公开(公告)号：KR101032225B1

公开(公告)日：2011-05-02

申请号：KR1020060081611

申请日：2006-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  쿄우다히데하루 ,  카와사키테츠 ,  시무라사토루

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판세정장치 및 기판세정방법에 관한 것으로서 세정액노즐로부터의 세정액의 공급 위치를 기판의 중앙부로부터 주변으로 향해 이동시킴과 동시에 공급 위치에서 기판의 회전 방향에 있어서의 하류측 영역에 대해서 기판의 외측으로 향해 가스를 불어낸다. 이것에 의해 세정액이 기판의 표면을 조금 흘러 액막을이룬 상태로 기류에 의한 외측으로 향한 힘이 작용하므로 주방향으로 흐르는 액흐름이 외측으로 이동한다. 또 세정액노즐로부터 토출된 세정액을 토출구와 같은 높이나 그것보다 낮은 위치에 형성된 액누름면부에 의해 구속함으로써 액의 응집이 생기므로 저회전에서도 원심력이 커져 그 액의 응집이 밖으로 향하는 작용이 커진다. 기판의 표면을 스핀 세정하는 것에 있어 기판상에 잔존하는 물방울을 저감하고 예를 들면 노광 후의 가열 처리시에 있어서의 물방울 혹은 워터마크에 의한 가열 얼룩을 억제하는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101006635B1

公开(公告)日：2011-01-07

申请号：KR1020067013456

申请日：2004-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  히라카와오사무

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67271 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/70341 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/67253

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치 및 도포· 현상방법에 관한 것으로서 기판의 표면에 레지스트가 도포되고 또 액침노광된 후의 기판을 기판 재치부에 재치하고 상기 기판의 표면에 부착한 적어도 상기 액층을 형성한 액을 액검지부에 의해 검지한다. 그리고 액검지부의 검지 결과에 근거해 기판을 건조할지 안할지를 판정해 건조하는 것으로 판정 한 기판을 건조 수단에 의해 건조하는 구성으로 한다. 이것에 의해 장치내가 침수하는 것을 방지할 수가 있고 또 건조가 필요한 기판에 대해서만 건조 처리를 실시하므로 높은 수율를 유지할 수가 있어 레지스트를 도포해 액침노광한 후의 기판을 현상하는 것에 즈음해 장치내의 침수를 방지 함과 동시에 높은 수율를 유지하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 当涂层和显影系统在基底上形成抗蚀剂膜时，涂层和显影系统防止用水润湿其组分单元，并通过显影过程处理通过浸渍曝光处理的基底。 具有涂覆有抗蚀剂膜并通过浸渍曝光处理的表面的基板被放置在基板支撑装置上，并且液体检测器至少检测形成用于浸没曝光的液体膜并保留在基板的表面上的液体。 基于由液体检测器进行的检测结果确定基板是否需要干燥。 如果确定衬底需要干燥，则通过干燥装置干燥衬底。 因此可以防止涂层和显影系统内部的水分润湿。 由于仅需要干燥的基材经受干燥处理，所以涂层和显影系统能够以高产量进行操作。

公开(公告)号：KR1020090105815A

公开(公告)日：2009-10-07

申请号：KR1020090021686

申请日：2009-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라코우스케 ,  요시다유우이치 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: G03F7/168 ,  B08B3/024 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67051

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning method and a substrate cleaning apparatus are provided to obtain high cleaning effect in a water-repellent material above a static contact angle of the 85 degrees on the surface. CONSTITUTION: A substrate cleaning device includes a substrate holding unit, a rotation unit, a cleaning liquid nozzle(4), a gas nozzle(5), a nozzle driving unit, and a controller(7). The substrate holding unit horizontally maintains the substrate so that the center of the substrate coincides with the rotation center. The rotation unit rotates the substrate holding unit around a vertical axis. The cleaning liquid nozzle discharges the cleaning liquid to the surface of the substrate. The gas nozzle discharges the gas to the surface of the substrate. The nozzle driving unit moves the cleaning liquid nozzle and the gas nozzle. The controller outputs the control signal.

Abstract translation: 目的：提供基板清洗方法和基板清洗装置，以在表面上85度的静态接触角以上的防水材料中获得高清洁效果。 构成：基板清洗装置包括基板保持单元，旋转单元，清洗液喷嘴（4），气体喷嘴（5），喷嘴驱动单元和控制器（7）。 基板保持单元水平地保持基板，使得基板的中心与旋转中心重合。 旋转单元使基板保持单元绕垂直轴旋转。 清洗液喷嘴将清洗液体排出到基板的表面。 气体喷嘴将气体排放到基板的表面。 喷嘴驱动单元移动清洁液喷嘴和气体喷嘴。 控制器输出控制信号。

公开(公告)号：KR101685961B1

公开(公告)日：2016-12-28

申请号：KR1020110007700

申请日：2011-01-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 타키구치야스시 ,  야마모토타로 ,  아리마히로시 ,  요시하라코우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03B27/52 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742 ,  H01L21/68785

Abstract: 기판표면전체에균일성높게현상액의액막을형성하고또한높은스루풋을얻을수 있는도포현상장치를제공한다. 현상모듈과, 세정모듈과, 상기현상모듈에의해현상된기판을상기세정모듈로반송하는반송기구를구비하고, 상기현상모듈은, 처리분위기를형성하는기밀한처리용기와, 이처리용기내에설치되며기판을재치하여냉각시키기위한온조플레이트와, 상기처리용기내로현상액의미스트를포함하는분위기가스를공급하는증기공급부와, 상기온조플레이트를상기증기가기판상에결로되는온도로조정하기위한온조부를구비하도록도포현상장치를구성한다. 현상모듈과세정모듈에서병행하여처리를행할수 있으므로, 높은스루풋을얻을수 있다.

Abstract translation: 涂层和显影设备开发其表面被抗蚀剂涂覆并暴露于光的基底。 涂料和显影装置包括显影模块; 清洁模块; 以及传送机构，其构造成将由显影模块显影的基板传送到清洁模块。 显影模块包括构造成形成处理气氛的气密密封处理容器; 设置在处理容器中并安装在其上的温度控制板并冷却基板; 以及气氛气体供给单元，被构造成将处理容器内的显影液的气雾气体气体供给至基板的表面。 清洁模块包括：安装台，其安装在其上; 以及清洗液供给单元，其构造成将清洗液供给到安装在所述安装台上的基板。

公开(公告)号：KR101512642B1

公开(公告)日：2015-04-16

申请号：KR1020100016753

申请日：2010-02-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  요시하라코우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 액침 보호막 또는 발수성 레지스트를 포함하여 광범위한 종류의 막이 성막된 기판을 노광하여 현상하는 경우에도, 기판 표면 내에서의 CD치의 균일성을 향상시킬 수 있고, 처리 시간을 단축시킬 수 있는 현상 처리 방법을 제공한다. 표면에 레지스트가 도포되어 노광된 후의 기판을 회전시키면서 현상 처리하는 현상 처리 방법에서, 기판(W)의 상방에 배치된 현상액 노즐(4b)을 기판(W)의 중심측으로부터 외주측으로 이동시켜, 현상액 노즐(4b)로부터 기판(W)의 표면으로 현상액(D)을 공급하는 현상액 공급 단계와, 기판(W)의 상방에 배치된 제 1 린스액 노즐(4c)을 기판(W)의 중심측으로부터 외주측으로 이동시켜, 제 1의 린스액 노즐(4c)로부터 기판(W)의 표면으로 제 1 린스액(R)을 공급하는 제 1 린스액 공급 단계를 가지고, 제 1 린스액 노즐(4c)이 현상액 노즐(4b)보다 기판(W)의 중심측에 배치된 상태를 유지한 채로 제 1 린스액 공급 단계를 현상액 공급 단계와 동시에 행하는 것을 특징으로 한다.

Abstract translation: 曝光和适用范围广的膜形成基板，其包括液浸保护膜或防水性的抗蚀剂膜显影情况下，也能够提高在基板表面内的CD的值的均匀性，提供一种能够缩短加工时间显影处理方法 的。 设置在基板W上方的显影液喷嘴4b从基板W的中心侧向外侧移动而形成显影液 从第一衬底到布置从喷嘴供给的显影剂（d）到基板（W）的表面的显影液供给步骤上方的漂洗液喷嘴（4C）（W）的中心侧（4B）和衬底（W） 并且，第一冲洗液供给工序，在第一冲洗液喷嘴4c向外周侧移动的期间，从第一冲洗液喷嘴4c向基板W的表面供给第一冲洗液R， 与显影剂供应步骤同时执行第一冲洗溶液供应步骤，同时维持比显影剂喷嘴4b更靠近基板W的中心的状态。

公开(公告)号：KR101451442B1

公开(公告)日：2014-10-15

申请号：KR1020090008423

申请日：2009-02-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  요시타카나오토 ,  니시키도슈이치 ,  도쿠나가요이치

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B05D3/105 ,  B05D3/065 ,  B05D5/06 ,  G03F7/168 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67051

Abstract: 본 발명은 기판의 표면 및 베벨(bevel)부 및 이면의 세정을 행할 수 있는 세정 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
세정 장치(100)는, 이면을 하방으로 향하게 한 상태의 기판을 이면으로부터 지지하여 유지하는 2개의 기판 유지 수단[흡착 패드(2), 스핀척(3)]을 구비하고, 지지하는 영역이 겹치지 않도록 하면서 이들 기판 유지 수단 사이에서 기판을 전달한다. 세정 부재[브러시(5)]는 기판 유지 수단에 의해 지지되어 있는 영역 이외의 기판의 이면을 세정하고, 2개의 기판 유지 수단 사이에서 기판이 전달되는 것을 이용하여 기판의 이면 전체를 세정한다. 또한 기판이 스핀척(3)에 의해 유지되어, 회전될 때에, 기판의 이면의 세정과 아울러, 기판 표면 및 베벨부에 각각 세정액을 공급하여, 상기 표면과 베벨부의 세정을 행한다.

公开(公告)号：KR101160704B1

公开(公告)日：2012-06-28

申请号：KR1020067012793

申请日：2004-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오코우치아츠시 ,  야마모토타로 ,  타케구찌히로후미 ,  쿄다히데하루 ,  요시하라쿄스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 현상장치 및 현상방법에 관한 것으로서 노광 끝난 기판을 스핀 척 에 유지해 수직축 주위에 회전시켜 긴 방향이 웨이퍼의 반경 방향과 직교하는 방향을 향한 슬릿 형상의 토출구를 가지는 현상액 노즐로부터 현상액을 토출시키면서 현상액 노즐을 웨이퍼의 외주변에서 중앙부로 향해 이동시키는 것으로 웨이퍼 표면에 현상액의 공급을 실시하여 소지름의 원형의 토출구를 가지는 노즐을 이용했을 경우에 비해 노즐의 이동 속도를 크게 할 수가 있어 현상 시간의 단축을 도모할 수 있고 또 기판상의 현상액막의 두께를 감소시킬 수가 있기 때문에 현상액을 절약할 수 있는 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR101040479B1

公开(公告)日：2011-06-09

申请号：KR1020100124048

申请日：2010-12-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이시다세이키 ,  나카하라다마사히로 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67184 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 도포, 현상장치 및 도포, 현상방법에 관한 것으로서 레지스트를 도포하는 도포 유니트 및 현상액을 공급해 현상하는 현상 유니트를 구비한 처리 블럭과 액침노광을 실시하는 노광 장치에 접속되는 인터페이스부를 구비한 도포 현상 장치에 있어서 상기 인터페이스부에 기판 세정 유니트와 제 1 반송 기구와 제 2 반송 기구를 구비한 구성의 도포, 현상 장치로 한다. 노광 후의 기판을 제 1 반송 기구에 의해 기판 세정 유니트에 반송하여 상기 세정 유니트에 의해 세정된 기판은 제 2 반송 기구를 개재하여 반송되기 때문에 새로운 파티클의 부착이 억제되는 것으로 처리 블럭의 각 처리 유니트 및 상기 각 처리 유니트로 처리되는 기판에 파티클 오염이 퍼지는 것을 막을 수가 있는 레지스트를 기판에 도포해 액침노광 후의 기판을 현상하기에 있어서 파티클 오염을 억제할 수 있는 도포, 현상 장치를 제공하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及涂布单元，显影单元，涂布单元和显影单元，涂布单元包括用于涂布抗蚀剂的涂布单元和用于供给和显影显影溶液的显影单元，以及界面单元 在显影设备中，在界面部分中设置具有基板清洁单元，第一输送机构和第二输送机构的涂布和显影设备。 由于曝光后的基板通过第一输送机构输送到基板清洁单元，并且由清洁单元清洁的基板经由第二输送机构输送，所以抑制了新粒子的附着， 提供了一种技术，提供一种能够抑制根据颗粒污染的涂敷，显影装置，施加抗蚀剂，可以防止衬底被处理，其中，从扩散到基板的各处理单元的粒子污染液浸曝光之后发展了衬底 。

公开(公告)号：KR1020070007262A

公开(公告)日：2007-01-15

申请号：KR1020067012793

申请日：2004-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오코우치아츠시 ,  야마모토타로 ,  타케구찌히로후미 ,  쿄다히데하루 ,  요시하라쿄스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/6719 ,  Y10S134/902 ,  H01L21/02057

Abstract: A development liquid nozzle is moved from an outer edge of a wafer toward the central portion while an exposed substrate held at a spin chuck is being rotated about a vertical axis and while a development liquid is being discharged from the development liquid nozzle, and this way the development liquid is supplied to the surface of the wafer, the development nozzle having a slit-like discharge opening whose longitudinal direction is oriented to the direction perpendicular to the radial direction of the wafer. The movement speed of the nozzle is higher than a case where a nozzle with a small-diameter circular nozzle is used, and this enables a development time to be reduced. Further, the thickness of a development liquid on a substrate can be reduced, so that the development liquid can be saved. ® KIPO & WIPO 2007

Abstract translation: 显影液喷嘴从晶片的外边缘向中心部分移动，同时保持在旋转卡盘处的暴露的基板绕垂直轴线旋转并且显影液体从显影液喷嘴排出，并且以这种方式 显影液被供给到晶片的表面，显影喷嘴具有狭缝状排出口，其纵向方向取向于与晶片的径向垂直的方向。 喷嘴的移动速度高于使用具有小直径圆形喷嘴的喷嘴的情况，这使得能够减少显影时间。 此外，可以减少基板上的显影液的厚度，从而可以节省显影液。 ®KIPO＆WIPO 2007

公开(公告)号：KR1020060089150A

公开(公告)日：2006-08-08

申请号：KR1020060010035

申请日：2006-02-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠다마사히로 ,  야마모토타로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/68742

Abstract: 본 발명은 세정장치; 도포· 현상장치에 대한 것으로서 밀폐용기(41)의 내부에 있어서 웨이퍼(W)가 버큠 척(42)에 의해 밀폐용기(41)내면과 웨이퍼(W) 사이에 작은 간격이 형성된 상태에서 수평으로 보지된다. 유체공급로(5) 단부의 유체공급구멍(40)으로부터 웨이퍼(W) 표면의 중심부를 향하여 세정액을 공급함과 동시에 웨이퍼(W)의 중심선을 중심으로 하는 원주를 따라서 밀폐용기(41)의 저부에 설치된 홈 형태의 유체배출부(44)로부터 세정액을 배출한다. 세정액은 웨이퍼(W) 표면과 밀폐 용기(41)사이의 간격을 채운 상태로 웨이퍼(W)의 중심부로부터 주변부로 향해 퍼지면서 흘러 웨이퍼에 부착한 파티클을 제거해 유체 배출부(44)로부터 배출된다. 웨이퍼(W)를 회전시키는 경우 없이 파티클을 확실하고 또한 균일하게 제거할 수가 있다. 세정 장치(4) 전체 사이즈도 작다.