 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/26 ,  H01J37/05 ,  H01J37/265 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/2802 ,  H01J2237/2811

Abstract: 　本発明は、３次元構造を持つ測定対象物を全体的且つ高精度に測定しうる電子顕微鏡及びそれを用いた観察方法に関する。電子線を生成する電子銃（１２）と、電子銃（１２）により生成された電子線を加速して試料（４２）に入射する加速器（１４）と、試料（４２）との相互作用によりエネルギーを損失して試料（４２）を透過した電子線のうち、特定のエネルギーの電子線を選別する分光器（２４，３０）と、分光器（２４，３０）により選別された特定のエネルギーの電子線を検出し、電子線の損失エネルギー量に対応する試料（４２）の深さにおける電子線の透過信号又は回折信号を取得する検出器（３２）とを有する。

Abstract translation: 本发明提供一种能够以高精度测量具有三维结构的测量对象的电子显微镜以及使用该电子显微镜的观察方法。 电子显微镜包括用于产生电子束的电子枪（12），用于加速和引入由电子枪（12）产生的电子束的加速器（14）到样品（42）中，分光器（24,30） 用于从通过试样（42）的电子束通过与样品（42）的相互作用而失去能量的电子束，选择比能量的电子束;以及检测器（32），用于检测 通过分光器（24,30）选择的比能量的电子束，从而获得对应于电子的损失能量的样本（42）的这样深度的电子束的透射信号或衍射信号 梁。

公开(公告)号：WO2008079921A1

公开(公告)日：2008-07-03

申请号：PCT/US2007/088274

申请日：2007-12-20

Applicant: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. ,  BENVENISTE, Victor, M. ,  CAMPBELL, Christopher, W. ,  SINCLAIR, Frank

Inventor： BENVENISTE, Victor, M. ,  CAMPBELL, Christopher, W. ,  SINCLAIR, Frank

IPC: H01J37/317 ,  H01J37/147

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J2237/0475 ,  H01J2237/04922

Abstract: This disclosure describes an ion implanter having a collimator magnet that is configured to shape an ion beam. A first deceleration stage is configured to manipulate energy of the ion beam shaped by the collimator magnet. A neutral filter magnet is configured to filter neutral atoms from the ion beam passing through the first deceleration stage.

Abstract translation: 本公开描述了具有准直器磁体的离子注入机，其被配置成使离子束成形。 第一减速阶段被配置为操纵由准直器磁体成形的离子束的能量。 中性滤波器磁体被配置为从穿过第一减速阶段的离子束中滤出中性原子。

公开(公告)号：WO2007146394A2

公开(公告)日：2007-12-21

申请号：PCT/US2007013984

申请日：2007-06-13

Applicant: SEMEQUIP INC ,  GLAVISH HILTON F ,  JACOBSON DALE CONRAD ,  HORSKY THOMAS N ,  HAHTO SAMI K

Inventor： GLAVISH HILTON F ,  JACOBSON DALE CONRAD ,  HORSKY THOMAS N ,  HAHTO SAMI K

IPC: H01J33/02

CPC classification number: H01J37/3171 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J2237/0044 ,  H01J2237/0455 ,  H01J2237/047 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/14 ,  H01J2237/30477 ,  H01J2237/31703 ,  H01L21/26513

Abstract: A multipurpose ion implanter beam line configuration constructed for enabling implantation of common monatomic dopant ion species and cluster ions, the beam line configuration having a mass analyzer magnet defining a pole gap of substantial width between ferromagnetic poles of the magnet and a mass selection aperture, the analyzer magnet sized to accept an ion beam from a slot-form ion source extraction aperture of at least about 80 mm height and at least about 7 mm width, and to produce dispersion at the mass selection aperture in a plane corresponding to the width of the beam, the mass selection aperture capable of being set to a mass- selection width sized to select a beam of the cluster ions of the same dopant species but incrementally differing molecular weights, the mass selection aperture also capable of being set to a substantially narrower mass-selection width and the analyzer magnet having a resolution at the mass selection aperture sufficient to enable selection of a beam of monatomic dopant ions of substantially a single atomic or molecular weight.

Abstract translation: 多用途离子植入物束线配置被构造用于使得能够注入常见的单原子掺杂剂离子种类和簇离子，束线配置具有质量分析器磁体，该质量分析器磁体在磁体的铁磁极和质量选择孔之间限定相当宽度的极间距， 分析器磁体的尺寸设计成接受来自至少约80mm高度和至少约7mm宽度的槽形离子源提取孔的离子束，并且在与质量选择孔的宽度相对应的平面中产生在质量选择孔处的色散 光束，质量选择孔能够被设置为质量选择宽度，其大小用于选择相同掺杂物种类的簇离子的束，但是递增地不同的分子量，质量选择孔也能够被设定为基本上更窄的质量 选择宽度和质量选择孔径处的分辨率足以能够选择光束的分析器磁体 单原子或分子量的单原子掺杂离子。

公开(公告)号：WO2007095189A2

公开(公告)日：2007-08-23

申请号：PCT/US2007/003700

申请日：2007-02-13

Applicant: VARIAN SEMICONDUCTOR EQUIPMENT ASSOCIATES, INC. ,  KELLERMAN, Peter, L. ,  PURSER, Kenneth, H.

Inventor： KELLERMAN, Peter, L. ,  PURSER, Kenneth, H.

CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/141 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/0042 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/141 ,  H01J2237/142 ,  H01J2237/1508 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/31701 ,  H01J2237/31705

Abstract: An electromagnet and related ion implanter system including active field containment are disclosed. The electromagnet provides a dipole magnetic field within a tall, large gap with minimum distortion and degradation of strength. In one embodiment, an electromagnet for modifying an ion beam includes: a ferromagnetic box structure including six sides; an opening in each of a first side and a second opposing side of the ferromagnetic box structure for passage of the ion beam therethrough; and a plurality of current-carrying wires having a path along an inner surface of the ferromagnetic box structure, the inner surface including the first side and the second opposing side and third side and a fourth opposing side, wherein the plurality of current-carrying wires are positioned to pass around each of the openings of the first and second opposing sides.

Abstract translation: 公开了一种包括活性场容纳的电磁体和相关离子注入机系统。 电磁铁在高大的间隙内提供偶极磁场，具有最小的变形和强度的降低。 在一个实施例中，用于修改离子束的电磁体包括：包括六个边的铁磁箱结构; 所述铁磁盒结构的第一侧和第二相对侧中的每一个中的开口用于使所述离子束通过其中; 以及多个载流电线，其具有沿铁磁箱结构的内表面的路径，内表面包括第一侧和第二相对侧以及第三侧和第四相对侧，其中多个载流线 定位成绕过第一和第二相对侧的每个开口。