액 처리 장치, 액 처리 방법 및 기억 매체

    公开(公告)号:KR101883015B1

    公开(公告)日:2018-07-27

    申请号:KR1020130021175

    申请日:2013-02-27

    CPC classification number: B08B3/04 H01L21/67051 H01L21/6708 H01L21/6715

    Abstract: 본발명은, 산성약액, 알칼리성약액을전환하여공급하는장치에있어서발생하는파티클을저감할수 있는액 처리장치등을제공하는것을목적으로한다. 액처리장치는, 회전하는기판(W)의표면에처리액을전환하여공급함으로써액 처리를행하고, 제1 노즐블록(42)과제1 이동기구를구비하는제1 처리액공급부는, 산성약액, 린스액을전환하여공급하고, 제2 노즐블록(52)과제2 이동기구를구비하는제2 처리액공급부는, 알칼리성약액, 린스액을전환하여공급한다. 그리고, 한쪽측의노즐블록(42)으로부터기판(W)으로약액을공급할때에는다른쪽 측의노즐블록(52)을후퇴위치로후퇴시키고, 한쪽측의노즐블록(42)으로부터기판(W)으로린스액을공급하고있을때에다른쪽 측의노즐블록(52)을처리위치로이동시킨다. 또한, 다른쪽 측의노즐블록(52)으로부터약액을공급할때에는한쪽측의노즐블록(42)을후퇴위치로후퇴시켜둔다.

    기판 처리 방법 및 기판 처리 장치

    公开(公告)号:KR101864001B1

    公开(公告)日:2018-06-01

    申请号:KR1020160016384

    申请日:2016-02-12

    CPC classification number: H01L21/67028 H01L21/67051

    Abstract: 본발명은휘발성을갖는건조액을이용하여기판을건조시킬때에, 기판표면에워터마크가발생하여미세한파티클이부착되는것을방지하는것을목적으로한다. 본발명에서는, 기판을처리액으로액처리한후에휘발성처리액으로건조처리하는기판처리방법및 기판처리장치에있어서, 상기기판에처리액을공급하여처리하는공정과, 상기처리액의액막이형성된상기기판을가열하는공정과, 상기처리액의액막이형성된기판에휘발성처리액을공급하는공정과, 상기기판에의상기휘발성처리액의공급을정지하는공정과, 상기휘발성처리액을제거하여기판을건조하는공정을가지며, 상기기판을가열하는공정은상기휘발성처리액을공급하는공정보다이전에시작되고, 상기기판의표면이상기휘발성처리액에노출되는것보다이전에, 상기기판의표면온도가노점온도보다높아지도록상기기판이가열되는것으로하였다.

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