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公开(公告)号：KR1020120028798A
公开(公告)日：2012-03-23
申请号：KR1020110074338
申请日：2011-07-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , H01L21/68
CPC classification number: G03F7/3021 , G03F7/162 , H01L21/67178 , H01L21/67742 , H01L21/67745 , H01L21/0274 , H01L21/682
Abstract: PURPOSE: A coating/developing apparatus, a method thereof, and a storage medium are provided to process a substrate in the other side unit block when one side unit block is not available, thereby preventing degradation of a processing amount. CONSTITUTION: A carrier block(S1), a processing block, and an interface block(S5) are connected into a straight line shape. An exposure apparatus(S6) for performing a dipping exposure process is connected to the interface block. A loading table(11) loads a carrier(C). A transfer arm(13) extracts a wafer from the carrier through an opening/closing part(12). The transfer arm comprises five wafer maintenance support parts(14) in up and down directions.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布/显影装置，其方法和存储介质，以在一侧单元块不可用时处理另一侧单元块中的基板，从而防止处理量的劣化。 构成：承载块（S1），处理块和接口块（S5）被连接成直线形状。 用于进行浸渍曝光处理的曝光装置（S6）连接到界面块。 装载台（11）装载载体（C）。 传送臂（13）通过打开/关闭部分（12）从载体提取晶片。 传送臂在上下方向上包括五个晶片维护支撑部件（14）。
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公开(公告)号：KR1020120023534A
公开(公告)日：2012-03-13
申请号：KR1020110074464
申请日：2011-07-27
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/6715 , G03F7/162 , G03F7/3021 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67745 , H01L21/0274
Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus, a coating-developing method thereof, and a storage medium are provided to prevent degradation of a processing quantity by performing a process with the other side module when one side module is not available by a unit block of a liquid processing system. CONSTITUTION: A processing block(S20) is comprised of a front side heating system block(S2), a liquid processing block(S3), and a rear side heating block(S4). The front side heating system block is arranged toward a washing block(S5) side from a carrier block side. The liquid processing block comprises first to fifth liquid processing unit blocks(B1-B5) for performing a liquid process on a wafer. Each liquid processing unit block is partitioned by a partition wall. The rear side heating block comprises first to third heating processing unit blocks(C1,C2,C3). The wafer is returned to an interface block after exposure treatment.
Abstract translation: 目的：提供一种涂布显影装置，其涂布显影方法和存储介质，以通过在单面模块不可用单面模块获得时通过与另一侧模块进行处理来防止处理量的劣化 液体处理系统。 构成：处理块（S20）包括前侧加热系统块（S2），液体处理块（S3）和后侧加热块（S4）。 前侧加热系统块朝向从承载块侧的洗涤块（S5）侧配置。 液体处理块包括用于在晶片上进行液体处理的第一至第五液体处理单元块（B1-B5）。 每个液体处理单元块由分隔壁分隔。 后侧加热块包括第一至第三加热处理单元块（C1，C2，C3）。 曝光处理后晶片返回界面块。
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公开(公告)号：KR1020120005946A
公开(公告)日：2012-01-17
申请号：KR1020110061419
申请日：2011-06-24
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/708 , H01L21/6715 , H01L21/0274 , G03F7/002 , G03F7/16
Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus are provided to laminate unit blocks for a developing treatment process multiplexed in up and down directions in the unit block, thereby suppressing the installation area of a processing block while setting the appropriate depth size of the processing block. CONSTITUTION: A loading table(11) loading a carrier(C), an opening and closing part(12), and a transfer arm for picking up a wafer are installed in a carrier block(S1). The transfer arm comprises five wafer retention support parts in up and down directions. A processing block (S2) is connected to the carrier block. The processing block comprises unit blocks(B1-B6) for processing a liquid treatment process on the wafer. The unit block comprises a heating module, a main arm, and a return area. A liquid treatment unit comprises an antireflection film formation module(BCT1,2) and a resist film formation module(COT1,2).
Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于层压单元块中用于在上下方向上复用的显影处理工艺的单元块，从而在设置处理块的适当深度尺寸的同时抑制处理块的安装面积。 构成：装载载体（C）的装载台（11），开闭部分（12）和用于拾取晶片的传送臂安装在载体块（S1）中。 传送臂在上下方向上包括五个晶片保持支撑部件。 处理块（S2）连接到载体块。 处理块包括用于处理晶片上的液体处理过程的单元块（B1-B6）。 单元块包括加热模块，主臂和返回区域。 液体处理单元包括抗反射膜形成模块（BCT1,2）和抗蚀剂膜形成模块（COT1,2）。
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公开(公告)号：KR1020080096431A
公开(公告)日：2008-10-30
申请号：KR1020080038514
申请日：2008-04-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027 , G02F1/1335
CPC classification number: H01L21/67178 , H01L21/67028 , H01L21/6715 , H01L21/67173 , H01L21/67709 , H01L21/6776 , G03F7/16 , G03F7/30
Abstract: A coating-developing apparatus, a method and storage medium are provided to improve coating, and developer, throughput. A developer comprises the developing nozzle(151) for successively supplying developer to the wafer(W) between the upstream terminal of the conveying section(110) for import installed at the upstream terminal of the conveyance guide member(130), and conveyance guide, and conveying section(111) for export installed at the down stream end of the conveyance guide, and the cleaning nozzle(152) for supplying the washing solution to the wafer and the gas nozzle(154) for supplying the gas to the wafer .
Abstract translation: 提供涂料显影设备，方法和存储介质以改善涂料和显影剂的生产量。 显影剂包括用于将显影剂连续地供应到安装在输送引导构件（130）的上游端子处的输送部分（110）的上游端子与输送引导件之间的晶片（W）的显影喷嘴（151） 以及安装在输送引导件的下游端的用于出口的输送部分（111），以及用于将洗涤溶液供应到晶片的清洁喷嘴（152）和用于将气体供应到晶片的气体喷嘴（154）。
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公开(公告)号：KR101807321B1
公开(公告)日：2017-12-08
申请号：KR1020120016421
申请日：2012-02-17
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
Abstract: 본발명은소수화처리모듈또는도포막형성용의단위블록에이상이발생하거나, 메인터넌스를행할때에도포, 현상장치의가동효율의저하를억제할수 있고, 기판의반송수단의동작의복잡화를방지하는기술을제공하는것이다. 서로동일한도포막이형성되는 N중화된도포용의단위블록과, 상기캐리어블록과처리블록사이의승강반송블록에있어서, 상기도포막을형성하기전의기판에대해소수화처리하기위한 N그룹의소수화모듈과, 상기 N그룹의소수화모듈로부터각각대응하는도포용의단위블록에기판을전달하도록제어되는전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.
Abstract translation: 本发明是用于产生异常单元块，用于疏水化处理模块或也形成覆盖膜的技术，或甚至进行维修和被包括以抑制的显影装置的运行效率的劣化，防止在基板的输送装置的操作的复杂性 提供。 用于在载体块和处理块之间的上升和下降传输块中形成涂布膜之前使基底疏水化的N-分组疏水模块， 控制转移机构将衬底从N组的疏水模块转移到对应的压印单元的相应单元块。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101751551B1
公开(公告)日：2017-06-27
申请号：KR1020120123696
申请日：2012-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875
Abstract: 노광전에기판의이면세정을행하는기능을구비한기판처리시스템에있어서, 기판반송의부하를저감시키고처리유닛의구성을변경하는일 없이풋 프린트를작게한다. 도포현상처리시스템의인터페이스스테이션(5)은웨이퍼를노광장치에반입하기전에적어도웨이퍼의이면을세정하는웨이퍼세정부(141)와, 세정후의웨이퍼의이면에대해서, 당해웨이퍼의노광이가능한지여부를노광장치에반입전에검사하는웨이퍼검사부(142)와, 웨이퍼세정부(141)와웨이퍼검사부(142) 사이에서웨이퍼(W)를반송하는반송수단(143)을갖고있다. 웨이퍼세정부(141), 웨이퍼검사부(142) 및반송수단(143)은, 하우징(140)의내부에설치되어있고세정유닛(100)과검사유닛(101)은인터페이스스테이션(5)의정면측에, 상하방향으로다단으로설치되고, 웨이퍼반송기구(120)는세정유닛(100) 및검사유닛(101)에인접한영역에형성되어있다.
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公开(公告)号：KR101667823B1
公开(公告)日：2016-10-19
申请号：KR1020110070176
申请日：2011-07-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/67178 , G03F7/16 , G03F7/162 , G03F7/30 , G03F7/3021 , H01L21/67184 , H01L21/67225 , H01L21/6723
Abstract: 본발명의과제는단위블록에이상이발생하거나, 메인터넌스를행할때에, 도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에처리블록의설치면적을억제하는것이다. 적층된전단처리용단위블록과, 각각대응하는적층된후단처리용단위블록사이에설치되어, 양단위블록의반송기구사이에서기판의전달을행하기위한도포처리용전달부와, 각단의도포처리용전달부사이에서기판의반송을행하기위해승강가능하게설치된보조이동탑재기구와, 상기전단처리용단위블록, 후단처리용단위블록각각에적층된현상처리용단위블록을구비하는도포, 현상장치를구성한다. 각층 사이에서기판을전달시키므로, 사용불가로된 단위블록을피해기판을반송할수 있다. 또한, 현상용단위블록이, 전단처리용및 후단처리용단위블록에적층되어있으므로, 설치면적이억제된다.
Abstract translation: 本发明的一个目的是产生异常单元块，或进行维护时，抑制涂层，吞吐量的显影装置的劣化的同时，抑制该处理块的设置面积。 用于在用于前端处理的堆叠单元块之间转移基板的转移部分和用于在两个单元块的转移机构之间堆叠用于转移基板的后端处理的相应单元块， 以及显影单元单元，其包括显影单元块，所述显影单元块堆叠在前端处理单元块和后端处理单元块中的每一个上，以便能够上下移动以从传送单元 构建。 由于衬底在各个层之间转移，所以衬底可以由不可用的单元块承载。 此外，由于显影单元块层叠在用于前端处理和后端处理的单元块上，所以安装区域被抑制。
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公开(公告)号：KR101595593B1
公开(公告)日：2016-02-18
申请号：KR1020110043716
申请日：2011-05-11
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/16 , H01L21/6715
Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 검사모듈에의한검사에서기판에이상이검출되었을때에, 기억부에기억된데이터에기초하여, 후속의기판의반송모드를, 모드 M1 및 M2로부터선택하기위한모드선택부를구비하도록도포, 현상장치를구성한다. 상기모드 M1은현상처리용단위블록에있어서의기판이처리된모듈을특정하여, 후속의기판을, 특정된모듈이외의모듈로반송하도록단위블록용반송기구의동작을제어하는모드이고, 상기모드 M2는기판이처리된현상처리용단위블록을특정하여, 후속의기판을, 특정된현상처리용단위블록이외의현상처리용단위블록으로반송하도록전달기구의동작을제어하는모드이다.
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公开(公告)号：KR101339608B1
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR1020080028876
申请日：2008-03-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/68 , H01L21/677
CPC classification number: H01L21/67745 , H01L21/67178
Abstract: 본 발명의 과제는 도포, 현상 장치에 있어서, 요구되는 스루풋에 따라서 장치의 설계나 제조를 용이하게 행할 수 있는 기술을 제공하는 것이다.
캐리어 블럭(S1)과 인터페이스 블럭(S6) 사이에, 도포막 형성용 단위 블럭과 현상 처리용 단위 블럭을 포함하는 복수의 단위 블럭을 적층하여 구성된 동일한 구성의 처리 블럭(S2 내지 S4)을 서로 전후로 접속하여 설치한다. 이와 같이 동일한 구성의 처리 블럭(S2 내지 S4)을 준비하고, 캐리어 블럭(S1)과 인터페이스 블럭(S6) 사이에 배열하는 처리 블럭의 개수를 증감시킴으로써, 도포, 현상 장치의 처리 속도를 조정함으로써, 요구되는 스루풋에 따라서 장치의 설계나 제조를 용이하게 행할 수 있다.
캐리어 블럭, 인터페이스 블럭, 처리 블럭, 반도체 웨이퍼, 노광 장치Abstract translation: 发明内容本发明的目的是提供一种能够根据涂布和显影设备中的所需通过量容易地设计和制造设备的技术。
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公开(公告)号：KR1020130049747A
公开(公告)日：2013-05-14
申请号：KR1020120123696
申请日：2012-11-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/02
CPC classification number: H01L21/67046 , H01L21/67173 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67213 , H01L21/67253 , H01L21/67748 , H01L21/6875
Abstract: PURPOSE: A substrate processing system, a substrate transferring method, and a computer storage medium are provided to reduce a footprint by decreasing the number of wafer transferring processes. CONSTITUTION: A wafer cleaning unit(141) cleans the rear of a wafer before the wafer is inputted. A wafer inspecting unit(142) inspects whether to expose the wafer before the wafer is inputted to an exposing device. A transferring device(143) transfers the wafer. The wafer cleaning unit and the wafer inspecting unit are formed on the front of an interface station.
Abstract translation: 目的：提供基板处理系统，基板转印方法和计算机存储介质，通过减少晶片转印工艺的数量来减少占用面积。 构成：在晶片输入之前，晶片清洁单元（141）清洁晶片的后部。 晶片检查单元（142）在将晶片输入到曝光装置之前检查是否暴露晶片。 传送装置（143）传送晶片。 晶片清洁单元和晶片检查单元形成在界面站的前面。
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