14.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10260770B4

    公开(公告)日:2005-10-27

    申请号:DE10260770

    申请日:2002-12-23

    Abstract: A memory cell comprises a trench capacitor with electrodes (9,11) and a dielectric layer (10) in the base with a vertical select transistor (TR) above this with a channel connecting electrode and a bit line (BL). The channel partly encloses the trench hole and the corresponding word line (WL) at least partly encloses the channel. Independent claims are also included for the following: (a) a memory cell arrangement as above;and (b) a production process for the above

    15.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10329395A1

    公开(公告)日:2005-02-10

    申请号:DE10329395

    申请日:2003-06-30

    Inventor: SOMMER MICHAEL

    Abstract: The document describes a method for transferring data between a memory device and a read/write device. In this case, a system clock is produced at a system clock rate and a data transfer clock is produced at a data transfer clock rate. In addition, control commands for controlling the data transfer are transferred in sync with the system clock, and data are transferred in line with corresponding control commands in sync with the data transfer clock. The system clock rate and the data transfer clock rate can be set as desired in this context. In particular, the data transfer clock rate is chosen to be higher than the system clock rate, which means that a higher data transfer rate than previously is possible.

    16.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE10226660A1

    公开(公告)日:2004-01-08

    申请号:DE10226660

    申请日:2002-06-14

    Abstract: The memory cell according to the invention has a vertical selection transistor, via whose channel region the inner electrode of the trench capacitor can be connected to a bit line. The channel region is led to the bit line through an associated word line, which completely or partially encloses the channel region. As a result, a conductive channel can be formed within the channel region depending on the potential of the word line. Preferably, the extent of the trench hole in the word line direction is at least 1.5 times as large as in the bit line direction.

    Vorrichtung und Verfahren zum Auslesen einer Speicherinformation

    公开(公告)号:DE102006040571B4

    公开(公告)日:2015-10-15

    申请号:DE102006040571

    申请日:2006-08-30

    Abstract: Vorrichtung (100) zum Auslesen einer, in einem Speicher (102) speicherbaren Speicherinformation, wobei von dem Speicher in einer Haltephase ein Leckstrom und in einer Auslesephase ein, von der Speicherinformation abhängiger Auslesestrom bereitstellbar ist, mit folgenden Merkmalen: einer durch eine einzelne Kapazität (C3) gebildeten Integrationseinrichtung (104) zum Aufintegrieren einer von dem Leckstrom hergeleiteten ersten Größe während der Haltephase und zum Bereitstellen einer, einem aufintegrierten Leckstrom entsprechenden Leckspannung sowie zum Aufintegrieren einer von dem Auslesestrom hergeleiteten zweiten Größe während der Auslesephase und zum Bereitstellen einer, einem aufintegrierten Auslesestrom entsprechenden Auslesespannung, wobei die Leckspannung einer am Ende der Haltephase an der einzelnen Kapazität (C3) abfallenden Spannung entspricht und die Auslesespannung einer am Ende der Auslesephase an der einzelnen Kapazität (C3) abfallenden Spannung entspricht; einer Rücksetzeinrichtung (212), die konfiguriert ist, um die Integrationseinrichtung zwischen der Haltephase und der Auslesephase in einen rückgesetzten Zustand zu bringen; und einer Vergleichseinrichtung (106) zum Bereitstellen eines Auslesewertes, der der Speicherinformation entspricht, abhängig von der Leckspannung und der Auslesespannung.

    20.
    发明专利
    未知

    公开(公告)号:DE102006039877A1

    公开(公告)日:2008-03-13

    申请号:DE102006039877

    申请日:2006-08-25

    Inventor: SOMMER MICHAEL

    Abstract: A chip with a chip plane includes a functional area, a contact structure vertical with respect to the chip plane for connecting the functional area, which includes a conductive material, which has a predetermined length, and a vertical dummy-contact structure, which extends vertically into the functional area and which has an electrically conductive material and an insulation layer, the insulation layer being formed so that a current flow from an upper end of the dummy-contact structure to the functional area is prevented.

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