公开(公告)号：KR1020090128888A

公开(公告)日：2009-12-16

申请号：KR1020080054863

申请日：2008-06-11

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 정지심 ,  이우철 ,  권장연 ,  박현상 ,  한상면 ,  류명관 ,  김태상 ,  박경배 ,  유병욱 ,  손경석 ,  한민구

IPC: G09G3/30 ,  G09G3/32 ,  G09G3/20 ,  H01L51/50

CPC classification number: G09G3/3233 ,  G09G3/2037 ,  G09G3/2081 ,  G09G2300/0842 ,  H01L27/3244 ,  H01L2027/11879 ,  H01L2227/323

Abstract: PURPOSE: An organic light emitting display device and a driving method thereof are provided to display the images with various colors by the gray scale of various steps by inserting at least one additional bit signal for an additional sub frame. CONSTITUTION: A driving transistor(T2) switches the current supply to an OLED by an image signal. A current controller includes a plurality of current control transistors(T3,T4) controlling an amount of currents to the OLED. A driving transistor operates in a linear region. Current control transistors operate at a saturation region. A storage capacitor stores an image signal. A switching transistor stores the image signal in a storage capacitor.

Abstract translation: 目的：提供一种有机发光显示装置及其驱动方法，通过插入附加子帧的至少一个附加位信号，通过各种步骤的灰度显示各种颜色的图像。 构成：驱动晶体管（T2）通过图像信号将电流源切换到OLED。 电流控制器包括控制到OLED的电流量的多个电流控制晶体管（T3，T4）。 驱动晶体管在线性区域中工作。 电流控制晶体管在饱和区域工作。 存储电容器存储图像信号。 开关晶体管将图像信号存储在存储电容器中。

公开(公告)号：KR1020080076292A

公开(公告)日：2008-08-20

申请号：KR1020070016033

申请日：2007-02-15

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 정지심 ,  류명관 ,  권장연 ,  박경배 ,  한민구 ,  이상윤 ,  박중현 ,  한상면 ,  김선재

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/78621 ,  H01L29/42384 ,  H01L2029/7863 ,  H01L29/78675

Abstract: A thin film transistor and a manufacturing method thereof are provided to change doping level for respective semiconductor layer regions by adjusting thickness and location of first, second, and third insulation layers. A thin film transistor comprises a lower structure(11), a semiconductor layer(12), first and second insulation layers(14a,14b), and a third insulation layer(16), and a gate electrode layer(17). The semiconductor layer includes a plurality of doped regions(12b,12c,12d) on the lower structure. The first and second insulation layers are formed on the semiconductor layer, separated from each other. The third insulation layer is formed on the first and second insulation layers. The gate electrode layer is formed on the third insulation layer between the first and second insulation layers. The width of the third insulation layer is longer than that between the first and second insulation layers and shorter than that between the left part of the first insulation layer and the right part of the second insulation layer.

Abstract translation: 提供薄膜晶体管及其制造方法，通过调整第一，第二和第三绝缘层的厚度和位置来改变各半导体层区域的掺杂水平。 薄膜晶体管包括下部结构（11），半导体层（12），第一和第二绝缘层（14a，14b）以及第三绝缘层（16）和栅电极层（17）。 半导体层包括在下部结构上的多个掺杂区域（12b，12c，12d）。 第一绝缘层和第二绝缘层形成在半导体层上，彼此分离。 第三绝缘层形成在第一和第二绝缘层上。 栅电极层形成在第一和第二绝缘层之间的第三绝缘层上。 第三绝缘层的宽度比第一绝缘层和第二绝缘层之间的宽度长，并且比第一绝缘层的左部分和第二绝缘层的右部分之间的宽度短。

公开(公告)号：KR101472799B1

公开(公告)日：2014-12-16

申请号：KR1020080054863

申请日：2008-06-11

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 정지심 ,  이우철 ,  권장연 ,  박현상 ,  한상면 ,  류명관 ,  김태상 ,  박경배 ,  유병욱 ,  손경석 ,  한민구

IPC: G09G3/30 ,  G09G3/32 ,  G09G3/20 ,  H01L51/50

CPC classification number: G09G3/3233 ,  G09G3/2037 ,  G09G3/2081 ,  G09G2300/0842

Abstract: 디스플레이장치는 OLED(Organic Light Emitting Diode), 화상신호에의해상기 OLED에대한전류공급을스위칭하는드라이빙트랜지스터, 상기 OLED에대한전류의량을제어하는복수의전류제어트랜지스터를포함하는전류제어부;를구비한다. 이러한구조에따르면종래비해높은해상도와깊은색감표현이가능한디스플레이의구현이가능하다.

公开(公告)号：KR101334177B1

公开(公告)日：2013-11-28

申请号：KR1020070016033

申请日：2007-02-15

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  재단법인서울대학교산학협력재단

Inventor： 정지심 ,  류명관 ,  권장연 ,  박경배 ,  한민구 ,  이상윤 ,  박중현 ,  한상면 ,  김선재

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/78621 ,  H01L29/42384 ,  H01L2029/7863

Abstract: 본 발명은 박막 트랜지스터 및 그 제조 방법에 관한 것이다. 하부 구조체; 상기 하부 구조체 상에 다수의 도핑 영역을 포함하여 형성된 반도체층; 상기 반도체층 상에 형성된 이격되어 형성된 제 1절연층 및 제 2절연층; 상기 제 1절연층 및 상기 제 2절연층 상에 형성된 제 3절연층; 및 상기 제 3절연층의 상기 제 1절연층 및 상기 제 2절연층에 대응되는 영역 사이에 형성된 게이트 전극층;을 포함하는 박막 트랜지스터를 제공한다.

公开(公告)号：KR101638978B1

公开(公告)日：2016-07-13

申请号：KR1020090067826

申请日：2009-07-24

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  성균관대학교산학협력단

Inventor： 손경석 ,  권장연 ,  김형섭 ,  이후정 ,  문미란 ,  박경

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/7869

Abstract: 박막트랜지스터및 그제조방법이개시된다. 개시된박막트랜지스터는게이트; 게이트절연막; 제1산화물반도체층및 제2산화물반도체층을포함하는채널층; 상기채널층의양측에각각접촉형성된소스및 드레인;을포함하며, 상기제1산화물반도체층의결정립크기는상기제2산화물반도체층의결정립크기에비해상대적으로크다.

公开(公告)号：KR101186292B1

公开(公告)日：2012-09-27

申请号：KR1020060002687

申请日：2006-01-10

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 타카시노구치 ,  김종만 ,  권장연 ,  박경배 ,  정지심 ,  임혁

IPC: H01L29/786 ,  H05B33/00

CPC classification number: H01L29/78645 ,  H01L27/1288 ,  H01L27/3244 ,  H01L29/78624 ,  H01L29/78696

Abstract: 트랜지스터와 트랜지스터의 제조방법 및 이를 이용하는 유기발광디스플레이에 관해 개시된다. 개시된 트랜지스터는 상호 나란하게 배치되어 각 양단에 도핑된 고전도 영역과 양 고전도 영역 사이의 채널 영역을 각각 가지는 두 개의 다결정 실리콘층; 두 다결정 실리콘층을 공히 가로지르는 방향으로 연장되는 게이트; 그리고 상기 게이트와 상기 다결정 실리콘층들의 사이에 개재되는 게이트 절연층;을 구비하고, 상기 게이트의 일측 가장자리에 인접하여 마련되는 것으로 다결정 실리콘의 채널 영역과 고전도 영역 사이에는 상호 마주 보는 저전도영역이 형성되어 있는 구조를 갖는다. 구조적으로 길이가 연장된 채널을 가지며 그리고 마스크 없이 형성가능한 오프셋구조 또는 저도핑영역을 갖는다.
OLED, 다결정,TFT, LDD

公开(公告)号：KR100988084B1

公开(公告)日：2010-10-18

申请号：KR1020030036603

申请日：2003-06-07

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 타카시노구치 ,  김도영 ,  권장연

IPC: H01L29/786

Abstract: 박막 트랜지스터 제조방법이 개시된다. 개시된 박막 트랜지스터 제조방법은, 가요성 기판 상에 a-Si 박막을 형성하는 단계; a-Si 박막 중 소정 부위만을 결정화시켜 a-Si 박막에 국부적으로 결정화된 poly-Si 박막을 형성하는 단계; poly-Si 박막 상에 박막 트랜지스터의 채널 영역이 되는 활성층을 형성하는 단계; 활성층의 중앙 상부에 게이트 전극을 형성하는 단계; 및 활성층의 양측에 각각 연결되는 소스전극 및 드레인전극을 형성하는 단계;를 포함한다.

公开(公告)号：KR1020090056590A

公开(公告)日：2009-06-03

申请号：KR1020070123809

申请日：2007-11-30

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 김태상 ,  이상윤 ,  류명관 ,  권장연 ,  박경배 ,  손경석 ,  정지심

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/7869 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/02631 ,  H01L21/02233

Abstract: A fabrication method of an oxide semiconductor thin film transistor is provided to control excess on the surface of a channel easily by process the surface of the channel with a wet oxidizer. An oxide semiconductor channel(22a), a source electrode(23a) and a drain electrode(23b) connected to the both sides of channel layer are formed on a substrate(10). The surface of a channel is oxidized by contacting an oxide material on the channel surface. The oxide material is one of a liquid oxidizer and SAM(Self Assembled Monolayer) on the channel surface.

Abstract translation: 提供氧化物半导体薄膜晶体管的制造方法，通过用湿氧化剂处理通道的表面，容易地控制通道表面上的过量。 在基板（10）上形成氧化物半导体沟道（22a），连接到沟道层两侧的源电极（23a）和漏电极（23b）。 通道的表面通过在通道表面上接触氧化物材料而被氧化。 氧化物材料是通道表面上的液体氧化剂和SAM（自组装单层）之一。

公开(公告)号：KR1020080104860A

公开(公告)日：2008-12-03

申请号：KR1020070052226

申请日：2007-05-29

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 류명관 ,  김태상 ,  권장연 ,  박경배 ,  손경석 ,  정지심

IPC: H01L29/786

CPC classification number: H01L29/78696 ,  H01L21/02554 ,  H01L21/02565 ,  H01L21/0262 ,  H01L21/02631 ,  H01L29/7869

Abstract: A ZnO system thin film transistor and a manufacturing method thereof are provided to improve the electrical characteristic by suppressing the damage caused by the plasma effectively. A ZnO system thin film transistor comprises the substrate(10), the channel layer(22), the gate(20), the gate isolation layer(21), the source and drain electrodes(23a, 23b), and the passivation layer(24). The channel layer is formed on substrate. The channel layer comprises the multi laminated ZnO system unit semiconductor layer. The gate is built between the substrate and the channel layer. The gate isolation layer is prepared between the channel layer and the gate. The source and drain electrodes are prepared at both sides of the channel layer. The passivation layer covers the channel layer, source and drain electrodes. The upper most layer of the channel layer contains the ZnO with the concentration lower than the layer which is under the upper most layer.

Abstract translation: 提供一种ZnO系薄膜晶体管及其制造方法，能够有效地抑制等离子体的损伤来提高电气特性。 ZnO系薄膜晶体管包括衬底（10），沟道层（22），栅极（20），栅极隔离层（21），源极和漏极（23a，23b）和钝化层 24）。 沟道层形成在衬底上。 沟道层包括多层叠ZnO系单位半导体层。 栅极构建在衬底和沟道层之间。 在沟道层和栅极之间制备栅极隔离层。 源极和漏极准备在沟道层的两侧。 钝化层覆盖沟道层，源极和漏极。 沟道层的最上层含有浓度低于最上层的ZnO的ZnO。

公开(公告)号：KR1020080073142A

公开(公告)日：2008-08-08

申请号：KR1020070011794

申请日：2007-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 박경배 ,  홍완식 ,  이상윤 ,  권장연 ,  정지심 ,  이성현 ,  조철래

IPC: H01L21/205

CPC classification number: H01L21/02532 ,  H01L21/02422 ,  H01L21/02595 ,  H01L21/0262

Abstract: A method for manufacturing a polycrystalline silicon thin film is provided to improve throughput of a semiconductor device by forming a large sized polycrystalline silicon thin film on a thermally fragile substrate. A polycrystalline silicon thin film is formed on a substrate(10) by using a vapor deposition process at a vapor atmosphere of a silane source(12) containing silane radicals(14). At a first deposition atmosphere(100), a pressure is at between 22 mT and 100 mT and a silane source amount is adjusted to be 5 sccm and 30 sccm. Silane radicals are guided to collide with each other, such that silicon seed particles(20) are formed on the substrate. At a second deposition atmosphere, a pressure is at between 1 mT and 15 mT and a silane source amount is adjusted to be 1 sccm and 13 sccm. The silicon seed particles are grown on the substrate to form the polycrystalline silicon thin film.

Abstract translation: 提供一种制造多晶硅薄膜的方法，以通过在热脆性基板上形成大尺寸多晶硅薄膜来提高半导体器件的生产能力。 通过在含有硅烷自由基（14）的硅烷源（12）的蒸气气氛下进行气相沉积工艺，在基板（10）上形成多晶硅薄膜。 在第一沉积气氛（100）下，压力在22mT至100mT之间，硅烷源量调整为5sccm和30sccm。 引导硅烷基彼此碰撞，使得硅基颗粒（20）形成在基底上。 在第二沉积气氛下，压力在1mT至15mT之间，硅烷源量调节为1sccm和13sccm。 硅基颗粒在衬底上生长以形成多晶硅薄膜。