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公开(公告)号：KR100273810B1
公开(公告)日：2000-12-15
申请号：KR1019950002816
申请日：1995-02-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 테루.엔지니아링구가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판위치 및 검출장치는, 복수매의 LCD 기판이 수납된 카세트와, 이 카세트의 측면에 대면하여 설치되고, 카세트내의 LCD 기판의 끝단면에 눌러붙여지는 접촉안내부재와, 이 접촉안내부재를 카세트에 대하여 접근시켜서, 카세트내의 LCD기판의 끝단면에 접촉안내부재를 눌러붙여서 이들 기판을 일괄적으로 정렬시키는 얼라이먼트 수단과, 카세트의 슬롯에 각각 대응하는 위치에 위치하도록 슬롯수의 정수배의 수가 상기 얼라이먼트기구에 부착되며, 카세트의 슬롯에 LCD 기판이 있는가 없는가를 검출하는 검출기를 가진다.
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公开(公告)号：KR1019950034563A
公开(公告)日：1995-12-28
申请号：KR1019950002816
申请日：1995-02-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 테루.엔지니아링구가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 기판위치 및 검출장치는, 복수매의 LCD 기판이 수납된 카세트와, 이 카세트의 측면에 대면하여 설치되고, 카세트내의 LCD 기판의 끝단면에 눌러붙여지는 접촉안내부재와, 이 접촉안내부재를 카세트에 대하여 접근시켜서, 카세트내의 LCD 기판의 끝단면에 접촉안내부재를 눌러붙여서 이들 기판을 일괄적으로 정렬시키는 얼라이먼트 수단과, 카세트의 슬롯에 각각 대응하는 위치에 위치하도록 슬롯수의 정수배의 수가 상기 얼라이먼트기구에 부착되며, 카세트의 슬롯에 LCD 기판이 있는가 없는가를 검출하는 검출기를 가진다.
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1020030074721A
公开(公告)日：2003-09-19
申请号：KR1020037009600
申请日：2002-01-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 다카츠키고이치 , 요시타카히카루 , 아시가키시게오 , 이노우에요이치 , 아카호리다카시 , 이시즈카슈우이치 , 아베쇼이치 , 스즈키다카시 , 가와무라고헤이 , 미요시히데노리 , 정기시 , 오시마야스히로 , 다카하시히로유키
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541
Abstract: 전극판(20)의 서셉터(10)에 대향하는 면을 볼록형의 형상으로 한다. 전극판(20)은 볼록부(20a)에 있어서 실드링(Shield Ring)(26)의 개구(26a)와 결합한다. 이 때, 볼록부(20a)의 두께는, 실드링(26)의 두께와 거의 동일하다. 이로써, 전극판(20)과 실드링(26)은 실질적으로 동일한 평면을 형성한다. 또한, 볼록부(20a)의 주요면은, 웨이퍼(W)의 직경의 1.2∼1.5배의 직경을 갖는다. 또한, 전극판(20)은, 예컨대 SiC로 구성된다.
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公开(公告)号：KR100256215B1
公开(公告)日：2000-06-01
申请号：KR1019940003427
申请日：1994-02-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 동경 엘렉트론 에이티 주식회사
IPC: H01L21/30
Abstract: 진공처리장치는 감압분위기하에서 기판을 처리하는 복수의 진공처리실과, 이들 진공처리실의 각각에 연통가능하게 설치되고, 진공처리실과 실질적으로 동등한 감압분위기로 배기될 수 있는 제1로드록실과 이 제 1 로드록실에 연통가능하게 설치되고, 제1로드록실과 실질적으로 동등한 감압분위기로 배기될 수 있는 제2로드록실과의 사이에서 기판을 반송하는 제1반송아암 기구와, 제1로드록실내에 설치되고, 복수의 기판을 일시적으로 유지하는 제1버퍼기구와, 제 2로드록실내에 설치되고, 복수 또는 단수의 기판을 반송로에 대하여 위치맞춤을 하는 위치맞춤 기구와, 대기중에 설치되고, 상기 제2로드록실에/부터 복수의 기판을 반입/반출하는 제2반송아암기구를 가진다.
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公开(公告)号：KR100564168B1
公开(公告)日：2006-03-27
申请号：KR1020037009600
申请日：2002-01-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
Inventor： 다카츠키고이치 , 요시타카히카루 , 아시가키시게오 , 이노우에요이치 , 아카호리다카시 , 이시즈카슈우이치 , 아베쇼이치 , 스즈키다카시 , 가와무라고헤이 , 미요시히데노리 , 정기시 , 오시마야스히로 , 다카하시히로유키
IPC: H01L21/3065
CPC classification number: H01J37/32009 , H01J37/3244 , H01J37/32541
Abstract: That surface of an electrode plate 20 which is opposite to a susceptor 10 has a projection shape. The electrode plate 20 is fitted in an opening 26a of shield ring 26 at a projection 20a. At this time, the thickness of the projection 20a is approximately the same as the thickness of the shield ring 26. Accordingly, the electrode plate 20 and the shield ring 26 form substantially the same plane. The major surface of the projection 20a has a diameter 1.2 to 1.5 times the diameter of a wafer W. The electrode plate 20 is formed of, for example, SiC.
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公开(公告)号：KR1020030083729A
公开(公告)日：2003-10-30
申请号：KR1020037011849
申请日：2002-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01J37/32623 , H01J37/32633
Abstract: 평행 평판형의 플라즈마 처리 장치(1)에 있어서, 배플판(28)을 챔버(2)의 천정(2b)과 측벽(2a)의 사이에 삽입하여 설치한다. 배플판(28)은 챔버(2)의 상부에 플라즈마를 밀폐시키는 동시에, 고주파 전원(27)으로의 리턴 전류의 리턴 경로를 구성한다. 배플판(28)을 흐르는 리턴 전류는 챔버(2)의 천정(2b)을 거쳐 고주파 전원(27)으로 되돌아간다.
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公开(公告)号：KR1019940020491A
公开(公告)日：1994-09-16
申请号：KR1019940003427
申请日：1994-02-25
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 동경 엘렉트론 에이티 주식회사
IPC: H01L21/30
Abstract: 진공처리장치는 감압분위기하에서 기판을 처리하는 복수의 진공처리실과, 이들 진공처리실의 각각에 연통가능하게 설치되고, 진공처리실과 실질적으로 동등한 감압분위기로 배기될 수 있는 제1로드록실과 이 제1로드록실에 연통가능하게 설치되고, 제1로드록실과 실질적으로 동등한 감압분위기로 배기될 수 있는 제2로드록실과, 제1로드록실내에 설치되고, 제1로드록실과, 제2로드록실과의 사이에서 기판을 반송하는 제1반송아암 기구와, 제1로드록실내에 설치되고, 복수의 기판을 일시적으로 유지하는 제1버퍼기구와, 제2로드록실내에 설치되고, 복수의 기판을 일시적으로 유지하는 제1버퍼기구와, 제2로드록실내에 설치되고, 복수 또는 단수의 기판을 방송로에 대하여 위치맞춤을 하는 위치맞춤 기구와, 대기중에 설치되고, 상기 제2로드록실에/부터 수의 기판을 반입/반출하는 제2반송아암기구를 가진다.
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