公开(公告)号：KR1020150107638A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：KR1020150033589

申请日：2015-03-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/02049 ,  H01L21/02054

Abstract: 웨이퍼(W) 상의 액체를 확실하게 제거할 수 있고, 또한 운전 비용의 저감을 도모한다.
분리 재생 장치(30)는 불소 함유 유기 용제에 용해되지 않으며 비중이 가벼운 액체와, 제1 비점을 갖는 제1 불소 함유 유기 용제와, 제1 비점보다 높은 제2 비점을 갖는 제2 불소 함유 유기 용제를 갖는 혼합 액체를 생성하는 혼합 배액 탱크(31)(혼합액 생성부)와, 혼합액 중 제1 불소 함유 유기 용제와 제2 불소 함유 유기 용제를 제1 비점과 제2 비점 사이의 온도로 가열하여 기체형의 제1 불소 함유 유기 용제와 액체형의 제2 불소 함유 유기 용제로 분리하는 증류 탱크(34)와, 증류 탱크(34)로부터의 제1 불소 함유 유기 용제를 액화하여 저류하는 제1 탱크(35)와, 증류 탱크(34)로부터의 제2 불소 함유 유기 용제를 저류하는 제2 탱크(36)를 구비하고 있다. 제1 탱크(35) 및 제2 탱크(36)에, 잉여압을 혼합 배액 탱크(31)측으로 유도하는 잉여압 복귀 라인(51, 53, 55)이 마련되어 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是可靠地去除晶片上的液体（W），并降低运行成本。 一种分离和重新制备装置（30）包括：用于产生不溶于含氟有机溶剂并且其比重轻的液体的混合废液罐（混合液体产生部分）和具有 具有第一沸点的第一含氟有机溶剂和第二沸点高于第一沸​​点的第二含氟有机溶剂; 用于将混合液体中的第一含氟有机溶剂和第二含氟有机溶剂以气态分离成第一含氟有机溶剂的液体（34）和液体中的第二含氟有机溶剂 通过在第一沸点和第二沸点之间的温度下加热形成; 用于从所述蒸馏罐（34）液化和储存所述第一含氟有机溶剂的第一罐（35）; 以及用于从所述蒸馏罐（34）储存所述第二含氟有机溶剂的第二罐（36）。 准备剩余的压力返回管线（51,53,55）以对第一罐（35）和第二罐（36）中的混合废液箱（31）产生多余的压力。

公开(公告)号：KR1020130138122A

公开(公告)日：2013-12-18

申请号：KR1020130064214

申请日：2013-06-04

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 고시겐타로 ,  미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: B08B3/10 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109

Abstract: The present invention relates to a substrate processing apparatus, a substrate processing method, a fluid supplying method and a storage medium. According to the present invention, the substrate processing apparatus processes a container treating a substrate; a fluid supplying source; a static pressure supplying the flow path; a boosting pressure supplying the flow path; and a control unit changing the boosting pressure supplying the flow path.

Abstract translation: 本发明涉及基板处理装置，基板处理方法，流体供给方法和存储介质。 根据本发明，基板处理装置处理基板的容器; 流体供应源; 供给流路的静压; 提供流路的增压压力; 以及控制单元改变供应流路的升压压力。

公开(公告)号：KR101061928B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020060093331

申请日：2006-09-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지 ,  이이노다다시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/42 ,  G03F7/423

Abstract: 본 발명은 표면에 난박리성의 경화층을 갖는 레지스트막을, 기판에 손상을 주지 않고서, 기판으로부터 효과적으로 제거할 수 있는 레지스트막의 제거 방법을 제공하는 것이다.
이를 위하여, 기판(60) 상에 형성되고 표면에 경화층(63a)을 갖는 레지스트막(63)의 제거 방법을, 레지스트막(63)의 표면에 보호막(64)을 피복하는 공정과, 보호막(64)으로 피복된 레지스트막(63)에 포핑을 발생시키는 공정과, 포핑이 발생한 레지스트막(63')과 보호막(64)을 수용성으로 변성시키는 공정과, 수용성으로 변성된 레지스트막(63") 및 보호막(64')을, 순수에 의한 세정에 의해 기판(60)으로부터 제거하는 공정을 포함한다.

Abstract translation: 本发明提供一种抗蚀剂膜的除去方法，该抗蚀剂膜能够从基板上有效地除去具有可剥离表面的硬化层的抗蚀剂膜而不损伤基板。

公开(公告)号：KR1020060132848A

公开(公告)日：2006-12-22

申请号：KR1020067012237

申请日：2005-10-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지 ,  우치다노리타카 ,  다나카사토루 ,  오노히로키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: F26B5/005 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

Abstract: Disclosed is a substrate processing apparatus comprising a spin chuck (3) for holding and rotating a substrate (W). The apparatus is also provided with a process liquid supply system (11 and so on) for supplying a process liquid to the substrate rotated by the spin chuck. The apparatus further comprises a fluid nozzle (12) for supplying a drying fluid, which has a higher volatility than the process liquid, to the substrate, and an inert gas nozzle (13) for supplying an inert gas to the substrate. The apparatus is still further provided with a nozzle moving mechanism (15, 52 and so on) for moving these nozzles (12, 13) radially outward with respect to the rotational center (Po) of the substrate while keeping the inert gas nozzle closer to the rotational center of the substrate than the fluid nozzle.

Abstract translation: 公开了一种基板处理装置，其包括用于保持和旋转基板（W）的旋转卡盘（3）。 该设备还设置有用于将处理液体供应到由旋转卡盘旋转的基板的处理液体供应系统（11等）。 该设备还包括用于将具有比处理液体更高的挥发性的干燥流体供应到基底的流体喷嘴（12）和用于向基底供应惰性气体的惰性气体喷嘴（13）。 该装置还设置有用于相对于衬底的旋转中心（Po）径向向外移动这些喷嘴（12,13）的喷嘴移动机构（15,52等），同时保持惰性气体喷嘴更接近 基体的旋转中心比流体喷嘴的旋转中心。

公开(公告)号：KR1020060024832A

公开(公告)日：2006-03-17

申请号：KR1020060017330

申请日：2006-02-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 니시무라에이이치 ,  오리이다케히코

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02063 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02054 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67201

Abstract: 기판의 부착물을 제거하고 청정한 기판을 수득할 수 있는 기판의 표면 처리 방법을 제공한다.
웨이퍼(W)의 표면에 형성된 절연막(301)에 레지스트층(302)을 이용하여 소스 드레인 콘택트용 콘택트 홀(303)이 형성된 웨이퍼(W)에, SPM 세정을 수행하여 금속 컨태미네이션(305)을 제거하고, DHF 세정을 수행하여 웨이퍼(W)상에 발생된 자연 산화막을 제거하고, 스핀 건조를 수행한다. 다음으로, 웨이퍼(W)를 암모니아 및 불화 수소 가스의 혼합 기체에 소정 압력 하에서 폭로하고, 워터마크(307)를 형성하는 SiO
2 로부터 변질된 착게 구조를 갖는 생성물을 소정 온도로 가열한다.

公开(公告)号：KR101824809B1

公开(公告)日：2018-02-01

申请号：KR1020160098118

申请日：2016-08-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오노히로키 ,  유겐 ,  오리이다케히코 ,  미츠오카가즈유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/60

Abstract: 본발명은고압유체와접촉시켜기판에부착된액체를제거하는처리를실시하는과정에서, 기판에파티클이부착되기어려운기판처리장치등을제공하는것을목적으로한다. 본발명의기판처리장치에서는, 기판(W) 표면의건조방지용액체를제거하는처리가행해지는처리용기(31) 안에고압유체를공급할때, 유체공급로(351)에설치된차단부를개방하고, 유량조정부(354)에의해유량을조정한상태로개폐밸브(352)를개방하여처리용기(31)에고압유체를도입하고[또는원료유체를처리용기(31) 안에서고압유체로변화시켜], 기판(W) 표면으로부터건조방지용액체를제거하는단계와, 이어서상기차단부를차단상태로하는한편, 개폐밸브(352)와감압밸브(342)를개방하고, 처리용기(31)에접속된배출로(341)를통해유체공급로(351)와처리용기(31)를함께감압하는단계와, 그후 상기기판(W)을그 처리용기(31)로부터반출하는단계를실행하도록제어신호를출력한다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种基板处理装置等，该基板处理装置等在使基板与高压流体接触的处理中除去附着在基板上的液体时，使粒子难以附着于基板上.SOLUTION ：基板处理方法包括以下步骤：当向处理容器31的内部供给高压流体时，打开设置在流体供给路径351处的阻挡部分，在该处理容器31中进行用于去除表面上干燥的液体的处理 进行基板W的开闭操作，通过流量调整部354调整流量，开闭阀352，将高压流体导入处理容器31（或者将原料流体变更为处理容器31内的高压流体 处理容器31），并从基板W的表面除去干燥防止用液体， 一边使阻断部成为阻断状态，一边经由与处理容器31连接的排气通路341对流体供给路径351和处理容器31进行减压，从而打开开闭阀352和减压阀342， 然后从处理容器31输送基板W.输出控制信号以执行这些步骤。

公开(公告)号：KR101668212B1

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：KR1020160021175

申请日：2016-02-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미즈타니노부타카 ,  오모리츠타에 ,  오리이다케히코 ,  후지타아키라

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L21/683

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은린스액을건조할때, 피처리기판의볼록형부가도괴되는것을방지하는것이가능한액처리방법, 액처리장치및 기억매체를제공하는것을목적으로한다. 기판본체부(W)와, 기판본체부(W)에돌출된복수의볼록형부(W)를가지며, 기판본체부(W) 위에있어서볼록형부(W)의사이에하지면(W)이형성된피처리기판(W)에대하여표면처리를행함으로써, 피처리기판(W)의하지면(W)이친수화되고, 볼록형부(W)의표면이발수화된상태가되도록한다. 다음에, 표면처리된피처리기판(W)에대하여린스액을공급한다. 그후, 피처리기판(W)으로부터린스액을제거한다.

公开(公告)号：KR1020160048652A

公开(公告)日：2016-05-04

申请号：KR1020150142419

申请日：2015-10-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오노히로키 ,  다노우치게이지 ,  미츠오카가즈유키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  H01L51/00 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67207 ,  H01L21/67248

Abstract: 본발명은, 초임계처리중에웨이퍼(W)에있어서패턴도괴를방지하는것을목적으로한다. 기판처리방법은, 액처리유닛(2)의외측챔버(21) 내에있어서, 웨이퍼(W)에대하여린스액, IPA, 제1 불소함유유기용제, 제2 불소함유유기용제를공급하는공정과, 웨이퍼(W)를초임계유닛(3)의처리용기(3A)로반송하는공정과, 처리용기(3A) 내에있어서웨이퍼(W)에대하여초임계상태의고압유체로한 초임계처리용불소함유유기용제를공급하는공정을구비한다. 적어도 IPA 공급시에외측챔버(21) 내에저습도 N가스를공급하여, 외측챔버(21) 내부를저습도 N가스분위기로하여 IPA 중으로의흡습을방지한다.

Abstract translation: 本发明是为了防止在超临界处理中晶​​片（W）上的图案塌陷。 基板处理方法包括以下处理：在液体处理单元（2）的外室中向晶片（W）供应冲洗溶液，IPA，第一含氟有机溶剂和第二含氟有机溶剂; 运送晶片（W）超临界机组（3）的处理容器（3A）; 并将用于超临界处理的含氟有机溶剂作为超临界状态的高压流体提供给处理容器（3A）中的晶片（W）。 在供给至少IPA时，将低湿度N_2气体供给到外室（21），并且使外室（21）的内部成为低湿度N_2气体气氛，以防止IPA吸湿 。

公开(公告)号：KR101572746B1

公开(公告)日：2015-11-27

申请号：KR1020137031389

申请日：2012-05-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  이와시타미츠아키 ,  도시마다카유키 ,  하야시히데카즈 ,  사토요헤이 ,  오쿠치히사시 ,  도미타히로시

IPC: H01L21/302

Abstract: [과제] 기판의패턴내에들어간건조방지용의액체를비교적짧은시간에제거할수 있는기판처리방법등을제공한다. [해결수단] 표면에요철패턴이형성되고, 그오목부내에들어가도록상기패턴을덮는건조방지용의액체가부착된기판(W)을처리용기(31)내에반입하며, 이어서, 기판(W)을가열하고, 가압용의기체또는고압상태의유체를처리용기(31)내에공급하여, 패턴붕괴를야기하는정도까지건조방지용의액체가기화하기전에이 처리용기(31)내에고압분위기를형성하며, 상기패턴의오목부내에들어간상태그대로건조방지용의액체를고압상태로한 후, 처리용기(31)내의유체를고압상태또는기체상태로배출한다.

公开(公告)号：KR1020150107663A

公开(公告)日：2015-09-23

申请号：KR1020150034553

申请日：2015-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/02101 ,  H01L21/02049 ,  H01L21/02054 ,  H01L21/02079

Abstract: 본 발명은 웨이퍼(W) 상의 액체를 확실하게 제거할 수 있고, 또한 운전 비용의 저감을 도모하여, F 이온을 제거하는 것을 목적으로 한다.
분리 재생 장치는 제1 비점을 갖는 제1 불소 함유 유기 용제와, 제1 비점보다 낮은 제2 비점을 갖는 제2 불소 함유 유기 용제를 갖는 혼합 기체를 생성하는 초임계 처리 유닛(3)과, 제1 비점과 제2 비점 사이의 온도를 갖는 온수(34W)를 수납하고, 혼합 기체를 이 온수(34W) 중에 투입하여, 액체형의 제1 불소 함유 유기 용제와 기체형의 제2 불소 함유 유기 용제로 분리하는 증류 탱크(34)를 구비하고 있다. 초임계 처리 유닛(3)으로부터의 혼합 기체를 증류 탱크(34)로 유도하는 도입 라인(50)이 설치되고, 이 도입 라인(50)의 선단(50a)은 온수(34W) 중에 배치되어 있다.

Abstract translation: 本发明的目的是可靠地去除晶片（W）上的液体，以降低操作成本和去除F离子。 一种分离和重新制造装置包括：超临界处理单元（3），用于产生包含具有第一沸点的第一含氟有机溶剂和第二含氟有机溶剂的混合气体，第二含氟有机溶剂的第二沸点低于第一沸点 点; 以及用于储存温度在第一沸点和第二沸点之间的热水（34W）的蒸馏槽（34），将混合气体插入热水（34W）中，将混合气体分离成第一含氟 液态的有机溶剂和气态的第二含氟有机溶剂。 安装用于从超临界处理单元（3）向蒸馏槽（34）引入混合气体的引入管线（50），将引入管线（50）的前端（50a）配置在热水（34W） ）。