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公开(公告)号：KR1019990016197A
公开(公告)日：1999-03-05
申请号：KR1019970038668
申请日：1997-08-13
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01J1/30
Abstract: 본 발명은 전자 방출 디스플레이에 관한 것으로, 전계 방출 디스플레이 하판의 한 화소를 저항체를 가진 실리콘 전계 에미터 어레이 및 하나의 n-채널 고전압 박막 트랜지스터(nHVTFT)로 구성하고, 디스플레이 신호를 각 화소에 부착되어 있는 nHVTFT를 통해 제어하는 구동방법을 제공함으로써, 고화질 및 고밀도의 전계 방출 디스플레이를 저가격으로 제조 가능하도록 하고자 하며, 전계 에미터 어레이의 각 에미터에 전계 방출 특성을 안정화시키는 저항체를 부착하여 전계 에미터간의 전기적 특성의 균일도를 향상시키고, 과전류에 의한 소자 파손를 억제시킨다.
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公开(公告)号：KR1019990011743A
公开(公告)日：1999-02-18
申请号：KR1019970034952
申请日：1997-07-25
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G01C19/56
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
본 발명은 공진형 마이크로 자이로스코프에 관한 것으로, 특히 미세 가공 기술로 제작 가능한 마이크로 브리지의 정상파를 이용하는 자이로스코프 및 그 제조 방법과 이를 이용한 각속도 측정 방법에 관한 것이다.
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
본 발명에 의한 공진형 마이크로 자이로스코프는 미세 가공 기술로 제작된 브리지 형태의 구조체를 압전소자를 이용해 공진시켜 휨 변형을 일으키고, 외부의 회전 속도에 의한 코리올리 힘이 발생할 때 이로 인한 공진 모드의 변화를 압전 소자를 이용해서 검출하는 방법을 이용한다. 그러므로 기존의 진동형 자이로스코프에 비해 고진공 내에서의 작동과 공진 모드 주파수의 조율 등의 문제가 심각히 요구되지 않는다.
3. 발명의 해결 방법의 요지
본 발명에 의한 자이로스코프는 브리지형 양단의 구속 보가 낮은 공진 모드로 휨에 의한 진동을 하도록 가진 전극을 보 위의 세 지점에 위치 시키고, 보의 공진 모드의 곡선 중 변곡점으로 작용하는 부분, 즉 휨 모멘트가 작용하지 않아 휨에 의한 응력이 공진중 항상 0이 되는 지점에 검출 전극을 위치시킨다. 보의 길이 방향에 수직하고 동시에 진동 변위에 수직한 방향으로 외부 각속도가 가해지면 코리올리의 힘이 보의 길이 방향으로 가해지게 되므로 공진의 모드를 변형시켜 검출 전극이 위치한 지점에서 0이 아닌 휨 응력이 발생하게 된다. 이 응력에 의한 변형의 크기는 외부의 회전 각속도에 비례하므로 이 변형의 크기를 압전 소자를 이용하여 측정하므로 각속도 검출의 기능을 수행하게 된다.-
公开(公告)号：KR100174871B1
公开(公告)日：1999-02-01
申请号：KR1019950049249
申请日：1995-12-13
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L43/00
CPC classification number: H01H1/0036 , H01H29/28 , H01H61/02 , H01H2001/0042 , H01H2029/008 , H01H2061/006
Abstract: 본 발명은 랫칭형 열구동 마이크로 릴레이 소자에 관한 것으로, 특히 반도체 기판의 벌크내에 형성되는 릴레이 소자에 관한 것이다.
본 발명의 랫칭형 마이크로 릴레이 소자는 소정의 체적을 가지며 그 내부의 공기를 가열하는 히터(12)가 설치되어 있는 능동저장고(10)와, 상기 능동저장고(10)와 소정간격으로 이격되어 그 내부에 히터(42)가 설치되어 있으며 동일한 체적을 갖는 수동저장고(40)와, 상기 능동저장고(10)와 수동저장고(40) 사이에 공간으로 연장되어 접점금속인 액체금속(50)의 이동로로서 역할을 하는 채널(20)과, 서로 이격되어 상기 채널(20)의 소정영역에서 각각 채널의 내부에 일단이 삽입되어 외부로 진행하는 제1신호전극(30)과, 상기 제1신호전극(30)과 일정 간격으로 이격되어 동일한 형상으로 형성되어 있는 제2신호전극(32)과, 상기 채널의 내부에 실장되어 제1신호전극(30)과 제2신호전극(32)의 접점으로서의 역할을 하는 액체금속(50)과, 반도체 기판(100)의 상, 하측면에 접합 되어 있는 상, 하부 유리기판(120, 130)을 포함하여 구성된다.-
公开(公告)号：KR100160909B1
公开(公告)日：1998-12-15
申请号：KR1019950052658
申请日：1995-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01H1/00
Abstract: 본 발명은 자기력 구동 마이크로 릴레이 구조체 및 그 제작방법에 관한 것으로서, 실리콘 웨이퍼 기판의 상부면과 바닥면에 절연을 위해 열 산화막을 올린 후, 상기 바닥면 위에 도금의 전극이 될 얇은 금속층을 형성하는 제1단계와; 상기 금속층 위에 폴리이미드를 입혀 패턴을 전사하여 다수의 소정 부분의 금속층이 나타나도록 건식식각하는 제2단계와; 상기 나타난 금속층을 전극으로 하여 구리를 전해 및 무전해 도금으로 코일 바닥면을 제작하는 제3단계와; 상기 코일부분을 제외한 금속층을 제거한 후 산화막 또는 폴리이미드를 덮어 코일 부분인 구리를 보호하는 제4단계와; 후막의 자성체 코아를 형성하기 위해 마스크로 사용할 기판 상부면의 열 산화막을 코아의 패턴 형태로 건식식각한 후 습식 식각방법에 의해 소정 깊이 이상을 식각하는 제5단계와; 상기 제5단계의 식각된 코아 형성부분에 금속층을 입힌 후 자성체를 전기도금으로 제작하는 제6단계와; 상기 도금 전극으로 사용한 금속층을 건식식각으로 제거하고, 절연을 위해 상기 형성된 코아 상부에 소정크기의 산화막을 형성하는 제7단계와; 상기 기판 밑면의 구리코일을 웨이퍼 윗면으로 연결배선하기 위해 습식식각에서 마스크로 사용할 산화막을 건식식각한 후, 비등방성 식각을 하여 밑면의 구리코일 배선이 나타날 때까지 식각하고, 무전해 도금으로 코일 배선 부분을 채우는 제8단계와; 상기 제5단계와 제6단계의 수행 후에 형성된 후막의 분리된 자성체 상부에 형성된 산화막을 식각한 후 밑면 전극이 될 금을 리프트 오프 방법으로 제작하고, 후막의 알루미늄 또는 폴리이미드를 채워 넣은 희생층을 형성하여 전극접점 부위를 형성하는 제9단계와; 상기 희생층 위에 릴레이의 윗면 전극이 될 금과 전기적 절연을 위한 산화막을 올리는 제10단계를 포함하여 이루어지며 실리콘 웨이퍼의 벌크 마이크로 머시닝 기술, 전기도금 기술 및 반도체 공정기술을 이용하여 기존의 릴레이보다 소형이고, 집적회로 공정과 호환성이 있는 자기 구동 마이크로 릴레이 구조체 구조에 관한 것으로, 수백 ㎒에서 반복 스위칭 동작과 아울러 저 접점저항을 이룰 수 있으며, 대량생산이 가능하여 저렴하고, 릴레이 어레이(array)구성이 용이하다는 장점이 있다.
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公开(公告)号：KR100160908B1
公开(公告)日：1998-12-15
申请号：KR1019950052659
申请日：1995-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01H51/00
Abstract: 본 발명은 리드형 자기구동 마이크로 릴레이 및 그 제조방법에 관한 것으로, 110면의 방향성을 갖는 실리콘 웨이퍼 기판을 이방성 에칭을 통해 수백 ㎛를 수직에칭한 후, 절연을 위한 열 산화막을 형성하고 질화막을 증착하는 제1단계와; 상기 제1단계의 질화막 위에 아래 코일 전극을 형성하기 위한 금속을 증착하고 패턴화한 다음, 절연을 위한 산화막을 증착하는 제2단계와; 상기 제2단계의 산화막 위에 아래 자성체 코아를 무전해 도금으로 형성시키고 중간 산화막과 희생층으로서 제거될 아래 폴리이미드를 형성하는 제3단계와; 상기 제3단계의 중간 산화막과 폴리이미드 상부에 윗 자성체 코아와 윗 폴리이미드를 증착한 후 패턴하고, 코일 지지대로서의 산화막을 증착하는 제4단계와; 상기 희생층인 아래 폴리이미드를 제거하고 식각구멍으로 산화막을 건식식각으로 패턴화하는 제5단계와; 코일을 측면으로 둘러싸기 위해 건식식각으로 아래 코일전극까지 채널을 형성시킨 후 무전해 도금으로 코일 배선 부분을 채운 후, 상기 윗 코일전극을 건식식각하는 제6단계를 포함하여 이루어지어, 수 백 ㎑정도의 빠른 반복 스위칭 동작과 아울러 저 접점저항을 이룰 수 있으며, 반도체 제조시설을 통항 대량생산이 가능하여 저렴할 뿐만 아니라 릴레이 어레이(array) 구성이 용이하다는 장점이 있다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019980050573A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960069404
申请日：1996-12-21
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L29/84
Abstract: 본 발명은 반도체 장치 제조 방법에 관한 것으로, 각 속도 측정 장치의 제조에 있어서 종래의 방법인 기판 가공 기술은 식각시 정확한 수적구조를 구현할 수 있는 문제점을 해결하기 위해 결정면이 110 방향인 실리콘 웨이퍼를 기판 접합 기술에 의해 하부 전극이 제조된 실리콘 웨이퍼 위에 부착한 후, 표면 가공 기술을 이용하여 가로세로비가 크고 정확한 구조의 구현에 의해 안정된 미세 구조체의 제조를 통하여 고감도, 저전압 구동형 마이크로 자이로스코프의 구현이 가능하며, 저응력 미세 구조체의 제조과 주변 회로와의 접속을 위한 금속 전극의 제조가 용이한 마이크로 자이로스코프 제조 방법이 제시된다.
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公开(公告)号：KR1019980050455A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960069278
申请日：1996-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B27/10
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
광학계용 비접촉식 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
단 렌즈의 위치와 기울기 오차를 비접촉식으로 효과적으로 측정하며, 상기 오차를 보상할 수 있는 수단을 제공하고자 함.
3. 발명의 해결 방법의 요지
장치 하부에 배치되어 빛을 방출하는 광원; 상기 광원의 빛을 집속시켜 광학계 상부에 정렬된 단렌즈 표면에 결상시키는 대물렌즈; 상기 대물렌즈와 상기 광원 사이에 배치되며, 두개의 프리즘으로 구성되어, 반사된 상기 단렌즈 표면의 상기 결상을 단렌즈의 광축과 직각 방향으로 전환시켜 조사하는 광속분할기; 상기 광속분할기로부터 조사된 광 결상의 광량 및 위치를 측정하는 검지부; 상기 구성품을 소정 위치에 지지 고정하는 가대; 및 상기 가대에 연결되어 그의 상하 변위를 측정하는 거리 측정부를 포함하여 이루어진 광학계용 렌즈 정점 위치 및 기울기 측정장치를 제공한다.
4. 발명의 중요한 용도
상기와 같이 구성된 본 발명은 다수의 렌즈로 구성된 정밀 광학계의 조립에 용이하게 적용될 수 있으며, 구성 렌즈와 접촉 없이도 상기 렌즈들의 정점 위치 및 기울기를 효율적으로 측정할 수가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970076059A
公开(公告)日：1997-12-10
申请号：KR1019960015619
申请日：1996-05-11
Applicant: 한국전자통신연구원
Abstract: 본 발명은 고해상도 마스크 제조방법에 관한 것으로서 종래의 부가적 방법과 삭감적 방법에 의한 마스크 제조방법이 패턴 형성시 여러 가지 단점으로 인해 미세선폭의 정의가 어려웠던 문제점을 해결하기 위해, 본 발명은 이 방법들을 통합하여 부가적 방법에 의해 제2흡수체층의 패턴을 먼저 부가적 방법으로 형성한 후, 이 제2흡수체층을 건식식각 마스크로 사용하여 제1흡수체층의 패턴을 건식식각하는 고해상도 마스크 제조방법을 제공한다.
이와같은 본 발명은 전자빔 셀 투사형 마스크 또는 이온빔 마스크를 제조하는데 이용할 수가 있다.-
公开(公告)号：KR1019970054597A
公开(公告)日：1997-07-31
申请号：KR1019950049249
申请日：1995-12-13
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L43/00
Abstract: 본 발명은 랫칭형 열구동 마이크로 릴레이 소자에 관한 것으로, 특히 반도체 기판의 벌크내에 형성되는 릴레이 소자에 관한 것이다. 본 발명의 랫칭형 마이크로 릴레이 소자는 소정의 체적을 가지며 그 내부의 공기를 가열하는 히터(12)가 설치되어 있는 능동저장고(10)와, 상기 능동저장고(10)와 소정간격으로 이격되어 그 내부에 히터(42)가 설치되어 있으며 동일한 체적을 갖는 수동저장고(40)와, 상기 능동저장고(10)와 수동저장고(40) 사이에 공간으로 연장되어 접점금속인 액체금속(50)의 이동로로서 역할을 하는 채널(20)과, 서로 이격되어 상기 채널(20)의 소정영역에서 각각 채널의 내부에 일단이 삽입되어 외부로 진행하는 제1신호전극(30)과, 상기 제1신호전극(30)과 일정간격으로 이격되어 동일한 형상으로 형성되어 있는 제2신호전극(32)과, 상기 채널의 내부에 실장되어 제1신호전극(30)과, 제2신호전극(32)의 접점으로서 역할을 하는 액체 금속(50)과, 반도태 기판(100)의 상,하 측면에 접합 어 있는 상,하부 유리기판(120,130)을 포함하여 구성된다
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公开(公告)号：KR1019970051604A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950052682
申请日：1995-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01H47/00
Abstract: 본 발명은 랫칭형 자기력 구동 마이크로 릴레이 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 100면의 방향성을 갖는 실리콘 웨이퍼 기판의 바닥면에 습식 식각에서 마스크로 사용하기 위한 열산화막과 질화막을 순차적으로 형성한 후, 구조체 형태로 건식 식각하는 제1단계와; 상기 제1단계의 수행 후, 비등방성 용액으로 십 ㎛ 정도로 습식 식각을 하고 상기 구조체 부분의 절연을 위해 산화막을 형성하는 제2단계와; 상기 제2단계의 수행 후, 마이크로 릴레이의 전극을 만들기 위해 얇은 금속층을 입힌 후, 전기도금으로 후막의 전극을 형성하고, 건식 식각으로 나머지 얇은 금속층을 제거하는 제3단계와; 상기 제3단계의 전기도금 방법으로 코일을 형성한 다음, 폴리이미드를 덮은 후 패턴을 형성하는 제4단계와; 상기 제4단계의 수행 후, 상기 구조 위에 자기코아와 희생층을 각각 올린 후, 패턴을 형성하는 제5단계와; 상기 자기 코아의 절연과 저장고의 제작을 위해 폴리이미드를 올리고 상기 희생층 제거를 위한 구멍을 제작한 후, 자기 코아의 전극을 전기도금으로 제작하고 상기 희생층을 제거하여 틈을 만드는 제6단계와; 상기 제6단계의 수행 후, 실리콘 기판 뒷면의 질화막과 산화막을 건식 식각한 후 비등방성 습식 식각을 이용하여 수은 주입구를 제작하는 제7단계와; 상기 제7단계의 수행 후, 밀봉과 절연을 위해 폴리이미드를 올리고 코일을 제작한 후, 릴레이 구조체에 압력을 이용하여 수은을 주입한 다음 글라스를 실리콘 기판에 자외선 접착제로 밀봉하는 제8단계를 포함하여 이루어지어, 수 백 MHz에서 반복 스위칭 동작과 함께 액체 접점으로 인해 저 접점저항을 이룰 수 있으며, 대량생산이 가능하여 저렴할 뿐만 아니라 릴레이 어레이(array) 구성이 용이하다는 장점이 있다.
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