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公开(公告)号:DE102014116205A1
公开(公告)日:2016-05-12
申请号:DE102014116205
申请日:2014-11-06
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: SCHOLZ DOMINIK , MANDL MARTIN , STRASSBURG MARTIN , SCHIMPKE TILMAN
Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Leuchtdiode angegeben, wobei ein Substrat (1) mit einer darauf angeordneten lichtemittierenden Halbleiterschichtenfolge (2) bereitgestellt wird, und eine Mehrzahl von dreidimensionalen Strukturelementen (3) auf eine abstrahlende Oberfläche der Leuchtdiode (10) und/oder auf eine Oberfläche (2a) der lichtemittierenden Halbleiterschichtenfolge (2) aufgebracht wird, wobei die Oberfläche (2a) als eine Abstrahlfläche der Halbleiterschichtenfolge (2) ausgebildet ist.
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公开(公告)号:DE102015121554A1
公开(公告)日:2017-06-14
申请号:DE102015121554
申请日:2015-12-10
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: AVRAMESCU ADRIAN STEFAN , LUGAUER HANS-JÜRGEN , VARGHESE TANSEN , SCHIMPKE TILMAN
Abstract: In einer Ausführungsform ist das Verfahren zur Herstellung von LEDs eingerichtet und umfasst die Schritte: A) Bereitstellen einer Aufwachsfläche (20), B) Wachsen einer Vielzahl von Halbleitersäulen (3) auf der Aufwachsfläche (20), wobei die Halbleitersäulen (3) quer zur Aufwachsfläche (20) orientierte Seitenflächen (32) und der Aufwachsfläche (20) abgewandte Oberseiten (33) aufweisen, C) Wachsen von Halbleiterumhüllungen (4) an den Halbleitersäulen (3), sodass die Halbleiterumhüllungen (4) die Seitenflächen (32) überwachsen, als Pyramiden geformt und eineindeutig den Halbleitersäulen (3) zugeordnet werden, D) Wachsen einer zur Strahlungserzeugung eingerichteten aktiven Zone (5) und einer dotierten Halbleiterschicht (6) auf die Halbleiterumhüllungen (4), sodass die aktive Zone (5) und die dotierte Halbleiterschicht (6) eine Oberseite (40) der Halbleiterumhüllungen (4) nachbilden, und E) Aufbringen einer lichtdurchlässigen Elektrodenschicht (7) auf die dotierte Halbleiterschicht (6).
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公开(公告)号:DE112014005954A5
公开(公告)日:2016-09-29
申请号:DE112014005954
申请日:2014-12-18
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: MANDL MARTIN , SCHIMPKE TILMAN , STOLL ION , HUCKENBECK BARBARA , ZWASCHKA FRANZ DR , STRASSBURG MARTIN , BICHLER DANIEL
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4.
公开(公告)号:DE102018110344A1
公开(公告)日:2019-10-31
申请号:DE102018110344
申请日:2018-04-30
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: HARTMANN RAINER , VIERHEILIG CLEMENS , MEYER TOBIAS , RÜCKERL ANDREAS , SCHIMPKE TILMAN , BINDER MICHAEL
IPC: H01L33/02 , H01L21/205
Abstract: Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Mehrzahl von optoelektronischen Bauteilen (10) oder eines Bauteilverbunds (100) aus einer Mehrzahl von optoelektronischen Bauteilen angegeben, bei dem ein Aufwachsubstrat (1) mit einer darauf angeordneten Pufferschicht (3) bereitgestellt wird. Die Pufferschicht wird derart strukturiert, dass diese eine Mehrzahl von Öffnungen (30) aufweist, die in lateralen Richtungen voneinander räumlich beabstandet sind. Es wird eine Mehrzahl von Halbleiterkörpern in den Öffnungen ausgebildet, wobei die Pufferschicht in den Bereichen der Öffnungen Teilregionen (31) aufweist, die in einer vertikalen Richtung zwischen dem Aufwachssubstrat und den Halbleiterkörpern angeordnet sind. Das Aufwachssubstrat wird von den Halbleiterkörpern abgelöst. Die Pufferschicht wird zumindest in den Bereichen der Teilregionen entfernt. Des Weiteren wird ein Bauteil oder ein Bauteilverbund aus einer Mehrzahl von Bauteilen angegeben, wobei das Bauteil oder der Bauteilverbund durch ein solches Verfahren herstellbar ist.
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公开(公告)号:DE102014107167A1
公开(公告)日:2015-12-17
申请号:DE102014107167
申请日:2014-05-21
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: MANDL MARTIN , SCHIMPKE TILMAN
IPC: H01L33/20 , B81C1/00 , H01L21/304 , H01L29/06
Abstract: Es wird ein Verfahren zur lateralen Strukturierung einer Strukturschicht (2) mit einer Mehrzahl von dreidimensionalen Strukturelementen (20) angegeben, umfassend die Schritte: a) Bereitstellen der Strukturschicht mit den dreidimensionalen Strukturelementen; b) Ausbilden einer lateral strukturierten Abdeckschicht (3) auf der Strukturschicht zum Festlegen zumindest eines zu entfernenden Bereichs (4) der Strukturschicht; und c) Entfernen des zu entfernenden Bereichs der Strukturschicht mittels einer auf die Strukturelemente in dem zu entfernenden Bereich einwirkenden Kraft. Weiterhin wird ein Halbleiterbauelement (1) angegeben.
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公开(公告)号:DE102013114466A1
公开(公告)日:2015-06-25
申请号:DE102013114466
申请日:2013-12-19
Applicant: OSRAM GMBH , OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: STRASSBURG MARTIN , MANDL MARTIN , SCHIMPKE TILMAN , STOLL ION , HUCKENBECK BARBARA , ZWASCHKA FRANZ , BICHLER DANIEL
Abstract: Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauteil mit einer Vielzahl aktiver Bereiche (1) angegeben, die zur Erzeugung von Primärstrahlung eingerichtet sind, wobei Leuchtstoffpartikel (6, 6a, 6b) zwischen den aktiven Bereichen (1) angeordnet sind.
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公开(公告)号:DE102014116205B4
公开(公告)日:2022-09-01
申请号:DE102014116205
申请日:2014-11-06
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: SCHOLZ DOMINIK , MANDL MARTIN , STRASSBURG MARTIN , SCHIMPKE TILMAN
Abstract: Verfahren zur Herstellung einer Leuchtdiode (10) mit den Schritten- Bereitstellen eines Substrats (1) mit einer darauf angeordneten lichtemittierenden Halbleiterschichtenfolge (2),- Aufbringen einer Mehrzahl von dreidimensionalen Strukturelementen (3) auf eine Oberfläche (2a) der lichtemittierenden Halbleiterschichtenfolge (2), wobei die Oberfläche (2a) als eine Abstrahlfläche der Halbleiterschichtenfolge (2) ausgebildet ist, wobei für das Aufbringen der Strukturelemente (3) die folgende Methode verwendet wird:- Bereitstellen eines weiteren Substrats (1a), wobei auf dem weiteren Substrat (1a) eine Maske (4) angeordnet wird, wobei die Maske (4) strukturiert wird, so dass die Maske (4) nach der Strukturierung Öffnungen (4a) aufweist, wobei die dreidimensionalen Strukturelemente (3) in den Öffnungen (4a) dreidimensional gewachsen werden, wobei die dreidimensional gewachsenen Strukturelemente (3) vom weiteren Substrat (1a) abgelöst werden, wobei die vom weiteren Substrat (1a) abgelösten Strukturelemente (3) zur Bildung einer Suspension in eine Flüssigkeit (5) eingebracht werden und mit der Flüssigkeit (5) auf die Oberfläche der Halbleiterschichtenfolge (2) und/oder der Leuchtdiode (10) aufgebracht werden,- Einbringen eines Konvertermaterials (6) in die dreidimensionalen Strukturelemente (3), wobei- die Strukturelemente (3) mittels Sedimentation und/oder elektrophoretischer Deposition auf der abstrahlenden Oberfläche der Leuchtdiode (10) und/oder auf der Oberfläche (2a) der lichtemittierenden Halbleiterschichtenfolge (2) angeordnet werden,- die Flüssigkeit (5) ein Lösemittel oder Wasser ist, und- das Konvertermaterial (6) nach dem Aufbringen der Strukturelemente (3) in die Strukturelemente (3) eingebracht wird.
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公开(公告)号:DE102016102876A1
公开(公告)日:2017-08-24
申请号:DE102016102876
申请日:2016-02-18
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: VARGHESE TANSEN , AVRAMESCU ADRIAN STEFAN , SCHIMPKE TILMAN , MANDL MARTIN
Abstract: Es wird ein optoelektronisches Halbleiterbauelement (20) beschrieben, das eine Vielzahl nebeneinander angeordneter aktiver Bereiche (10) und eine Stromaufweitungsschicht (4) aufweist, welche die aktiven Bereiche (10) zumindest teilweise bedeckt und elektrisch miteinander verbindet. Die aktiven Bereiche (10) sind zumindest teilweise beabstandet zueinander angeordnet und weisen einen Kernbereich (11), eine aktive Schicht (12) und eine Deckschicht (13) auf. Die aktiven Bereiche (10) weisen an einer vom Substrat (1) abgewandten Seite Oberseitenbereiche (14) auf, die nicht mit der Stromaufweitungsschicht (4) elektrisch leitend verbunden sind. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung des optoelektronischen Halbleiterbauelements (20) angegeben.
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公开(公告)号:DE102015101216A1
公开(公告)日:2016-07-28
申请号:DE102015101216
申请日:2015-01-28
Applicant: OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
Inventor: MÖNCH WOLFGANG , GÖÖTZ BRITTA , SINGER FRANK , STRASSBURG MARTIN , SCHIMPKE TILMAN
Abstract: Es wird eine optoelektronische Anordnung (1) mit einem Halbleiterchip (2), der einen zur Erzeugung von Strahlung vorgesehenen aktiven Bereich aufweist, angegeben, wobei – dem Halbleiterchip in Abstrahlungsrichtung (21) ein Strahlungskonversionselement (3) nachgeordnet ist; – das Strahlungskonversionselement eine Mehrzahl von Konversionskörpern (4) mit jeweils einer Symmetrieachse (40) aufweist; – eine räumliche Ausrichtung der Symmetrieachsen eine Vorzugsrichtung (45) aufweist; – eine von dem Strahlungskonversionselement (3) abgestrahlte Strahlung eine Vorzugspolarisation (48) aufweist; und – die optoelektronische Anordnung ein reflektierendes Polarisationselement (5) aufweist, das dem Strahlungskonversionselement in Abstrahlungsrichtung nachgeordnet ist, wobei das reflektierende Polarisationselement Strahlung mit der Vorzugspolarisation überwiegend durchlässt, und eine senkrecht zur Vorzugspolarisation polarisierte Strahlung überwiegend reflektiert. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung eines Strahlungskonversionselements (3) angegeben.
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