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公开(公告)号：KR101531666B1
公开(公告)日：2015-06-25
申请号：KR1020130109426
申请日：2013-09-12
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본발명은가속이온을이용한저온플라즈마잠입이온으로다양한필름의표면을가공처리하는장치및 방법에관한것이다. 본발명은필름상에표면평탄도및 증착면의선택적높이조절을위한플라즈마잠입이온가공장치와방법을제공하며, 본발명의장치와방법을적용함으로써필름을후 공정에맞게진공상태에서연마하는것이가능하므로대량생산에용이하며, 여러다양한분야, 특히기능성또는디스플레이분야필름에사용이가능하다.
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公开(公告)号：KR1020150030336A
公开(公告)日：2015-03-20
申请号：KR1020130109426
申请日：2013-09-12
Applicant: 한국전기연구원
Abstract: 본발명은가속이온을이용한저온플라즈마잠입이온으로다양한필름의표면을가공처리하는장치및 방법에관한것이다. 본발명은필름상에표면평탄도및 증착면의선택적높이조절을위한플라즈마잠입이온가공장치와방법을제공하며, 본발명의장치와방법을적용함으로써필름을후 공정에맞게진공상태에서연마하는것이가능하므로대량생산에용이하며, 여러다양한분야, 특히기능성또는디스플레이분야필름에사용이가능하다.
Abstract translation: 本发明涉及使用加速离子处理具有低温渗透等离子体离子的各种膜的表面的装置和方法。 本发明提供了一种等离子体渗透离子处理装置和薄膜上的蒸发表面的表面平坦度和选择性高度调节方法。 通过应用本发明的装置和方法，本发明对于批量生产是有用的，因为可以根据方法对膜进行抛光，并且可以在各种领域的膜中获得，特别是例如 功能或显示领域。
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公开(公告)号：KR101416629B1
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：KR1020120035781
申请日：2012-04-06
Applicant: 한국전기연구원
IPC: G03F7/26 , G03F7/00 , H01L21/027
Abstract: 본 발명은 미세 패턴을 갖는 제품의 제조 방법에 관한 것으로서, 공정이 간단하면서도 종래의 공정 결함 문제가 해소될 수 있고, 불량률 감소, 원가 절감, 생산 수율의 향상이 가능해지는 판상 제품의 제조 방법을 제공하는데 주된 목적이 있는 것이다. 또한 본 발명은 낮은 생산 단가로 저가 제품을 생산하는데 적합하며, 견고하고 다양한 시각적 효과를 제공하는 기능성 다층 구조의 미세 패턴을 형성할 수 있는 방법을 제공하는데 그 목적이 있는 것이다. 상기한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 빛에 반응하는 광 반응 수지를 기판 위에 도포한 뒤, 기판 위에 도포된 광 반응 수지의 선택된 영역에 빛을 조사하여 빛이 조사된 부분과 빛이 조사되지 않은 부분의 투명도 차이를 유발함으로써, 기판 위의 수지층 내부에 투명도 차이에 의해 구분되는 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴을 갖는 판상 제품의 제조 방법을 제공한다.
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公开(公告)号：KR1020140028677A
公开(公告)日：2014-03-10
申请号：KR1020120095459
申请日：2012-08-30
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: H01L21/0273 , B82B1/001 , B82B3/0019
Abstract: The present invention relates to a method of manufacturing a mold for forming a nano-micro composite pattern, and provides a method of manufacturing a mold for forming a nano-micro composite pattern at a low process cost without an exposure process. The present invention provides a method of manufacturing a mold used to form a nano-pattern and a micro pattern, the method including: manufacturing a substrate for a mold having the micro pattern; manufacturing a nano-pattern substrate having a nano-pattern; forming a nano-pattern mold layer by coating a resin on the nano-pattern of the nano-pattern substrate and curing the resulting structure to laminate an adhesive layer on the nano-pattern mold layer; bonding the nano-pattern mold layer of the nano-pattern substrate onto the micro pattern of a substrate for the mold using the adhesive layer; and manufacturing a mold for forming a nano-composite pattern of a nan-pattern mold layer on a micro pattern region on the substrate for the mold by separating the nano-pattern substrate from the nano-pattern mold layer to remove the separated nano-pattern substrate. [Reference numerals] (AA) Manufacture substrate (for mold) of master pattern having micro pattern; (BB) Align nano-pattern substrate on micro pattern; (CC) Bond nano-pattern mold layer; (DD) Remove nano-pattern substrate-complete master mold; (EE) Coat polymer resin on master mold and transfer pattern; (FF) Remove master mold-complete polymer mold; (GG) Manufacture nano-pattern substrate having nano-pattern; (HH) Form nano-pattern mold layer; (II) Laminate nano-pattern mold layer
Abstract translation: 本发明涉及一种制造用于形成纳米微复合图案的模具的方法，并且提供了一种在没有曝光工艺的情况下以低工艺成本制造用于形成纳米微复合图案的模具的方法。 本发明提供一种制造用于形成纳米图案和微图案的模具的方法，该方法包括：制造具有微图案的模具的基板; 制造具有纳米图案的纳米图案基板; 通过在纳米图案衬底的纳米图案上涂覆树脂并固化所得结构以在纳米图案模制层上层压粘合剂层来形成纳米图案模制层; 使用粘合剂层将纳米图案基板的纳米图案模制层结合到用于模具的基板的微图案上; 并且通过从纳米图案模制层分离纳米图案衬底来制造用于在用于模具的衬底上的微图案区域上形成纳米图案模制层的纳米复合图案的模具，以去除分离的纳米图案 基质。 （附图标记）（AA）具有微图案的主图案的制造用基板（用于模具） （BB）微纳米图案衬底对准; （CC）Bond纳米图案模层; （DD）去除纳米图案基材完整的母模; （EE）在模具和转印图案上涂覆聚合物树脂; （FF）去除模具成型聚合物模具; （GG）制造具有纳米图案的纳米图案基板; （HH）形式纳米图案模层; （II）层压纳米图案模层
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35.发明公开미세 패턴 형성용 고분자 몰드의 제조 방법, 이에 의해 제조되는 미세 패턴 형성용 고분자 몰드, 및 이를 이용한 미세 패턴 형성 방법 有权用于形成精细图案的聚合物模具的制造方法，由其制造的聚合物模具以及使用SMAE形成精细图案的方法
公开(公告)号：KR1020130138609A
公开(公告)日：2013-12-19
申请号：KR1020120062344
申请日：2012-06-11
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: B29C33/3842 , B29C33/40 , B29C33/42 , B29C33/44 , B29C33/56 , B29C35/02 , B29C2033/385 , B29K2829/04 , B29L2031/757
Abstract: The present invention provides a polymer mold made of a novel material capable of solving problems of an existing polymer mold using PDMS or a UV curable resin, and a method of manufacturing the polymer mold. For the purpose, the present invention provides the method of manufacturing the polymer mold for fine pattern formation comprising: a process of providing a master mold in which nanopatterns or microparttern to be printed on a substrate are formed; a process of forming a PVC mold layer by coating the surface of the master mold, in which the pattern is formed, with a PVC aqueous solution and curing the solution; a process of laminating a mold base layer in a state in which a junction layer is placed on the PVC mold layer; and a process of completing an integrated polymer mold comprising the PVC mold layer, junction layer and mold base layer by separating the master mold. [Reference numerals] (AA) Provide a master mold;(BB) Spray PVC aqueous solutions and cure them at a temperature of 70-90°C;(CC) Attach a film for a mold base on which a primer layer is coated;(DD) Separate the master mold;(EE) thermal treatment at a temperature of 130-150°C
Abstract translation: 本发明提供一种由能够解决使用PDMS或UV固化树脂的现有聚合物模具的问题的新型材料制成的聚合物模具，以及制造聚合物模具的方法。 为此，本发明提供了制造精细图案形成用聚合物模具的方法，其特征在于，包括：提供母模，其中形成有印刷在基材上的纳米图案或微粒; 通过用PVC水溶液涂布形成图案的母模的表面并固化该溶液来形成PVC模具层的工艺; 将结合层置于PVC模层上的状态下层叠模底基层的工序; 以及通过分离母模来完成包括PVC模层，接合层和模底基层的集成聚合物模具的工艺。 （标号）（AA）提供母模;（BB）喷涂PVC水溶液，并在70-90℃的温度下固化;（CC）在其上涂覆底漆层的模具底座上安装薄膜; （DD）在130-150℃的温度下分离母模;（EE）热处理
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公开(公告)号：KR1020130128117A
公开(公告)日：2013-11-26
申请号：KR1020120051921
申请日：2012-05-16
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/677 , B65G49/07 , B65G54/02 , B60L13/10
CPC classification number: H01L21/67712 , B60L13/10 , B65G54/02 , F16H49/005 , H01L21/67784
Abstract: The present invention relates to a noncontact magnetic levitation stage for transferring a substrate, and, more specifically, to a noncontact magnetic levitation stage for transferring a substrate to guide the rise and propulsion of a vehicle at a constant speed loaded with substrates vertically and horizontally stood. The present invention is contrived to solve the problems of dust and vibration inside a vacuum chamber of process equipment in the industrial fields of displays and semiconductors and to improve production efficiency by achieving the objective of an inline method since the high precision stage position is controllable. The present invention provides a noncontact magnetic levitation stage for transferring a substrate to guide and propel a vehicle at a constant speed loaded with substrates vertically and horizontally erected by using a magnetic levitation method guiding and rotating an object which is risen by the magnetic force generated by electromagnets or permanent magnets without outgasing even in a deposition process implemented in a high vacuum condition. [Reference numerals] (AA) Depositing material
Abstract translation: 本发明涉及一种用于转移衬底的非接触磁悬浮台，更具体地涉及用于传送衬底以引导车辆的升高和推进的非接触磁悬浮台，该载体以恒定速度加载垂直和水平的衬底 。 本发明旨在解决显示器和半导体工业领域的工艺设备的真空室内的灰尘和振动问题，并且通过实现高精度级位置可控制的在线方法的目的来提高生产效率。 本发明提供了一种非接触式磁悬浮台，用于传送基板，以一定的速度引导和推进车辆，该载荷通过使用引导和旋转物体的磁悬浮方法垂直和水平地架设，所述磁悬浮方法引导和旋转由由 电磁体或永磁体，即使在高真空条件下实施的沉积工艺中也不会出现异常现象。 （附图标记）（AA）沉积材料
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公开(公告)号：KR1020120065015A
公开(公告)日：2012-06-20
申请号：KR1020100126316
申请日：2010-12-10
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: G03F7/0035 , B29C59/04 , B29C59/16 , B82B3/0009 , G03F7/0002 , G03F7/20
Abstract: PURPOSE: An anti fingerprint film with nano-pattern and method for fabricating the same are provided to prevent bodily secretions from remaining on the surface of a film. CONSTITUTION: An anti fingerprint film with nano-pattern and a method for fabricating the same formed are as follows. An UV(Ultraviolet) imprint roll-to-roll process is performed by using a cylindrical mold of nanostructure. A nano pattern(300) corresponding to the nanostructure is formed in the surface of a film. The nanostructure of the surface of the cylindrical mold is formed by a plasma treatment in a vacuum chamber.
Abstract translation: 目的：提供具有纳米图案的防指纹膜及其制造方法，以防止身体分泌物残留在膜的表面上。 构成：具有纳米图案的防指纹膜及其制造方法如下。 通过使用纳米结构的圆柱形模具进行UV（UV）压印卷对卷工艺。 在膜的表面形成对应于纳米结构的纳米图案（300）。 圆柱形模具的表面的纳米结构通过在真空室中进行等离子体处理而形成。
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公开(公告)号：KR101048057B1
公开(公告)日：2011-07-11
申请号：KR1020090113633
申请日：2009-11-24
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/3065 , H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: H01J37/08 , C23C14/48 , H01J37/305 , H01J37/32009
Abstract: 본 발명은 가속 이온을 이용한 저온 플라즈마 잠입 이온으로 다양한 종류의 시편을 가공 처리하는 장치와 방법에 관한 것이다.
본 발명의 플라즈마 잠입 이온을 이용한 가공장치는 챔버 내부에 원통형 가공물이 놓여짐과 아울러 원통형 가공물 주위로 저온 플라즈마가 둘러싸게 되고, 다중 슬롯을 갖는 가공물 덮개가 원통형 가공물 주위에 씌워지면서 플라즈마로부터 분리시키게 되며, 스퍼터링을 유발시키기에 충분한 음전위가 원통형 가공물과 가공물 덮개에 부가됨으로써, 플라즈마로부터 나온 이온이 덮개와 플라즈마 사이에 형성된 쉬스층 안으로 가속되고, 슬롯을 통과하여 원통형 가공물에 충돌하게 되어 원통형 가공물의 표면 거칠기를 감소시키는 방식으로 이루어진다.
이러한 본 발명의 가공 장치 및 방법은 대면적의 원통형 기판, 특히 마이크로 또는 나노 패턴 전사 기술을 위한 기판의 표면을 수 나노 미터의 표면 거칠기로 만드는데 효과가 있다.
그리고, 본 발명의 방법은 단일 또는 다중 챔버 내에서 플라즈마 세정, 표면 활성, 표면 연마, 건식 식각, 증착, 플라즈마 잠입 이온 주입 및 증착 등의 공정을 수행할 수 있다.
플라즈마, 잠입, 이온, 표면처리, 스퍼터링, 챔버, 가공물 덮개, 슬롯, 가속, 가공Abstract translation: 本发明涉及使用加速离子使用低温等离子体流入离子处理各种样品的设备和方法。
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公开(公告)号：KR1020110067790A
公开(公告)日：2011-06-22
申请号：KR1020090124537
申请日：2009-12-15
Applicant: 한국전기연구원
IPC: H01L21/68 , H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70716 , G03F7/24 , G03F7/703 , G03F7/70725 , G03F7/70758 , G03F7/70791 , G03F7/70816 , G03F7/70825 , G03F7/70841 , H01L21/68 , G03F7/709
Abstract: PURPOSE: A cylindrical magnetic levitation stage and a lithography are provided to efficiency process a pattern of a nano size on the surface of a cylinder by actively controlling the position of the device with error tolerance of several nano meters. CONSTITUTION: In a cylindrical magnetic levitation stage and a lithography, a rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit(13) support a cylindrical mold from both sides and is rotated or linearly moved through a magnetic levitation force and magnetic transfer force. a rotation cylindrical fixing unit and a liner transfer cylinder fixing unit are arranged under the rotation cylindrical driving unit and a liner transfer cylinder driving unit and supports the cylindrical driving unit with contactless. A magnet array and an electromagnetic array are mutually reacted to generate the magnetic levitation force and magnetic transfer force.
Abstract translation: 目的：提供圆柱形磁悬浮台和光刻技术，以通过主动控制具有几纳米误差的装置的位置来有效地处理气缸表面上的纳米尺寸图案。 构成：在圆柱形磁悬浮台和光刻中，旋转圆柱形驱动单元和衬垫传动滚筒驱动单元（13）从两侧支撑圆柱形模具，并通过磁悬浮力和磁力传递力旋转或线性移动。 旋转圆柱形固定单元和衬里传送圆筒固定单元布置在旋转圆柱形驱动单元和衬垫传送滚筒驱动单元的下面，并且支撑具有非接触式的圆柱形驱动单元。 磁体阵列和电磁阵列相互反应，产生磁悬浮力和磁力传递力。
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公开(公告)号：KR100995700B1
公开(公告)日：2010-11-22
申请号：KR1020080067915
申请日：2008-07-14
Applicant: 한국전기연구원
CPC classification number: H01J37/3266 , H01J37/321 , H01J37/32706 , H01J37/32761 , H01J37/34
Abstract: 본 발명은 3차원 표면형상을 갖는 원통형 가공물을 위한 유도 결합형 플라즈마 공정 챔버 및 방법에 대한 것으로서, 더욱 상세하게는 유도 결합형 플라즈마 소스의 내부 RF 안테나 역할을 하는 원통형 가공물의 일측에는 임피던스 매칭 네트워크를, 타측에는 종단 축전기를 통하여 RF 전원과 연결함으로써, 낮은 플라즈마 오염, 기판 근처의 균일한 고밀도 플라즈마를 형성, 기판으로부터 발생되는 2차전자의 구속이 가능하며, 3차원 선형 반도체 장치, 평판 또는 3차원 구조의 마이크로 및 나노 패턴을 갖는 금속, 유리, 세라믹, 고분자 기판 등에 대한 플라즈마 공정의 적용을 가능하게 하는 3차원 표면형상을 갖는 원통형 가공물을 위한 유도 결합형 플라즈마 발생 공정 챔버 및 방법에 관한 것이다.
이를 위해,
접지되어 있으며 도전체로 구성되는 진공 챔버의 외벽;
상기 진공챔버의 외벽과 절연 연결된 가공물 지지 수단;
상기 가공물 지지 수단에 장착되며, 일단은 임피던스 매칭 네트워크를 통하여, 타단은 종단 커패시터를 통하여 외부 RF 전력원과 연결되는 원통형 가공물; 및
상기 외벽의 내측에 위치하여 가공물을 둘러싸는 기체 분사 전극;
을 포함하여 구성되는 3차원 표면형상을 갖는 원통형 가공물을 위한 유도 결합형 플라즈마 발생 공정 챔버를 제공한다.
유도 결합형 플라즈마, 용량 결합형 플라즈마, 내장형 안테나, 대면적, 3차원 형상 기판, RF, 세정, 에칭, 증착, 매칭 네트워크, 공정 챔버.
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