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公开(公告)号：DE602006015428D1
公开(公告)日：2010-08-26
申请号：DE602006015428
申请日：2006-02-22
Applicant: IBM
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公开(公告)号：DE69123873D1
公开(公告)日：1997-02-13
申请号：DE69123873
申请日：1991-04-16
Applicant: IBM
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公开(公告)号：DE112013000700T5
公开(公告)日：2014-10-09
申请号：DE112013000700
申请日：2013-02-12
Applicant: IBM
Inventor： SUNDBERG LINDA KARIN , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , SONG QING , BASS JOHN DAVID , KIM HO-CHEOL , MILLER ROBERT DENNIS
Abstract: Es werden Zusammensetzungen nach der Formel (3) offenbart: [C']k[Ta(O2)x(L')y](3),wobei x eine Ganzzahl von 1 bis 4 ist, y eine Ganzzahl von 1 bis 4 ist, Ta(O2)x(L')y eine Ladung von 0 bis –3 aufweist, C ein Gegenion mit einer Ladung von +1 bis +3 ist, k eine Ganzzahl von 0 bis 3 ist, L' ein oxidativ stabiler organischer Ligand mit einer Ladung von 0 bis –4 ist, und L' eine elektronenabgebende Funktionsgruppe aufweist, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus Carboxylaten, Alkoxiden, Aminen, Aminoxiden, Phosphinen, Phosphinoxiden, Arsinoxiden und Kombinationen daraus besteht. Die Zusammensetzungen finden als hoch auflösende Fotolacke Anwendung.
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公开(公告)号：DE112010004848T5
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：DE112010004848
申请日：2010-11-26
Applicant: IBM
Inventor： CHENG JOY , HINSBERG WILLIAM , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , SUNDBERG LINDA KARIN , SANDERS DANIEL PAUL , KIM HO-CHEOL , NA YOUNG-HYE , TRUONG HOA , ITO HIROSHI
Abstract: Ein Verfahren zum Bilden einer Schichtstruktur, die eine Struktur von Bereichen eines selbstorganisierten Materials umfasst, umfasst folgende Schritte: Aufbringen einer Fotolackschicht, die einen nicht vernetzenden Fotolack umfasst, auf ein Substrat; wahlweise Aushärten der Fotolackschicht; Belichten einzelner Strukturbereiche der Fotolackschicht mit einer ersten Strahlung; wahlweise Aushärten der belichteten Fotolackschicht; und Entwickeln der belichteten Fotolackschicht mit einem nicht alkalischen Entwickler, um eine strukturierte Negativ-Fotolackschicht zu bilden, die unvernetzten entwickelten Fotolack umfasst; wobei der entwickelte Fotolack in einem bestimmten organischen Lösemittel unlöslich ist, das zum Gießen eines bestimmten Materials geeignet ist, welches zur Selbstorganisation in der Lage ist, und wobei der entwickelte Fotolack in einem wässrigen alkalischen Entwickler und/oder in einem zweiten organischen Lösemittel löslich ist. Eine Lösung, die das bestimmte Material umfasst, welches zur Selbstorganisation in der Lage und in dem bestimmten organischen Lösemittel gelöst ist, wird auf die strukturierte Fotolackschicht gegossen und das bestimmte organische Lösemittel wird entfernt. Dem gegossenen bestimmten Material wird die Möglichkeit zur Selbstorganisation gegeben, während das gegossene bestimmte Material wahlweise erwärmt und/oder getempert wird, wodurch die Schichereichen des selbstorganisierten bestimmten Materials umfasst.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：DE69123873T2
公开(公告)日：1997-07-17
申请号：DE69123873
申请日：1991-04-16
Applicant: IBM
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公开(公告)号：DE69120858T2
公开(公告)日：1997-01-23
申请号：DE69120858
申请日：1991-04-16
Applicant: IBM
Inventor： ALLEN ROBERT DAVID , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , SIMPSON LOGAN LLOYD , HINSBERG WILLIAM DINAN III
IPC: G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , H01L21/027 , C08L33/06
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公开(公告)号：GB2512794A
公开(公告)日：2014-10-08
申请号：GB201413639
申请日：2013-02-12
Applicant: IBM
Inventor： BASS JOHN DAVID , SUNDBERG LINDA KARIN , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , MILLER ROBERT DENNIS , KIM HO-CHEOL , SONG QING
Abstract: Compositions are disclosed having the formula (3): [C']k[Ta(O2)x(L')y] (3), wherein x is an integer of 1 to 4, y is an integer of 1 to 4, Ta(O2)x(L')y has a charge of 0 to -3, C' is a counterion having a charge of + 1 to +3, k is an integer of 0 to 3, L' is an oxidatively stable organic ligand having a charge of 0 to -4, and L' comprises an electron donating functional group selected from the group consisting of carboxylates, alkoxides, amines, amine oxides, phosphines, phosphme oxides, arsine oxides, and combinations thereof. The compositions have utility as high resolution photoresists.
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公开(公告)号：SG11201402450UA
公开(公告)日：2014-06-27
申请号：SG11201402450U
申请日：2013-02-12
Applicant: IBM
Inventor： BASS JOHN DAVID , SUNDBERG LINDA KARIN , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , MILLER ROBERT DENNIS , KIM HO-CHEOL , SONG QING
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公开(公告)号：DE69120858D1
公开(公告)日：1996-08-22
申请号：DE69120858
申请日：1991-04-16
Applicant: IBM
Inventor： ALLEN ROBERT DAVID , WALLRAFF GREGORY MICHAEL , SIMPSON LOGAN LLOYD , HINSBERG WILLIAM DINAN III
IPC: G03F7/004 , G03F7/029 , G03F7/039 , H01L21/027 , C08L33/06
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