公开(公告)号：KR101198496B1

公开(公告)日：2012-11-06

申请号：KR1020100006488

申请日：2010-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  요시하라고우스케 ,  요시다유이치

IPC: H01L21/027

Abstract: 본 발명은 기판 표면에 공급되어 퇴적된 현상액의 퇴적부의 가장자리부에 활성화를 촉진하여 해상도의 향상 및 현상 처리 효율의 향상을 도모할 수 있도록 한 현상 처리 방법 및 현상 처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
웨이퍼(W)를 수평으로 유지한 스핀 척(40)을 수직축 둘레에 회전시키면서 웨이퍼의 중심부 위쪽으로부터 현상 노즐(52)을 통해 현상액을 공급하여 퇴적하는 동시에, 공급된 현상액의 퇴적부의 가장자리부를 향하여 N
2 노즐(53)을 통해 처리 시의 웨이퍼의 온도보다 고온의 N
2 가스를 공급하고, 현상 노즐과 N
2 노즐을 웨이퍼의 중심부로부터 웨이퍼의 외주연을 향하여 직경 방향으로 동시에, N
2 노즐을 현상 노즐에 추종 이동시켜 현상액의 퇴적부의 가장자리부에 활성화를 촉진하여 현상 처리한다.

公开(公告)号：KR102126591B1

公开(公告)日：2020-06-24

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/67

公开(公告)号：KR101805931B1

公开(公告)日：2017-12-06

申请号：KR1020120090019

申请日：2012-08-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  요시하라고우스케 ,  노다도모히로

IPC: H01L21/027

Abstract: 원형기판의주연부에도포액을도포하여링 형상의도포막을형성하는데 있어서, 그폭을균일성높게형성할수 있는기술을제공하는것. 기판의회전및 노즐로부터의도포액의공급을행하면서, 도포액의공급위치를기판의외측으로부터기판의주연부를향하여이동시키고, 그기판을평면에서보았을때에그 각도가 10°이하인쐐기형으로도포액을도포하며, 이어서, 기판의회전및 도포액의공급을계속한채로노즐의이동을정지하고, 기판의주연부를따라띠 형상으로도포액을도포하며, 이띠 형상으로도포된도포액의단부를상기쐐기형으로도포된도포액에접촉시켜, 기판의전체둘레에걸쳐도포액을도포한다.

Abstract translation: 本发明提供一种技术，其能够通过将涂布液涂布到圆形基材的周边而形成环形涂膜，其宽度的均匀性高。 一边使基板旋转，一边从喷嘴供给涂布液，一边使涂布液的供给位置从基板的外侧向基板的周围移动，一边从平面观察基板， 然后，在继续进行基板的旋转和涂布液的供给的同时停止喷嘴的移动，沿着基板的周缘涂布涂布液为条状，涂布在带状涂布液中的涂布液的端部， 并且通过使涂布液与以楔形施加的涂布液接触而将涂布液涂布在基材的整个周边上。

公开(公告)号：KR101760528B1

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：KR1020120122979

申请日：2012-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0022 ,  G03F7/16 ,  Y10T137/794

Abstract: 간이한처리액공급장치를이용하여처리액내의이물을저감하여, 기판의결함을저감한다. 레지스트액공급장치(100)는, 레지스트액을저류하는레지스트액공급원(101)과, 레지스트액공급원(101)으로부터도포노즐(32)에레지스트액을공급하는공급관(102)과, 공급관(102)에설치되며, 레지스트액을일단저류시키는리퀴드엔드탱크(103)와, 공급관(102)에설치되며, 레지스트액을유통시키는펌프(104)와, 공급관(102)에설치되며, 레지스트액내의이물을포집하여이탈시키지않는필터(105)와, 공급관(102)에설치되며, 레지스트액의유통을차단하는트랩(106)과, 공급관(102)에설치된밸브(107)와, 공급관(102) 내를유통하는레지스트액을필터(105)에적어도 1회왕복통과시켜, 그레지스트액을도포노즐(32)에공급하도록펌프(104)를제어하는제어부(200)를가지고있다.

公开(公告)号：KR101542704B1

公开(公告)日：2015-08-06

申请号：KR1020147004500

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794

Abstract: 본발명의약액공급시스템은, 약액을저류하는제1 용기및 제2 용기와, 제1 용기와제2 용기를연결하는제1 배관에설치되고, 제1 용기에저류된약액을제2 용기로흘려보내는제1 펌프와, 제1 배관에설치되고, 제1 용기로부터제2 용기를향하여제1 배관내를흐르는약액을여과하는제1 필터와, 제1 용기와제2 용기를연결하는제2 배관과, 제2 배관에설치되고, 제2 용기에저류된약액을제1 용기로흘려보내는제2 펌프를구비한다.

公开(公告)号：KR101529741B1

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：KR1020100020826

申请日：2010-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아리마히로시 ,  요시다유이치 ,  야마모토다로 ,  요시하라고우스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명은현상액을기판에균일성높게공급하여수율의저하를억제할수 있는현상장치를제공하는것을목적으로한다. 표면에레지스트가도포되고, 노광된후의기판을수평으로유지하는기판유지부와, 상기기판에대한현상액의습윤성을높이기위한표면처리액을무화시키는표면처리액무화수단과, 무화된상기표면처리액을상기기판에분무하는제1 분무노즐과, 상기표면처리액이분무된기판에현상액을토출하여현상을행하기위한현상액토출노즐을구비하도록현상장치를구성한다. 무화된표면처리액은액상상태의표면처리액에비하여기판에대한표면장력이낮으므로, 기판상에서응집되는것이억제되어, 용이하게기판전체에공급할수 있어기판의습윤성을높일수 있다. 그결과로, 현상액을균일성높게기판에공급할수 있어수율의저하를억제할수 있다.

公开(公告)号：KR1020140139969A

公开(公告)日：2014-12-08

申请号：KR1020140062387

申请日：2014-05-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오오코우치아츠시 ,  요시하라고우스케 ,  이치노미야히로시 ,  니시하타히로시 ,  나이토우료우이치로우

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/677 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/67051

Abstract: 본 발명의 기판 세정 장치는, 기판을 회전시키면서 기판의 중심부에 세정액 및 가스를 순차 토출하고, 이들을 토출하는 노즐을 기판의 둘레 가장자리측으로 이동시킨 후, 제1 세정액 노즐의 이동 궤적으로부터 벗어나는 위치에 설정된 제2 세정액 노즐로 세정액의 토출을 전환하며, 세정액의 토출 및 가스의 토출을 행하면서 양 노즐을 기판의 둘레 가장자리측을 향해 이동시키고, 제2 세정액 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리와, 가스 노즐의 토출 위치로부터 기판의 중심부까지의 거리의 차가 서서히 작아지도록 각 노즐이 이동한다.

Abstract translation: 根据本发明的基板清洗装置在旋转基板的同时在基板的中心连续地排出清洁溶液和气体，将清洗液的排放切换到第二清洗溶液喷嘴，该第二清洗溶液喷嘴从第一 将排出清洗液和气体的喷嘴喷出后的清洗液喷嘴移动到基板的周缘部，同时在清洗液和气体排出的同时将两个喷嘴移动到基板的周缘，并使各喷嘴逐渐减小 在从第二清洗溶液喷嘴的排出位置到基板的中心的距离与从气体喷嘴的排放位置到基板中心的距离之间。

公开(公告)号：KR101251748B1

公开(公告)日：2013-04-05

申请号：KR1020100128494

申请日：2010-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  하타케야마신이치

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

Abstract: 본 발명은 기판의 전체면에 각종 도포액을 도포할 때에, 기판의 전체면을 도포액으로 피복하는 데 필요한 도포액의 액량을 삭감할 수 있는 도포 처리 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
회전하는 기판의 표면에 도포액을 공급하고, 공급된 도포액을 기판의 외주측으로 확산시킴으로써, 기판의 표면에 도포액을 도포하는 도포 처리 방법에 있어서, 회전하는 기판의 표면에 도포액을 공급하는 공급 위치를, 외주측으로 확산되는 도포액의 이동에 따라 외주측으로 이동시키면서, 도포액을 기판의 표면에 공급하는 공급 공정(S17)을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020130029332A

公开(公告)日：2013-03-22

申请号：KR1020120090019

申请日：2012-08-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  요시하라고우스케 ,  노다도모히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0274 ,  B05C9/02 ,  B05C11/1002 ,  B05C13/00 ,  B05D1/40

Abstract: PURPOSE: A device and a method for coating an edge portion and a storage medium are provided to prevent the dispersion of coating solution by forming a coating layer around the edge portion. CONSTITUTION: A rotation maintenance part horizontally rotates a circular substrate. A nozzle(21) supplies coating solution to form a coating layer around the edge portion of the circular substrate. A transport device moves the nozzle. A control unit outputs a control signal to control the movement of the substrate and the nozzle, and the discharge of the coating solution.

Abstract translation: 目的：提供一种用于涂覆边缘部分和存储介质的装置和方法，以通过在边缘部分周围形成涂层来防止涂布溶液的分散。 构成：旋转维护部水平旋转圆形基板。 喷嘴（21）提供涂层溶液以在圆形基底的边缘部分周围形成涂层。 运输装置移动喷嘴。 控制单元输出控制信号以控制基板和喷嘴的移动以及涂布溶液的排出。

公开(公告)号：KR1020110095122A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：KR1020100128494

申请日：2010-12-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  하타케야마신이치

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/0274 ,  G03F7/161 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/70691

Abstract: PURPOSE: A coating process method, computer readable recording medium, and coating process apparatus are provided to reduce an amount of resist solutions for coating the surface of a wafer by preventing the resist solutions from splashing. CONSTITUTION: A cassette arrangement stand(10) is installed in a cassette station(2). A plurality of cassettes is arranged on the cassette arrangement stand in a row. A wafer transfer device(12) transfers a wafer from the cassette. A process station(3) includes five process device groups. The cassette station, the process station, and an interface station(4) are integrally connected.

Abstract translation: 目的：提供涂布处理方法，计算机可读记录介质和涂布处理装置，以通过防止抗蚀剂溶液飞溅来减少用于涂覆晶片表面的抗蚀剂溶液的量。 构成：盒式放映架（10）安装在盒式电台（2）中。 多个盒子一排地布置在盒装置支架上。 晶片传送装置（12）从盒传送晶片。 处理站（3）包括五个处理设备组。 盒式磁带站，处理站和接口站（4）被整体连接。