Abstract:
PURPOSE: A 3D image sensor and an electronic system including the same are provided to improve performance by vertically laminating a color filter and an organic photoconductive conversion layer for sensing depth information. CONSTITUTION: A unit pixel(100) includes a color filter(150) and an infrared sensing part. The color filter selectively absorbs visible light and converts the light into electricity. A readout circuit reads out the image information sensed from a pixel array. An infrared sensing part includes a first electrode(141), a second electrode(142), and an organic photoconductive conversion layer(130). The organic photoconductive conversion layer is formed between the first electrode and the second electrode. The visible light passes through the organic photoconductive conversion layer, and infrared light is selectively absorbed for photoelectric conversion.
Abstract:
핀 구조물의 안정성을 높이고 콘택 플러그의 신뢰성을 높일 수 있는 반도체 소자 및 그 제조 방법이 제공된다. 반도체 소자는 반도체 기판, 반도체 기둥 및 콘택 플러그를 포함한다. 반도체 기판은 활성영역으로 이용되는 적어도 한 쌍의 핀들을 포함한다. 반도체 기둥은 한 쌍의 핀들의 일부분 사이에 이 핀들을 연결하도록 개재된다. 그리고, 콘택 플러그는 한 쌍의 핀들의 상면에 전기적으로 연결되도록 반도체 기둥 상에 형성된다.
Abstract:
Provided is a resistance random access memory (RRAM) device and a method of manufacturing the same. A resistance random access memory (RRAM) device may include a lower electrode, a first oxide layer on the lower electrode and storing information using two resistance states, a current control layer made of a second oxide on the first oxide layer and an upper electrode on the current control layer.
Abstract:
입체형 구조의 반도체 메모리 소자에 있어서 그 신뢰도 및 효율이 높은 반도체 메모리 소자의 동작 방법이 제공된다. 반도체 메모리 소자는 반도체 기판 내부로 리세스되어 형성된 제어 게이트 전극을 포함한다. 스토리지 노드막은 제어 게이트 전극의 측벽 및 반도체 기판 사이에 개재된다. 터널링 절연막은 스토리지 노드막 및 반도체 기판 사이에 개재된다. 블로킹 절연막은 스토리지 노드막 및 제어 게이트 전극 사이에 개재된다. 제 1 및 제 2 채널 영역들은 제어 게이트 전극의 측벽을 둘러싸도록 터널링 절연막 아래의 반도체 기판의 표면 부근에 형성되고, 대향 이격된 한 쌍의 분리용 절연막들에 의해 분리된다. 이 반도체 메모리 소자의 동작 방법은 블로킹 절연막을 통한 전하의 터널링을 이용하여 스토리지 노드막에 데이터를 프로그램하는 단계를 포함한다.
Abstract:
저항 디램(RDRAM) 소자 및 그 동작 방법이 개시된다. 본 발명에 따른 저항 디램 소자는, 문턱 전압 이상에 저항 변화에 따른 스위칭 특성을 보이는 스토리지 노드용 스위칭 저항체와, 스위칭 저항체로 연결되는 파워를 제어하는 제어 소자를 포함한다. 상기 스위칭 저항체는 인가되는 전압에 따라 흐르는 전류가 히스테레시스 루프를 형성하는 요소이고, TiAlO x 로 형성된다. 본 발명에 따른 저항 디램 소자를 이용하면, 2 디지트 이상의 신뢰성 있는 스토리지 기능을 확보하면서도, 집적도를 높일 수 있다.
Abstract:
PURPOSE: An image sensor and image processing device with the same are provided to obtain a clear color using a pixel of the image sensor which has a 2-layered structure. CONSTITUTION: A first photoelectric converting element generates a first electrical signal in response to incident light. An optoelectronic barrier(15) is formed in the lower part of the first photoelectric converting element. The second photoelectric converting element(20) is formed in the lower part of the optoelectronic barrier. The second photoelectric converting element generates a second electrical signal in response to incident light passing the optoelectronic barrier. A reflective film(30) is formed on the lower part of the second photoelectric converting element.
Abstract:
PURPOSE: A memory module, a memory system including the same, and a manufacturing method thereof are provided to give or receive an optical signal through optical windows formed on an PCB and a memory package. CONSTITUTION: A PCB(11) includes a first optical window formed on the surface and an embedded optical waveguide(13). A memory package includes a memory die and a second optical window(40). The memory die is mounted on a PCB and includes an optical input and output part. A second optical window is formed on the same line as the optical input and output part and the first optical window. The optical waveguide and the optical input and output part give or receive an optical signal through the first and second optical windows.
Abstract:
PURPOSE: An image sensor with high sensitivity is provided to obtain a high conversion gain by functioning as a photoelectric conversion device and a sensing device through a single electron field effect transistor. CONSTITUTION: An n type well(210) is formed on a p type sub substrate. A source region(220) and a drain region(230) are formed on the n type well. A channel region(250) connects the source region to the drain region. A gate region(240) is formed on the lower side of the channel region. The n type well is an impurity region doped with lower density than the gate region.
Abstract:
PURPOSE: The non-volatile memory device adds the lamination number of first electrode lines. It is highly integrated with the making high capacity. CONSTITUTION: A pair of first electrode lines(115a, 115b) is at least formed in the top of the substrate. The element structure(149) is at least allowed in above statement between a pair of first electrode lines. The dielectric layer(130) is formed between the element structure and pair of first electrode lines. The element structure comprises 2 electrode line(140a), and the resistance alteration material layer and channel body(135).
Abstract:
PURPOSE: As the patterning box in the non-volatile memory device for including perpendicular NAND channels, top selection gate lines separates. The string in which top selection gate lines separate can be controlled independently. CONSTITUTION: The bit line(BL) is expanded D crossing the top selection gate line. The bit line electrically touches in the first perpendicularity NAND channel. The bit line electrically touches in the second perpendicularity NAND channel. The first perpendicularity NAND channel is offset from the third perpendicularity NAND channel(PL3). The fourth perpendicularity NAND channel is offset from the third perpendicularity NAND channel.