公开(公告)号：KR1019980071158A

公开(公告)日：1998-10-26

申请号：KR1019980003542

申请日：1998-02-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: G03F7/16 ,  G03F7/26

Abstract: 본 발명의 탈기장치는, 레지스트액, 현상액, 용제 등의 액체중에 존재하는 기체를 충분히 제거할 수 있다. 이 탈기장치는 액체가 흐르는 액체유로와, 엑체유로에 인접하고 기체가 흐르는 기체유로와, 액체유로와 기체유로와의 사이를 칸막이하도록 설치되어, 기체를 투과하는 기능을 가진 막형상체와, 기체유로에 연속하는 배기장치를 구비하고 있다. 액체유로에 액체를 흐르게 하면서, 배기장치를 작동시킴으로써, 액체유로를 흐르는 액체중의 기체가 막형상체를 투과하여, 기체유로를 통하여 배출된다.

公开(公告)号：KR1019980019104A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970041992

申请日：1997-08-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  아나이노리유키

IPC: H01L21/02

Abstract: 도포장치는, 반도체 웨이퍼(W)를 수평상태로 진공에 의하여 흡착유지하는 스핀척(10)을 갖는다. 스핀척(10)의 위쪽에는 이동 빔(20)이 배설된다. 이동 빔(20)은 포토레지스트액(BL)을 공급하기 위한 제 1 노즐(21)과, 포토레지스트액의 용제(AL)를 공급하기 위한 제 2 노즐(22)을 일체적으로 구성한 부재로 이루어진다. 도포처리시, 이동 빔(20)은 웨이퍼(W)의 위쪽에서 수평상태를 유지하면서 일방향으로 이송된다. 이 때 웨이퍼(W)상에서는, 먼저 제 2 노즐(22)로부터 용제(AL)가 공급되고, 계속해서 제 1 노즐(21)로부터 도포액인 포토레지스트액(BL)이 용제(AL)의 뒤를 따라 공급된다. 이로써 포토레지스트액(BL)의 공급에 앞서, 용제(AL)에 의해 웨이퍼(W)로의 포토레지스트액의 도포성이 향상된 상태가 된다.

公开(公告)号：KR1019960042999A

公开(公告)日：1996-12-21

申请号：KR1019960015345

申请日：1996-05-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하마다도모코 ,  마쓰시타미치아키 ,  다테야마기요히사 ,  요네미즈아키라

IPC: H01L21/304

Abstract: 세정장치는, 웨이퍼를 유지하고 또한 회전시키기 위한 스핀척과, 웨이퍼 표면을 문지르기 위한 브러시와, 브러시를 지지하는 아암을 가진다. 리니어 가이드를 통해서 아암에 서포트가 연결되고, 아암과 서포트와는 수평방향에서 일체적으로 이동함과 도시에, 수직방향에서 상대적으로 변위가능하게 된다. 아암과 서포트와의 사이에는 압축스프링이 배열설치되고, 이것은 아암과 서포트와의 수직방향에서 상대적인 변위에 따라서 변형한다. 스핀척에 유지된 웨이퍼에 대하여 브러시가 접촉할 때, 압축스프링의 변형에 대응하여, 웨이퍼에 대한 브러시의 가하는 힘이 발생한다. 서포트의 수직방향의 하강량을 조정함으로써, 브러시의 가하는 힘이 설정된다.

公开(公告)号：KR100821411B1

公开(公告)日：2008-04-10

申请号：KR1020020021907

申请日：2002-04-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오

IPC: G02F1/13

Abstract: 장치구성상의 문제를 발생하지 않고, 높은 생산성과 소형의 풋프린트를 겸비할 수 있으며, 더구나 장치의 길이를 비교적 짧게 할 수 있는 복수의 처리유니트를 구비한 처리장치를 제공하는 것이다.
처리장치(100)는, 기판(G)이 대략 수평으로 반송되면서 소정의 액처리가 이루어지는 액처리유니트(21,23,24)와, 액처리유니트(21,23,24)의 각각에 대응하여 설치되어, 각 액처리후에 소정의 열적처리를 하는 복수의 열적처리유니트가 집약되어 설치된 열적처리유니트 섹션(26,27,28)과, 액처리유니트(21,23,24)로부터 반출된 기판(G)을 각 열적처리유니트 섹션으로 반송하는 복수의 반송장치(33,37,40)를 구비하며, 액처리유니트(21,23,24) 및 열적처리유니트 섹션(26,27,28)은, 실질적으로 처리의 순서대로 또한 소정간격을 두고 실질적으로 2열(2a,2b)로 배치되며, 열적처리유니트의 적어도 일부가 이들 2열의 사이에 배치되어 있다.

公开(公告)号：KR100650807B1

公开(公告)日：2006-11-27

申请号：KR1020000033210

申请日：2000-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오타요시하루 ,  다테야마기요히사 ,  아라키신이치로 ,  이와사키다쓰야 ,  아나이노리유키 ,  이와쓰하루오

IPC: H01L21/68

Abstract: 상자모양으로 형성된 수용박스의 내부에 처리대상이 되는 유리기판을 지지함과 동시에 송풍팬에 의해 기판출입구 형성면에 대향하는 면 측으로부터 해당 기판출입구를 통하여 외부로 흐르는 기류(氣流)를 형성하고 있다. 이 때문에 기판출입구가 상시 열려 있어도 수용박스 밖에 부유(浮游)하는 파티클이 수용박스 안으로 침입하는 것은 없다. 따라서 유리기판의 반송영역을 클린환경으로 할 필요가 없어져, 클린환경의 형성코스트를 큰 폭으로 삭감하는 것이 가능하다. 또 기판출입구가 상시 열려 있어, 해당 기판출입구를 개폐하는 개폐기구가 설치되어 있지 않으므로, 기판의 전달을 신속히 행하는 것이 가능하다.

公开(公告)号：KR1020050017588A

公开(公告)日：2005-02-22

申请号：KR1020040063195

申请日：2004-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노유키히로 ,  다나카시노부 ,  다테야마기요히사 ,  미야자키가즈히토 ,  야마사키쓰요시 ,  가와구치요시히로

IPC: G03F7/16

Abstract: PURPOSE: Provided are coating nozzle and coating apparatus for forming even thickness of coating film without coating spots on substrate and stable wet line on constant level by adapting longitudinally extended profile. CONSTITUTION: The coating nozzle and the coating apparatus is applied to a coating and development system(10) installed in a clean-room, and useful for carrying out a series of treatment such as washing, resist coating, pre-baking, development and post-baking processes on LCD substrate. The system(10) comprises process station(P/S)(16) on middle portion while cassette station(C/S)(14) and interface station(I/F)(18) at both ends along length(X direction). Between process lines(A,B), an assistant delivery space(38) is located. A shuttle(40) for placing the substrate(G) by sheet unit moves along line(X direction) using driving device.

Abstract translation: 目的：提供涂层喷嘴和涂层设备，用于通过适应纵向延伸的轮廓，在基底上形成均匀厚度的涂膜，并在恒定水平上稳定的湿线。 构成：将涂布喷嘴和涂布装置应用于安装在清洁室中的涂布和显影系统（10），可用于进行洗涤，抗蚀涂层，预烘烤，显影和后处理等一系列处理 在LCD基板上的工艺。 系统（10）包括在中间部分的处理站（P / S）（16），同时沿着长度（X方向）两端的盒式站（C / S）（14）和接口站（I / F）（18） 。 在处理线（A，B）之间，设置辅助递送空间（38）。 通过片材单元放置基板（G）的梭子（40）使用驱动装置沿着线（X方向）移动。

公开(公告)号：KR1020030087942A

公开(公告)日：2003-11-15

申请号：KR1020030028823

申请日：2003-05-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: G02F1/13

CPC classification number: G03D3/00

Abstract: 먼저 처리되는 기판의 처리조건으로 설정되는 제 1 처리부인 열처리유니트와, 다음에 처리되는 기판의 처리조건으로 설정되는 적어도 1개의 제 2 처리부인 보조열처리유니트를 준비하여, 먼저 처리되는 기판을 제 1 처리부로 반송하여 처리하고 있는 동안에, 제 2 처리부를 다음에 처리되는 기판의 처리조건으로 설정하여 대기시키고, 제 1 처리부에서의 처리가 종료한 후, 다음에 처리되는 기판을 제 2 처리부로 처리하고, 제 2 처리부에서 처리하는 동안, 제 1 처리부를, 제 2 처리부와 같은 처리조건으로 변경하여 다음에 처리되는 기판을 처리하고, 제 2 처리부에서의 처리가 종료한 후, 제 2 처리부를, 더욱 다음에 처리되는 기판의 처리조건으로 변경하여 대기시켜, 복수의 기판의 처리를 연속하여 한다.

公开(公告)号：KR100352691B1

公开(公告)日：2003-04-07

申请号：KR1019980008320

申请日：1998-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: F25B1/00

CPC classification number: H01L21/67109 ,  F25B21/02

Abstract: An apparatus is provided with a cooling unit for cooling a treatment substrate, a supporting body for supporting the treatment substrate before being transferred to the cooling unit and a cooling apparatus for cooling the treatment substrate supported by the supporting body. The apparatus cools the treatment substrate in a position where the treatment substrate stands by before being transferred into the cooling unit and thereafter cools the cooled treatment substrate in the cooling unit, which makes rapid and accurate cooling possible.

Abstract translation: 本发明提供一种冷却装置，该冷却装置用于冷却处理基板，用于在处理基板被输送至冷却部之前支撑处理基板的支撑体，以及用于冷却由支撑体支撑的处理基板的冷却装置。 该装置在将处理基板传送到冷却单元之前将处理基板冷却在处理基板待机的位置，并且之后冷却冷却单元中的冷却的处理基板，这使得可以实现快速且准确的冷却。

公开(公告)号：KR100352690B1

公开(公告)日：2003-04-07

申请号：KR1019980004326

申请日：1998-02-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: F25B1/00 ,  F25B39/00

CPC classification number: H01L21/67109 ,  F25B21/02 ,  F25D3/10

Abstract: A refrigerant is directly contacted to a substrate to be processed that was heated so as to quickly cool the substrate. Thus, the temperature of the substrate is dropped to a predetermined temperature level. The substrate is cooled by a cooling device and cooling water. Thus, the cooling temperature can be accurately controlled. In addition, the substrate can be effectively cooled.

Abstract translation: 制冷剂直接接触待加热的基板，以快速冷却基板。 因此，衬底的温度下降到预定的温度水平。 基材通过冷却装置和冷却水冷却。 因此，可以精确地控制冷却温度。 另外，衬底可以被有效地冷却。

公开(公告)号：KR100283445B1

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：KR1019950029397

申请日：1995-09-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 모토다기미오 ,  다테야마기요히사

IPC: B05C5/00

Abstract: 본 발명은, 회전되는 피처리 기판에 도포액을 도포하는 도포장치 및 그 방법에 관한 것으로,
위쪽 개구를 가지는 윗벽과 아래쪽 개구를 가지는 바닥벽과, 위쪽 개구를 폐쇄하는 폐쇄부를 가지고 회전축을 중심으로 하여 회전가능한 회전용기와, 이 회전용기의 안에 승강 및 상기 회전축을 중심으로 하여 회전이 자유롭게 위치하고, 위에 피처리 기판을 지지하는 회전 얹어놓는대와, 피처리 기판위에 도포액을 도포하는 도포액 공급수단과, 상기 회전용기의 폐쇄부에 설치되고, 회전용기의 내면에 세정액을 뿜어 칠하기 위한 세정액 공급수단과, 상기 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이에, 상기 아래쪽 개구를 둘러싸도록 설치되고, 회전 얹어놓는대와 회전용기의 바닥벽과의 사이를 시일가능한 시일부재와, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를, 이들이 함께 회전하도록 접속하는 수단과, 상기 회전용기와 회전 얹어놓는대를 회전시키 는 수단을 구비하는 도포장치를 제공할수가 있어 구조가 간단하고, 회전 얹어놓는대와 회전용기와의 사이의 시일부가 마모되는 일이 없는 특징이 있다.