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公开(公告)号：KR1020110061012A
公开(公告)日：2011-06-09
申请号：KR1020090117520
申请日：2009-12-01
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H02K7/09 , G03F7/70716 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , G03F7/707 , G03F7/70758
Abstract: PURPOSE: An electromagnetic holder device for an exposing device is provided to improve processing performance by decreasing the length of a mover by removing the chuck part of a magnetic levitation stage mover. CONSTITUTION: A rotating side electromagnet holder(16) is arranged on the upper side of a rotating side mover(11). A rotating side mover includes a rotating side permanent magnet(10). The rotating side electromagnet holder is comprised of a core(14a) and a coil(15a). The rotating side electromagnet holder controls the current to lift the rotating side mover and the transferring side mover up and down. The rotating side electromagnet holder includes a bracket(18a) which connects a core to a transfer stage.
Abstract translation: 目的：提供一种用于曝光装置的电磁保持器装置，通过移除磁悬浮载物台移动器的卡盘部分来减小移动器的长度来提高加工性能。 构成：旋转侧电磁铁支架（16）配置在旋转侧动子（11）的上侧。 旋转侧动子包括旋转侧永磁体（10）。 旋转侧电磁铁保持器由铁心（14a）和线圈（15a）构成。 旋转侧电磁铁支架控制电流，使旋转侧移动器和输送侧移动器上下移动。 旋转侧电磁铁保持器包括将铁心连接到转移台的托架（18a）。
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公开(公告)号：KR1020100007322A
公开(公告)日：2010-01-22
申请号：KR1020080067915
申请日：2008-07-14
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: H01J37/3266 , H01J37/321 , H01J37/32706 , H01J37/32761 , H01J37/34
Abstract: PURPOSE: A method and chamber for inductively coupled plasma processing for cylindrical material with three-dimensional surface is provided to apply easily the cleaning, the etching, and the depositing and ion injection process. CONSTITUTION: The outer wall(102) of the vacuum chamber(100) is grounded. The outer wall is included of the electric conductor. The artifact support unit(104) is insulated from the outer wall of the vacuum chamber. One or more cylindrical artifacts(106) installs to the processed product supporting unit. The other end of the cylindrical processed product is connected through the terminal capacitor(110) to the outer RF power source. The gas jet electrode is located in the inner side of the outer wall. The gas jet electrode surrounds the processed product.
Abstract translation: 目的：提供用于具有三维表面的圆柱形材料的感应耦合等离子体处理的方法和室，以容易地进行清洁，蚀刻和沉积和离子注入过程。 构成：真空室（100）的外壁（102）接地。 外壁包括电导体。 伪像支撑单元（104）与真空室的外壁绝缘。 将一个或多个圆柱形伪像（106）安装到经处理的产品支撑单元。 圆柱形加工产品的另一端通过端子电容器（110）连接到外部RF电源。 气体喷射电极位于外壁的内侧。 气体喷射电极围绕加工的产品。
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公开(公告)号：KR1020100004756A
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：KR1020080065102
申请日：2008-07-04
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: G03F7/70825 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/707 , G03F7/70725 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70841 , G03F7/70858 , H02K7/09 , H02K16/00 , H02K21/12 , H02K41/031 , H02K2201/15 , H02K2201/18 , H02N15/00
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage is provided to implement the integration of an apparatus through a high precision control by using magnetic levitation principle and controlling the rotation of the cylindrical substrate. CONSTITUTION: A first cylindrical substrate holder(11) and a second cylindrical substrate holder(12) are connected to both ends of a cylindrical substrate. A first permanent magnet is arranged on a first movable element(23), and a second permanent magnet is arranged on a second movable element(33). A first connector(13) interlinks the first movable element and the first cylindrical substrate holder. A second connector(14) interlinks the second movable element and the second cylindrical substrate holder.
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台，通过使用磁悬浮原理和控制圆柱形基板的旋转，通过高精度控制实现设备的集成。 构成：第一圆柱形衬底保持器（11）和第二圆柱形衬底保持器（12）连接到圆柱形衬底的两端。 第一永久磁铁布置在第一可移动元件（23）上，第二永久磁铁布置在第二可移动元件（33）上。 第一连接器（13）将第一可移动元件和第一圆柱形基板支架互连。 第二连接器（14）将第二可移动元件和第二圆柱形基板支架互连。
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公开(公告)号：KR102241680B1
公开(公告)日：2021-04-16
申请号：KR1020150123916
申请日：2015-09-02
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G06F3/041
Abstract: 본발명은배선전극을가지는투명전극의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는전극으로활성화되는배선전극이 1개이상전기적으로결합된블록배선전극과, 전극으로활성화되는센서전극을 1회적공정에의하여함께구현함으로써, 전극물질의충진특성및 배선전극과센서전극의정렬작업특성을동시에만족할수 있는배선전극을가지는투명전극의제조방법에관한것이다. 이러한본 발명은, 제1위상전이마스크와, 상기제1위상전이마스크와직교된방향으로패턴이구현된제2위상전이마스크를준비하는위상전이마스크준비단계; 기판상부에감광제를도포한다음, 상기제1위상전이마스크를위치시킨후 노광및 도금하여패턴이일방향으로형성된일방향패턴금속시편을형성하는일방향패턴형성단계; 상기일방향패턴금속시편상부에감광제를도포한다음, 상기제2위상전이마스크를위치시킨후 노광및 도금하여메시패턴이형성된메시패턴금속시편을형성하되, 상대적으로넓은피치의센서패턴을갖는센서패턴영역과상대적으로좁은피치의배선패턴을갖는배선패턴영역으로이루어진메시패턴형성단계; 및상기메시패턴금속시편을이용하여, 상기배선패턴영역중 전극으로활성화되는배선전극이 1개이상전기적으로결합된블록배선전극과, 상기센서패턴영역중 전극으로활성화되는센서전극을형성하는전극형성단계;를포함하여이루어지는것을특징으로하는배선전극을가지는투명전극의제조방법을기술적요지로한다.
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公开(公告)号：KR1020170027380A
公开(公告)日：2017-03-10
申请号：KR1020150123916
申请日：2015-09-02
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041
Abstract: 본발명은배선전극을가지는투명전극의제조방법에관한것으로, 더욱상세하게는전극으로활성화되는배선전극이 1개이상전기적으로결합된블록배선전극과, 전극으로활성화되는센서전극을 1회적공정에의하여함께구현함으로써, 전극물질의충진특성및 배선전극과센서전극의정렬작업특성을동시에만족할수 있는배선전극을가지는투명전극의제조방법에관한것이다. 이러한본 발명은, 제1위상전이마스크와, 상기제1위상전이마스크와직교된방향으로패턴이구현된제2위상전이마스크를준비하는위상전이마스크준비단계; 기판상부에감광제를도포한다음, 상기제1위상전이마스크를위치시킨후 노광및 도금하여패턴이일방향으로형성된일방향패턴금속시편을형성하는일방향패턴형성단계; 상기일방향패턴금속시편상부에감광제를도포한다음, 상기제2위상전이마스크를위치시킨후 노광및 도금하여메시패턴이형성된메시패턴금속시편을형성하되, 상대적으로넓은피치의센서패턴을갖는센서패턴영역과상대적으로좁은피치의배선패턴을갖는배선패턴영역으로이루어진메시패턴형성단계; 및상기메시패턴금속시편을이용하여, 상기배선패턴영역중 전극으로활성화되는배선전극이 1개이상전기적으로결합된블록배선전극과, 상기센서패턴영역중 전극으로활성화되는센서전극을형성하는전극형성단계;를포함하여이루어지는것을특징으로하는배선전극을가지는투명전극의제조방법을기술적요지로한다.
Abstract translation: 本发明涉及一种制造具有布线电极的透明电极的方法，更具体地说，涉及一种具有布线电极的透明电极的制造方法，该方法一次性实现了块布线电极 其中一个或多个要作为电极被激活的布线电极被电耦合，以及作为电极被激活的传感器电极，从而能够实现电极材料的填充特性和布线电极和传感器的对准作业特性 电极要满足。 本发明的主题是一种制造具有布线电极的透明电极的方法，包括：相移掩模制备步骤，准备第一相移掩模和第二相移掩模，所述相移掩模具有沿正交方向 第一相移掩模; 单向图案形成步骤，通过用光敏剂涂布基板的上部，在其上放置第一相移掩模，然后进行曝光，形成具有单向形成图案的单向图案金属样品 电镀; 网格图案形成步骤，通过用光敏剂涂覆单向图案金属样品的上部，在其上放置第二相移掩模，然后进行曝光和电镀，形成具有网状图案的网格图案金属样品 由具有相对较宽间距的传感器图案的传感器图案区域和具有相对较窄间距的布线图案的布线图案区域组成的网格图案; 以及电极形成步骤，其中形成块布线电极，其中一个或多个要作为电极被激活的布线电极电耦合，从所述布线图案区域和传感器电极到所述传感器图案区域作为电极被激活， 使用网格图金属样品。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020160023286A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：KR1020140109455
申请日：2014-08-22
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G06F3/041
CPC classification number: G06F3/041 , G06F2203/04103
Abstract: 본발명은터치패널용투명전극제조방법에관한것으로, 보다상세하게는터치패널의감지전극및 배선전극의제조공정을단순화시킨터치패널용투명전극제조방법에관한것이다. 특히, 본발명에서는상대적으로작은선폭의감지전극과큰 선폭을갖는배선전극을 1회적공정에의하여간단하게제작할수 있는터치패널용투명전극제조방법을제공하고자한다. 이를위해본 발명에서는위상마스크를이용하여, 위상마스크의돌출된패턴부분과함몰된패턴부분이만나는경계부에대한패터닝을수행하되, 위상마스크상부에광투과조절층을위치시켜투과도조절을통해선폭을조절하도록구성된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于触摸面板的透明电极制造方法，更具体地，涉及一种简化触摸面板的布线电极和感测电极的制造工艺的触摸面板的透明电极制造方法。 特别地，根据本发明，触摸屏的透明电极制造方法被配置为通过一次制造工艺简单地制造具有较窄线宽的感测电极和具有更宽线宽的布线电极。 为此，根据本发明，通过使用相位掩模，对相位掩模的凹凸图形部分的边缘进行图案化处理，并且光传输控制层位于 相位掩模以控制光透射率以便控制线宽。
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公开(公告)号：KR1020150017093A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020130092939
申请日：2013-08-06
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G02B5/30 , G02F1/1335
CPC classification number: G02B5/3058 , B32B17/10862 , G02F2001/133548
Abstract: 본 발명은 고분자 성형, 증착 및 식각 공정으로 이루어진 연속 공정을 적용하여, 나노 패턴을 갖는 필름 형태의 와이어 그리드 편광자를 제조하는 방법에 관한 것이다.
본 발명은 고분자 성형, 증착 및 식각 공정으로 이루어진 롤투롤(Roll to Roll) 연속 공정을 적용하여, 나노 패턴을 갖는 필름 형태의 와이어 그리드 편광자를 제조하는 한편, 특히 금속 재질의 나노 패턴 형성시 증착 공정과 식각 공정(또는 이온 밀링 공정)를 교대로 진행하면서 금속 패턴을 형성하는 새로운 형태의 필름형 와이어 그리드 편광자 제조방식을 구현함으로써, 연속 공정의 적용이 가능하고 균일한 나노 패턴을 형성시킬 수 있는 와이어 그리드 편광자의 제조방법을 제공한다.Abstract translation: 本发明涉及通过应用由高分子成型，蒸发和蚀刻工艺形成的连续工艺制造具有纳米图案的膜型线栅偏振器的方法。 本发明通过应用由高分子成型，蒸发和蚀刻工艺形成的辊对辊连续工艺，制造具有纳米图案的膜型线状偏振器，并形成新型薄膜型线型偏振器的制造方法 当金属材料的纳米图案特别形成时，通过执行蒸发处理和蚀刻工艺（或离子研磨处理）来轮流形成金属图案。 因此，提供了能够应用连续工艺并形成均匀的纳米图案的线束偏振片的制造方法。
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公开(公告)号：KR101172743B1
公开(公告)日：2012-08-14
申请号：KR1020090115109
申请日：2009-11-26
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은, 새로운 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는, 롤투롤 임프린트 공정에서 기존의 롤러에서의 분진 발생, 임프린트된 제품의 품질 저하, 롤의 신뢰성 등의 문제를 비접촉 방식인 자기베어링을 사용함으로써 해결할 수 있는 비접촉식 임프린트 장치에 관한 것이다.
이를 위하여 본 발명에서는 롤투롤 임프린트 장치에 있어서, 연성기판에 패턴을 형성하도록 회전운동하는 원통 금형과; 전자기력에 의해 반경방향의 운동을 제어하는 레이디얼 베어링과; 축방향의 운동을 제어하도록 상기 원통 금형의 회전축 방향으로 좌우 양단에 구비되는 한 쌍의 스러스트 베어링과; 상기 레이디얼 베어링 및 상기 스러스트 베어링의 회전자와 상기 원통 금형을 포함하는 롤과; 상기 원통 금형과 상기 연성 기판 사이에 장력을 형성하는 한 쌍의 반송 롤러를 포함하며, 상기 레이디얼 베어링 각각의 고정자는 상측의 제1고정자부와 상기 제1고정자부에 분리된 하측의 제2고정자부로 구성되는 것을 특징으로 하는 비접촉식 임프린트 장치를 제공한다.
이러한 구성을 포함하는 본 발명의 비접촉식 임프린트 장치는 기존의 롤 임프린트 공정보다 분진이 적고, 임프린트된 제품의 품질이 양호하며, 상기 롤의 신뢰성이 향상되며, 유지보수성 및 양산성이 매우 뛰어난 효과가 있다.
자기부상, 자기베어링, 비접촉식, 임프린트-
公开(公告)号：KR1020110057295A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：KR1020090113633
申请日：2009-11-24
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: H01J37/08 , C23C14/48 , H01J37/305 , H01J37/32009
Abstract: PURPOSE: A device and method for processing various kinds of spices using plasma immersion ions are provided to efficiently polish a surface of large cylindrical processing materials by colliding ions accelerated to a sheath with rotary processing materials. CONSTITUTION: Plasma is filled in a vacuum chamber. A support(12) and a rotation device(13) are installed in a vacuum chamber. A cover(15) includes a slot(14) arranged along the surface of the processing materials. The cover is electrically connected to the processing materials. A power source(16) supplies power to the processing materials and the cover.
Abstract translation: 目的：提供使用等离子体浸渍离子处理各种香料的装置和方法，以通过与旋转处理材料碰撞加速到护套的离子来有效地抛光大圆柱形处理材料的表面。 构成：将等离子体填充在真空室中。 支撑件（12）和旋转装置（13）安装在真空室中。 盖（15）包括沿着处理材料的表面布置的槽（14）。 盖子与处理材料电连接。 电源（16）向处理材料和盖子供电。
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公开(公告)号：KR100929883B1
公开(公告)日：2009-12-04
申请号：KR1020070117535
申请日：2007-11-16
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본 발명은 고진공의 진공챔버 내의 원통금형 스테이지에 장착된 원통금형 기판을 회전시키면서 전자빔(E_beam)을 조사하여 원통금형 기판에 나노급 고분해능으로 단시간 내에 많은 양의 연속 패턴을 형성할 수 있게 하고, 원통금형 스테이지(진공챔버)의 나노급 정밀도의 수평 이송과 Z축, θx, θy 능동 자세 제어를 통하여 노광기 자체의 기계적 위치 제어 오차를 최소화시킬 수 있는 노광기 및 노광 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 노광기는, 진공 챔버의 내부에 원통금형 스테이지를 장착하고, 상기 원통금형 스테이지에 결합된 원통금형을 움직이면서 상기 원통금형에 빔을 조사하여 패턴을 형성함으로써 일정 면적에 나노급 연속 패턴을 형성할 수 있다.
원통금형 기판, 전자빔(E-beam), 나노 노광기, 상대 이송, 능동 자세 제어Abstract translation: 本发明和所述圆筒形金属模具的基板照射电子束（E_beam）在旋转的同时安装在高真空的真空室纳米分辨率圆网阶段圆筒形模具基板可以形成在短时间内大量的连续图案，圆柱形 它涉及的纳米精密（真空室）和Z轴，θx，曝光系统和能够经由θY活性姿态控制最小化曝光系统本身的机械定位误差的曝光方法的水平传送的模具阶段。 根据本发明的曝光装置中，安装在圆筒模具阶段到真空室的内部，通过在圆筒形模制图案照射的波束形成图案移动联接到圆筒形金属模具台纳米连续在规定的区域中的筒状的金属模具 它可以形成。
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