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公开(公告)号：KR1020150110953A
公开(公告)日：2015-10-05
申请号：KR1020140033565
申请日：2014-03-21
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은캔틸레버마운트시 발생되는오차를상쇄하기위해탐침현미경의동작순서중, 광학빔정렬단계에해당하는것으로 PSPD 검출기의원점정렬이후, PSPD 검출기를새로운좌표를생성하고, 새로운좌표로변환또는보정하여탐침현미경의정밀도를향상시키기위한방법, 이를이용한탐침현미경을제공하는데에있다. 이를위하여일단은분석대상인샘플의표면특성과연동되는팁이구비되고샘플의원자와의힘에의해동작변위, 동작주파수및 휨정도중 적어도하나가변화하는캔틸레버; 캔틸레버의상부면에입사되는광학빔을생성하는광원; 광원과캔틸레버중 적어도하나를이동또는진동시켜서광학빔의입사위치를이동시키는구동부; 캔틸레버에서반사된광학빔을검출하여, 이동되는광학빔의입사위치에대응되는제1신호를제1좌표상에서생성하는검출기; 및검출기에서검출된제1신호를토대로제2좌표를산출하는좌표산출부;를포함하고, 산출된제2좌표를토대로캔틸레버의동작변위, 동작주파수및 휨정도중 적어도하나를측정하여, 샘플의표면특성을분석하는것을특징으로하는검출기의좌표보정이가능한탐침현미경이제공된다. 이에따르면정밀한탐침현미경구현이가능해지는효과가있다. 또한자동으로검출기의좌표를보정하는것이가능하도록구성할수 있는효과가있다.
Abstract translation: 本发明的目的是在操作探针显微镜的顺序之间对应于光束对准步骤，以消除在安装悬臂时产生的错误。 本发明的目的是提供一种用于通过在将PSPD对准原始位置并且将PSPD的坐标转换为新的位置敏感光电检测器（PSPD）的新坐标之后提高探针显微镜的精度的方法 坐标或校正坐标，并提供使用该坐标的微探针。 为了实现这一点，本发明提供了一种探针显微镜，其包括悬臂，其一端具有与作为被分析对象物的样品的表面特性互锁的尖端，并且其中运动位移，运动频率 并且弯曲度由样品的原子的功率改变; 发射照射到悬臂的顶表面的光束的光源; 驱动单元，通过移动或振动光源和悬臂之间的至少一个来移动光束的照射位置; 检测装置，通过检测由悬臂反射的光束，产生对应于在第一坐标处移动的光束的照射位置的第一信号; 以及坐标计算单元，基于由检测装置检测出的第一信号来计算第二坐标。 能够校正检测装置的坐标的探针显微镜的特征在于基于计算出的第二坐标来测量运动位移，运动频率和弯曲度中的至少一个，然后分析样品的表面性质。 同样，得到精确的探针显微镜的效果。 此外，本发明获得了自动校正检测装置的坐标的效果。
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公开(公告)号：KR1020150092636A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：KR1020140013236
申请日：2014-02-05
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: G02B21/34
Abstract: 본 발명은 고배율 현미경의 팁 고정장치에 관한 것으로, 고배율 현미경에서 전자 방출원으로 사용되는 팁이 안착되는 팁홀더, 상기 팁홀더에 안착되는 팁을 덮는 커버, 및 상기 커버를 상기 팁홀더에 고정시키는 고정수단을 포함하여, 피검사체인 고배율 현미경의 팁을 견고하게 고정시킴으로써 팁을 움직여가면서 다양한 각도에서 관찰할 수 있게 된다.
Abstract translation: 本发明涉及一种用于高分辨率显微镜的尖端固定装置，包括：尖端保持器，其中在高分辨率显微镜中用作电子发射源的尖端就座; 覆盖安装在所述尖端保持器上的尖端的盖子; 以及固定单元，用于将盖固定到尖端保持器。 因此，用于高分辨率显微镜的顶端固定装置使得用户能够通过在尖端牢固地固定时移动尖端，以不同的角度检查高分辨率显微镜的尖端作为检查对象。
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公开(公告)号：KR101350704B1
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：KR1020110142613
申请日：2011-12-26
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: H01J37/317 , B82B3/0023 , B82B3/0076 , Y10S977/84 , Y10S977/842 , Y10S977/901
Abstract: 본 발명의 목적은 이온빔을 이용하여 일차원 또는 이차원 나노 구조물을 굽힘 변형시키되, 나노 구조물의 회전 등과 같은 움직임을 필요로 하지 않으면서 굽힘 방향을 바꿀 수 있도록 하는, 이온빔을 이용한 일차원 또는 이차원 나노 구조물의 무운동 굽힘 방법을 제공함에 있다.
본 발명의 이온빔을 이용한 일차원 또는 이차원 나노 구조물의 무운동 굽힘 방법은, 이온빔(10)을 조사하여 일차원 또는 이차원 형상의 나노 구조물(20)을 구부러뜨리는 굽힘 방법으로서, 상기 이온빔(10)의 에너지에 따라 상기 나노 구조물(20)의 굽힘 방향이 제어되거나, 또는 상기 나노 구조물(20)의 굵기 또는 두께에 따라 상기 나노 구조물(20)의 굽힘 방향이 제어되는 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR101158284B1
公开(公告)日：2012-06-19
申请号：KR1020100019129
申请日：2010-03-03
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020100019587A
公开(公告)日：2010-02-19
申请号：KR1020080075397
申请日：2008-08-01
Applicant: 한국표준과학연구원
CPC classification number: G01Q70/12
Abstract: PURPOSE: An SPM(Scanning Probe Microscope) nanoprobe and a manufacturing method thereof for accurately measuring frictional force and adhesive force in a pattern are provided to control the ratio of a diameter of the deposit of a sphere and the diameter of the nano-needle. CONSTITUTION: A probe comprises a structure in which the deposit of a sphere is formed by particle beam induced deposition in the tip-end part of a nano-needle(20). A sectional diameter of the nano-needle and diameter of a circular deposit are range from 8.5 to 1.5. The diameter of the deposit of sphere is 15 nm to 1,000 nm range. In the particle beam conduction evaporation, the particle acceleration voltage is 50 kV range to 5. A particle density researched in the tip-end part is 400 to 10000.
Abstract translation: 目的：提供用于精确测量图案中的摩擦力和粘附力的SPM（扫描探针显微镜）纳米探针及其制造方法，以控制球体沉积物的直径与纳米针的直径之比。 构成：探针包括其中通过在纳米针（20）的前端部分中的粒子束感应沉积形成球体沉积物的结构。 纳米针的截面直径和圆形沉积物的直径为8.5至1.5。 球体沉积物的直径为15nm至1000nm范围。 在粒子束传导蒸发中，粒子加速电压为50kV至5.尖端部分研究的粒子密度为400〜10000。
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公开(公告)号：KR100873154B1
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：KR1020080009662
申请日：2008-01-30
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/72 , H01L21/0274
Abstract: The repair device of photomask and repair method using the same are provided to save the time and performs all the processes when checking and replacing the atomic force microscope probe. The photomask repair device comprises the atomic force microscope(112) for repair, the electron microscope(116), and the atomic force microscope for imaging. The atomic force microscope for repair repairs the defection portion of the photomask(101). The electron microscope guides the atomic force microscope for repair to be positioned in the defection portion of photomask. The electron microscope observes the repair process of photomask by the atomic force microscope for repair. The atomic force microscope for imaging images the shape of photomask after repair in the In-situ.
Abstract translation: 提供光掩模修复装置及其修复方法，以便在检查和更换原子力显微镜探针时节省时间并执行所有过程。 光掩模修复装置包括用于修复的原子力显微镜（112），电子显微镜（116）和用于成像的原子力显微镜。 用于修理的原子力显微镜修复光掩模（101）的缺陷部分。 电子显微镜引导原子力显微镜进行修复，定位在光掩模的缺陷部分。 电子显微镜观察原子力显微镜修复光掩模的修复过程。 用于在原位修复后对成像图像形成光原子的原子力显微镜。
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公开(公告)号：KR101780180B1
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：KR1020150122617
申请日：2015-08-31
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은 4개의전극과상기 4개의전극을고정하기위한절연체홀더를포함하는사중극자질량분석기용사중극자질량필터에관한것으로, 본발명에따른사중극자질량필터는절연체홀더의내부면중 각각의전극과접촉하는부분은평면으로이루어지며, 상기 4개의전극각각은상기절연체홀더와접촉하는부분이평면으로이루어짐으로써, 사중극자의평행도, 직진도및 조립정밀도가우수한사중극자질량분석기를제공할수 있다.
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公开(公告)号：KR101678513B1
公开(公告)日：2016-11-22
申请号：KR1020150145944
申请日：2015-10-20
Applicant: 한국표준과학연구원
IPC: H01J37/26 , H01J37/067 , H01J37/065
Abstract: 본발명은전자총의필라멘트블록(filament block) 또는전자점원의중심축이양극및 집속렌즈의중심축과기계적으로어긋나있을때 진공을유지하기위한벨로우즈를구비하지않고도용이하게전자총의필라멘트블록또는전자점원을이동시킬수 있도록진공구조를개선한위치조절이용이한전자총과이를포함하는전자현미경에관한것으로, 전자빔의중심축을베넬트실린더와마주보는양극판또는전계방출전자원및 1차양극과나란히배치된 2차양극과정렬시키기위하여전자빔발생부를둘러싸며밀봉하는벨로우즈를설치하지않고도 2중오링밀봉부또는자성유체밀봉부상의상면평판을이동할수 있어서전자빔정렬이용이할뿐 아니라간소화된구조와조립및 분해가용이하며재사용이가능한고무오링을사용하므로경제적이다.
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公开(公告)号：KR101648269B1
公开(公告)日：2016-08-16
申请号：KR1020140155478
申请日：2014-11-10
Applicant: 한국표준과학연구원
Abstract: 본발명은전자빔또는이온빔과같은하전입자빔기반의측정및 가공장치의특성을파악할수 있도록가상하전입자원위치, 크기, 각전류밀도등을측정하고평가하는평가플랫폼장치및 하전입자빔시스템평가방법에관한것이다. 이를위하여하전입자소스에서방출되는하전입자빔이통과하는챔버; 챔버내에구비되고, 하전입자빔의경로에위치되어하전입자빔의크기를제한하는애퍼처; 및챔버일측에구비되고, 하전입자빔의경로에위치되어애퍼처를통과한하전입자빔의이미지가맺히는스크린;을포함하고, 스크린에맺히는하전입자빔의이미지를토대로하전입자빔시스템및 하전입자소스중 적어도하나의평가를수행하는것을특징으로하는하전입자빔시스템평가플랫폼장치가제공될수 있다. 이에따르면하전입자빔시스템에서소스및 시스템의정밀한평가가하나의플랫폼장치에서가능해지는효과가있다.
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