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公开(公告)号:CN102842474B
公开(公告)日:2015-11-25
申请号:CN201110175692.X
申请日:2011-06-22
Applicant: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
Inventor: 刘华荣
CPC classification number: C23F4/02 , B82Y99/00 , H01J1/00 , H01J1/3044 , H01J9/025 , H01J27/26 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/08 , H01J2201/30415 , H01J2237/0807
Abstract: 本发明提供了一种用于制造粒子源的方法,包括:将金属丝置于真空环境中并通入活性气体和催化气体,对金属丝的温度进行调节,并对金属丝施加正高压V,使得金属丝表面的活性气体离解,在金属丝头部侧面产生刻蚀带,在该刻蚀带内发生场致刻蚀;场致刻蚀使得金属丝头部顶端处表面电场增强,直到大于金属丝材料的场致蒸发电场,使得此处的金属原子被蒸发出去;在场致刻蚀触发了场致蒸发之后,场致刻蚀和场致蒸发这两种机制相互调节直到金属丝头部形状变成了由底座和底座上的针尖组成,其中场致刻蚀发生在侧面,形成了底座,而场致蒸发发生在顶端,形成了针尖;以及当获得具有预定形状的金属丝头部时,停止场致刻蚀和场致蒸发。
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公开(公告)号:CN104008943A
公开(公告)日:2014-08-27
申请号:CN201410066714.2
申请日:2014-02-26
Applicant: FEI公司
Inventor: M.马佐斯
IPC: H01J37/21 , H01J37/147 , H01J37/28 , H01J37/10
CPC classification number: H01J37/07 , H01J3/026 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/10 , H01J37/1477 , H01J37/21 , H01J37/248 , H01J37/3056 , H01J37/3178 , H01J2237/0473 , H01J2237/04735 , H01J2237/04756 , H01J2237/1518 , H01J2237/1534 , H01J2237/28 , H01J2237/31749
Abstract: 本发明提供了一种带电粒子束系统,其中,聚焦离子束柱的中间段被偏置到高负电压,该电压允许该束在比该柱的那个区段内的最终束能量更高的电势下移动。在低kV电势下,减少了色差和库仑相互作用,这使斑点尺寸产生显著改进。
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公开(公告)号:CN102005358B
公开(公告)日:2012-09-12
申请号:CN201010520806.5
申请日:2005-04-29
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 皮特·克鲁特
IPC: H01J37/06 , H01J37/147 , H01J37/317
CPC classification number: H01J37/06 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/1474 , H01J37/3177 , H01J2237/06316
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的带电粒子束曝光装置,包括:射束发生器,它包括基本在一个平面中的多个n个带电粒子源(1),每个源适合于产生带电粒子束;第一孔径阵列(4),它包括多组孔径,每组孔径对准一个源,以将每个射束分裂成多个细射束m,从而导致总共n×m个细射束;以及偏转器阵列(6),它包括多组偏转器,每组偏转器对准一个源和一组孔径,一个组中的每个偏转器对准相应组的孔径,并且每组偏转器可用于确证对其相应射束的准直影响。
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公开(公告)号:CN102629538A
公开(公告)日:2012-08-08
申请号:CN201210107766.0
申请日:2012-04-13
Applicant: 吴江炀晟阴极材料有限公司
Inventor: 严建新
CPC classification number: H01J1/304 , C23C16/40 , H01J1/14 , H01J9/025 , H01J37/06 , H01J2201/30446 , H01J2237/06316 , Y10T428/2916
Abstract: 本发明公开了一种电极材料。此电极材料易于电子注射且不会和接触物质反应。此电极材料的结构包括一个导电的化合物基材,以及覆设在这个化合物基材表面的氧化物电子发射层。本发明的氧化物电子发射层能够与作为发射基体的化合物基材牢固结合,且具有低逸出功和高化学稳定性。
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公开(公告)号:CN101414125B
公开(公告)日:2012-02-22
申请号:CN200810166460.6
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: G03F7/20 , H01J37/317
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号:CN101414536A
公开(公告)日:2009-04-22
申请号:CN200810166463.X
申请日:2003-10-30
Applicant: 迈普尔平版印刷IP有限公司
Inventor: 马尔科·扬-哈科·威兰 , 波特·扬·卡姆弗彼科 , 亚历山大·哈德瑞克·文森特·范费恩 , 彼得·克瑞特
IPC: H01J37/317 , G03F7/20
CPC classification number: H01J3/02 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J37/06 , H01J37/3177 , H01J2237/0435 , H01J2237/06308 , H01J2237/06375 , H01J2237/3045
Abstract: 本发明涉及一种用于将图案转移到目标的表面上的电子束曝光设备,包括:用于产生多个电子小射束(5a、5b)的小射束发生器;用于接收所述多个电子小射束的调制阵列,包括用于调制电子小射束的强度的多个调制器;控制器,可操作地连接于所述调制阵列,用于单独地控制所述调制器;调节器,可操作地连接于每个调制器,用于单独地调节每个调制器的控制信号;包括静电透镜的阵列(7)的聚焦电子光学系统,其中每个透镜将由所述调制阵列传输的相应的单个小射束聚焦于小于300nm的横截面,以及用于以使得图案将被转移到其上的其曝光表面处于聚焦电子光学系统的第一焦平面中的方式固定所述目标的目标固定器。
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公开(公告)号:CN108885187A
公开(公告)日:2018-11-23
申请号:CN201780019776.X
申请日:2017-01-27
Applicant: 汉民微测科技股份有限公司
IPC: G01N23/2251
CPC classification number: H01J37/06 , G01N23/2251 , G01N2223/418 , G01N2223/6116 , H01J37/145 , H01J37/1474 , H01J37/226 , H01J37/28 , H01J2237/2817
Abstract: 提出了一种具有尺寸、取向和入射角可变的总FOV的新多束装置。新装置提供了加速样本观察和使得更多样本可观察的更大灵活性。更具体地,作为在半导体制造工业中检查和/或审查晶片/掩模上的缺陷的产量管理工具,新装置提供了实现高吞吐量和检测更多种类的缺陷的更多可能性。
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公开(公告)号:CN108666191A
公开(公告)日:2018-10-16
申请号:CN201710211428.4
申请日:2017-03-31
Applicant: 上海北京大学微电子研究院
Inventor: 张佩佩
IPC: H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/12 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/26 , G01R31/28
CPC classification number: H01J37/12 , G01R31/2851 , H01J37/04 , H01J37/06 , H01J37/141 , H01J37/147 , H01J37/26
Abstract: 本发明涉及一种非接触式电子探针探测显微镜成像集成系统,所述显微镜成像集成系统包括电子源系统,刻蚀用离子源系统,高压电源系统,电子光学系统,离子束偏转系统,电子束偏转系统,静电透镜系统,磁透镜驱动系统,真空系统,样品台系统,探测器系统,数据采集系统和图像重建系统,所述电子源系统包含灯丝室、灯丝座、发叉式钨灯丝和三极式静电透镜,所述灯丝座设置有可调节装置。所述显微镜成像集成系统在芯片工作过程中对某个区域进行实时显微测量,从而对芯片的某个具体工作模块实现实时监控并分析其微系统功能,为微电子芯片设计人员提供了一种有效的设计纠错分析手段。
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公开(公告)号:CN108431587A
公开(公告)日:2018-08-21
申请号:CN201680075531.4
申请日:2016-12-30
Applicant: 科磊股份有限公司
IPC: G01N21/95 , G01N21/956
CPC classification number: H01J37/222 , G01N21/9501 , G01N23/2251 , G01N2201/12 , G01N2223/304 , G01N2223/401 , G01N2223/418 , G01N2223/6116 , G01N2223/646 , G03F7/7065 , H01J37/06 , H01J37/226 , H01J37/28 , H01J2237/24475 , H01J2237/24495 , H01J2237/2817 , H01L22/20
Abstract: 本发明提供混合检验器。一种系统包含计算机子系统,其经配置以接收针对样品产生的基于光学的输出及基于电子束的输出。所述计算机子系统包含一或多个虚拟系统,其经配置以使用针对所述样品产生的所述基于光学的输出及所述基于电子束的输出的至少一些执行一或多个功能。所述系统还包含由所述计算机子系统执行的一或多个组件,其包含经配置以针对所述样品执行一或多个模拟的一或多个模型。所述计算机子系统经配置以基于所述基于光学的输出、所述基于电子束的输出、所述一或多个功能的结果及所述一或多个模拟的结果中的至少两者检测所述样品上的缺陷。
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公开(公告)号:CN104766776B
公开(公告)日:2016-09-28
申请号:CN201410007910.2
申请日:2014-01-07
Applicant: 中国科学院物理研究所
IPC: H01J37/06 , H01J37/065
CPC classification number: H01J37/06 , H01J37/073 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J37/3178 , H01J2237/2802
Abstract: 本发明提供了一种多功能超快透射电子显微镜电子枪。该超快透射电子显微镜电子枪包括:激光源、电子枪本体和激光引入模块。电子枪本体包括:电子枪套筒,包括:第一段套筒和第二段套筒;以及自上而下依次设置的阴极、加速极和阳极,其中,阴极和加速极位于第一段套筒内,阳极位于第二段套筒内。激光引入模块,包括:引入模块套筒,密封连接于上述第一段套筒和第二段套筒之间,在该引入模块套筒的侧面开设激光入射窗;激光反射镜,位于引入模块套筒内,正对激光入射窗,且靠近引入模块套筒的中心轴线设置,其反射面与引入模块套筒中心轴线呈45°。本发明多功能超快透射电子显微镜电子枪所获得的光发射电子的相干性是目前性能最好的。
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