公开(公告)号：KR1020080104986A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：KR1020080049388

申请日：2008-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도모노리 ,  오까무라고오지 ,  가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라 ,  후지마루슈우조오

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67225 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/30

Abstract: A coating and developing device and an operation method of the coating and developing device and a storage media are provided to collect the substrate on which the protective film is not coated appropriately without giving the bad effect on the process efficiency of the substrate. A coating and developing device comprises the coating module(COT), the developer module(DEV), the heat module, the module group, and the substrate transfer. The coating module sprays the resist onto the surface of substrate. The developer module forms the liquid layer on the surface of substrate in the exposure part, and supplies the developer to the substrate which completes the exposure dipping and develops the substrate. The heat module heats the substrate. The module group comprises the cooling module for freezing the substrate. The module group has the sequence number for transferring. The substrate transfer performs the substrate transfer between the modules of the module group.

Abstract translation: 提供了一种涂覆和显影装置以及涂覆和显影装置和存储介质的操作方法以收集其上未适当涂覆保护膜的基板，而不会对基板的处理效率产生不良影响。 涂覆和显影装置包括涂层模块（COT），显影剂模块（DEV），加热模块，模块组和基底转移。 涂层模块将抗蚀剂喷涂到基材的表面上。 显影剂模块在曝光部分的基板的表面上形成液体层，并将显影剂供给到完成曝光浸渍的基板，并显影基板。 加热模块加热基板。 模块组包括用于冷冻基板的冷却模块。 模块组具有用于传输的序列号。 衬底转移在模块组的模块之间执行衬底传送。

公开(公告)号：KR1020060133888A

公开(公告)日：2006-12-27

申请号：KR1020060035216

申请日：2006-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70533 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/70508

Abstract: A system and a method for processing a substrate are provided to control reduction of yield or processing amount by single-sheet-processing plural substrates using a first and a second apparatus. A substrate processing apparatus(100) includes a first apparatus(50) and a second apparatus(60) for single-sheet-processing plural substrates. After a first treatment process by the first apparatus, a second treatment process is performed by the second apparatus. After the second treatment process, a third treatment is performed by the first apparatus. The first apparatus has a first control unit(30) and first communication units(34,35) for communicating with the outside. The first control unit controls a transfer of the substrate. The second apparatus has a second control unit(40) and second communication units(43,44) for communicating with the outside. The second control unit controls a transfer of the substrate. The first and second control units obtain information with respect to treatment time in the other apparatus from the first and second communication units. The first and second control units control a substrate transfer between the first and second apparatuses based on the obtained information.

Abstract translation: 提供一种用于处理基板的系统和方法，以通过使用第一和第二装置对多个基板进行单页处理来控制产量或处理量的降低。 基板处理装置（100）包括第一装置（50）和用于单张处理多个基板的第二装置（60）。 在由第一装置进行第一处理处理之后，由第二装置执行第二处理处理。 在第二处理过程之后，由第一装置进行第三处理。 第一装置具有用于与外部通信的第一控制单元（30）和第一通信单元（34,35）。 第一控制单元控制基板的转印。 第二装置具有用于与外部通信的第二控制单元（40）和第二通信单元（43,44）。 第二控制单元控制基板的转印。 第一和第二控制单元从第一和第二通信单元获得关于另一设备中的治疗时间的信息。 第一和第二控制单元基于获得的信息来控制第一和第二设备之间的基板传送。

公开(公告)号：KR101930555B1

公开(公告)日：2018-12-18

申请号：KR1020120105203

申请日：2012-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에노끼다스구루 ,  나까하라다마사히로 ,  기야마히데까즈 ,  이이다나루아끼 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B25J9/16 ,  G06F19/00

Abstract: 본 발명의 과제는 기판 처리 시스템의 풋프린트를 작게 하는 것이다.
복수의 처리 유닛이 상하 방향으로 다단으로 설치된 처리 스테이션(3)과, 복수매의 웨이퍼(W)를 수용하는 카세트를 적재하는 카세트 적재대(12)와, 처리 스테이션(3)과 카세트 적재대(12) 사이에 배치된 웨이퍼 반송 기구(21)를 구비한 기판 처리 시스템(1)에 있어서, 처리 스테이션(3)과 웨이퍼 반송 기구(21) 사이에는 카세트 적재대(12)와 처리 스테이션(3) 사이에서 반송되는 웨이퍼 및 각 처리 유닛의 각 단 사이에서 반송되는 기판을 일시적으로 수용하는 복수의 전달 유닛이 다단으로 설치된 전달 블록(22)이 배치되어 있다. 웨이퍼 반송 기구(21)는 카세트 적재대(12)와 전달 블록(22) 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제1 반송 아암과, 전달 유닛의 각 단 사이에서 웨이퍼를 반송하는 제2 반송 아암을 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR101776964B1

公开(公告)日：2017-09-08

申请号：KR1020110074464

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명의과제는도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에, 장치의설치면적을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 처리블록은캐리어블록측의가열계의블록과, 액처리계의단위블록군과, 인터페이스블록측의가열블록을캐리어블록측으로부터인터페이스블록측으로이 순서로배치하고, 상기액 처리계의단위블록군은반사방지막용의단위블록과, 레지스트막용의단위블록과, 상층막용의단위블록을이 순서로상측에적층한도포막용의단위블록군과, 이도포막용의단위블록군에대하여서로상하로적층된현상용의단위블록으로구성되고, 액처리계의각 단위블록에서액 처리모듈은기판의반송로의좌우양측에배치되도록장치를구성한다.

Abstract translation: 本发明要解决的问题是提供一种技术，该技术能够抑制涂布和显影设备的生产量的降低并且抑制设备的安装面积。 处理块从载体块侧向接口块侧依次包括载体块侧的加热块，液体处理系统上的单元块组和接口块侧的加热块， 在上侧依次层叠抗反射膜用单位块，抗蚀剂膜用单位块，上位膜用单位块，上位层用单位块组， 并且液体处理系统的每个单元块中的液体处理模块布置在基板的传送路径的右侧和左侧。

公开(公告)号：KR101743303B1

公开(公告)日：2017-06-02

申请号：KR1020110143378

申请日：2011-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라 ,  하라요시따까 ,  후지무라고오지

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는기판에도포액을도포하는장치에있어서, 기판의로트의전환시에, 후속로트의기판의처리로빠르게이행할수 있는기술을제공하는것이다. 선행로트(A)용레지스트토출노즐(N1)과후속로트(B)용레지스트토출노즐(N2)이공통의이동기구에의해일체로되어, 도포처리부(1a, 1b)와노즐버스(5) 사이를이동하고, 또한사용하고있지않은레지스트토출노즐의선단부에, 시너층(T)이 2개의공기층에의해끼워진층 구조를형성하는경우에, 선행로트(A)의최후의웨이퍼(WA25)에대해노즐(N1)로부터레지스트액(RA)을공급한후, 노즐(N1)을노즐버스(5)로이동하는공정과더불어, 노즐(N1)에공기를흡입시켜당해노즐(N1) 내에제1 공기층을형성한다. 또한, 노즐(N2)을후속로트(B)의선두의웨이퍼(WB)의상방으로이동시키는공정에더불어, 노즐(N2)에공기를흡입시켜당해노즐(N2) 내에제2 공기층을형성한다.

Abstract translation: 本发明的一个目的是提供一种用于在大量的所述基板的转换时将涂敷液施加到基材上，可以很快的装置转移到随后的许多基片的处理的技术。 前面批次（A）的抗蚀剂喷嘴（N1）和后续的很多（B）的抗蚀剂喷射喷嘴（N2）用于此通过在共同的，涂层处理单元移动机构被集成（1A，1B）和喷嘴总线（5）之间 并且，在未使用的抗蚀剂喷出喷嘴的前端的两个空气层夹着薄层T的厚度， 从喷嘴（N1）供给抗蚀剂溶液（RA），与喷嘴（N1）移动至喷嘴总线5的步骤中，通过吸入egong其喷嘴内的第一空气层的喷嘴（N1）之后（N1） 形式。 此外，利用移动喷嘴（N 2）到随后的许多装备室的晶片（WB）（B）的顶部的步骤中，以形成在本领域，以组吸嘴（N2）egong喷嘴（N2）中的第二空气层。

公开(公告)号：KR101667433B1

公开(公告)日：2016-10-18

申请号：KR1020110074341

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에장치의설치면적을줄인다. 처리블록은, 캐리어블록측에배치되는액처리계의단위블록군과, 이액처리계의단위블록군의인터페이스블록측에배치된가열계의블록을구비하고, 액처리계의단위블록군은, 제1 단위블록과제2 단위블록을이 순서대로상측에적층한적층체와, 이적층체에대해서로상하로적층되고, 노광후의기판을현상하기위한현상용의단위블록을서로상하로적층한적층체로구성되고, 상기제1 단위블록은, 반사방지막모듈과레지스트모듈을기판의반송로의좌우에구비하고, 상기제2 단위블록은, 상층막모듈과경화모듈을기판의반송로의좌우에구비한다.

公开(公告)号：KR101657721B1

公开(公告)日：2016-09-19

申请号：KR1020110061419

申请日：2011-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 전단처리용의단위블록을제1 전단처리용의단위블록및 제2 전단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여서로적층하고, 후단처리용의단위블록을제1 후단처리용의단위블록및 제2 후단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하고, 또한현상처리용의단위블록을제1 현상처리용의단위블록및 제2 현상처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하여처리블록을구성하고, 전단처리용의단위블록으로부터후단처리용의각 단위블록에기판을배분하여전달하는제1 전달기구와, 노광후의기판을현상처리용의단위블록에배분하여전달하는제2 전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

公开(公告)号：KR101122820B1

公开(公告)日：2012-03-21

申请号：KR1020070118895

申请日：2007-11-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67276 ,  Y10S414/135

Abstract: 노광 후 베이크 유닛의 대수를 증가시키지 않고, 노광 후 지연 시간을 각 웨이퍼에서 일정하게 할 수 있는 도포?현상 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
이를 위해, 처리부(12)와의 사이에서 웨이퍼(W)의 수수를 행함과 함께, 노광 후의 웨이퍼(W)를 노광 후 베이크 유닛(PEB)으로 반입하는 제1 반송 기구(21)와, 노광 장치(3)와의 사이에서 기판의 수수를 행하는 제2 반송 기구(22)에 의해 노광 종료 후의 웨이퍼(W)를 노광 후 베이크 유닛(PEB)에 반송할 때에, 인터페이스부(13)에, 웨이퍼(W)의 수수부(TRS)를 설치하고, 제어부(20)는, 노광 장치(3)에서의 노광 종료 후, 노광 후 베이크 유닛(PEB)에서 노광 후 베이크 처리가 개시될 때까지의 시간이 웨이퍼마다 일정해지도록 수수부(TRS) 및 노광 후 베이크 유닛(PEB)의 대기부의 2개소에서 기판을 대기시킨다.
베이크 유닛, 도포?현상 장치, 반송 기구, 웨이퍼, 노광 장치

公开(公告)号：KR101010157B1

公开(公告)日：2011-01-24

申请号：KR1020060035216

申请日：2006-04-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/7075 ,  G03F7/70533 ,  H01L21/67155 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67276

Abstract: 본 발명의 과제는 제1 장치와, 제2 장치를 구비하고, 상기 제1 장치와 제2 장치의 연휴에 의해 복수의 기판을 낱장 처리하는 기판 처리 시스템에 있어서, 비용이나 푸트프린트의 증대를 억제하고, 수율이나 처리량의 저하를 억제할 수 있는 기판 처리 시스템 및 기판 처리 방법을 제공하는 것이다.
복수의 기판을 낱장 처리하는 제1 장치(50)와 제2 장치(60)를 구비하고, 상기 제1 장치(50)에 의한 제1 처리 공정 후에 상기 제2 장치(60)에 의한 제2 처리 공정이 실행되고, 상기 제2 처리 공정 후에 상기 제1 장치(50)에 의한 제3 처리 공정이 실행되는 기판 처리 시스템(100)이며, 기판 반송의 제어 수단으로서 상기 제1 장치는 제1 제어 수단(30)을 갖고, 또한 상기 제2 장치는 제2 제어 수단(40)을 갖고, 상기 제1 제어 수단(30) 또는 제2 제어 수단(40)은 다른 쪽 장치에서의 처리 시간에 관한 정보를 통신에 의해 취득하고, 취득한 정보를 기초로 하여 제1 장치(50)와 제2 장치(60) 사이의 기판 반송 제어를 행한다.
노광기, 노광기 인터페이스, 통신 인터페이스, 레지스트 도포 현상 장치, 패턴 형성 장치

公开(公告)号：KR1020090015838A

公开(公告)日：2009-02-12

申请号：KR1020080077205

申请日：2008-08-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라 ,  가네꼬도모히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67276 ,  B05C11/10 ,  G03F7/70875 ,  H01L21/6715

Abstract: A coating-developing device, coating-developing method and storage medium are provided to suppress a substrate to be stayed unnecessarily by not emitting the substrate from a stand-by module effectively to match a heating process. A coating-developing device includes a stand-by module, at which a substrate stays before a developing processing, on which resist is coated. A return unit returns the substrate arranged in the stand-by module to the import port of the exposure apparatus and receives a substrate after exposure from the output port of the exposure apparatus, and then returns the selected heat module of a plurality of heat modules. A calculation unit calculates the timing for emitting forefront substrate out from the stand-by module. A control unit controls the return unit to emit the substrate out from the stand-by module based on the calculated time of calculation unit.

Abstract translation: 提供了一种涂覆显影装置，涂覆显影方法和存储介质，以通过不用有效地从待机模块发射基板而不必要地停留基板，以匹配加热过程。 涂覆显影装置包括待涂覆抗蚀剂的待机模块，衬底在显影处理之前停留。 返回单元将布置在待机模块中的基板返回到曝光装置的导入口，并从曝光装置的输出端口接收基板，然后返回多个加热模块的所选热模块。 计算单元计算从待机模块发出最前面的衬底的定时。 控制单元基于计算出的计算时间控制返回单元从待机模块发出基板。