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公开(公告)号：KR101267208B1
公开(公告)日：2013-05-24
申请号：KR1020090049421
申请日：2009-06-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: B08B7/04 , B08B1/04 , B08B3/04 , H01L21/304
Abstract: 기판세정장치(1)는기판(W)을회전가능하게유지하는스핀척(3)과, 스핀척(3)에유지되어있는기판(W)을회전시키는모터(4)와, 스핀척(3)에유지되어있는기판(W)에세정액을공급하는세정액공급기구(10)와, 세정기구를구비하고있다. 세정기구는, 세정시에기판(W)의적어도단부면에접촉되며스폰지형수지로이루어진브러시(21)와, 브러시(21)를압축하는브러시압축기구(23a, 23b, 24)를갖고있다. 브러시(21)는압축기구(23a, 23b, 24)에의해압축된상태가되어적어도기판(W)의단부면을세정한다.
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公开(公告)号：KR1020120106584A
公开(公告)日：2012-09-26
申请号：KR1020120025403
申请日：2012-03-13
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and method and a storage medium are provided to locally form process atmosphere suitable for liquid processing on the entire surface of a processed substrate by changing supply amount from a first gas supply unit. CONSTITUTION: A rotation holding unit rotates a processed substrate around a vertical axis. A process liquid supply nozzle(35) supplies a processing liquid to the surface of the rotating processed substrate. A first gas supply unit(23) forms a descending current of first gas entering into a cup(31) flowing through the entire surface of the processed substrate. A second gas supply unit(22) forms the descending current of second gas different from the first gas in an outside area of the descending current of the first gas. The first and second gas supply units are arranged in a ceiling portion of a housing comprising a process space. [Reference numerals] (2) Liquid processing unit; (22(20)) Second gas supply unit; (23) First gas supply unit; (5) Control unit; (W) Photoresist whose pattern is formed on a wafer
Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和方法以及存储介质，通过改变来自第一气体供应单元的供给量，在处理过的基板的整个表面上局部地形成适合于液体处理的工艺气氛。 构成：旋转保持单元围绕垂直轴旋转经处理的基板。 处理液供给喷嘴（35）将处理液供给到旋转处理基板的表面。 第一气体供给单元（23）形成进入流过处理过的基板的整个表面的杯状物（31）的第一气体的下降电流。 第二气体供给单元（22）在第一气体的下降电流的外部区域形成与第一气体不同的第二气体的下降电流。 第一和第二气体供应单元布置在包括处理空间的壳体的顶部。 （附图标记）（2）液体处理单元; （22（20））第二气体供给单元; （23）第一气体供应单元; （5）控制单元; （W）在晶片上形成图案的光致抗蚀剂
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公开(公告)号：KR1020060132848A
公开(公告)日：2006-12-22
申请号：KR1020067012237
申请日：2005-10-12
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/304
CPC classification number: F26B5/005 , H01L21/02052 , H01L21/67034 , H01L21/67051 , H01L21/6708
Abstract: Disclosed is a substrate processing apparatus comprising a spin chuck (3) for holding and rotating a substrate (W). The apparatus is also provided with a process liquid supply system (11 and so on) for supplying a process liquid to the substrate rotated by the spin chuck. The apparatus further comprises a fluid nozzle (12) for supplying a drying fluid, which has a higher volatility than the process liquid, to the substrate, and an inert gas nozzle (13) for supplying an inert gas to the substrate. The apparatus is still further provided with a nozzle moving mechanism (15, 52 and so on) for moving these nozzles (12, 13) radially outward with respect to the rotational center (Po) of the substrate while keeping the inert gas nozzle closer to the rotational center of the substrate than the fluid nozzle.
Abstract translation: 公开了一种基板处理装置，其包括用于保持和旋转基板（W）的旋转卡盘（3）。 该设备还设置有用于将处理液体供应到由旋转卡盘旋转的基板的处理液体供应系统（11等）。 该设备还包括用于将具有比处理液体更高的挥发性的干燥流体供应到基底的流体喷嘴（12）和用于向基底供应惰性气体的惰性气体喷嘴（13）。 该装置还设置有用于相对于衬底的旋转中心（Po）径向向外移动这些喷嘴（12,13）的喷嘴移动机构（15,52等），同时保持惰性气体喷嘴更接近 基体的旋转中心比流体喷嘴的旋转中心。
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14.发明公开
公开(公告)号：KR1020140143700A
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：KR1020140064547
申请日：2014-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/08 , H01L21/00
CPC classification number: H01L21/67051 , H01L21/02057 , H01L21/67028 , H01L21/6715
Abstract: 기판 처리에서의 스루풋의 향상과 런닝 코스트의 저감을 도모하는 것이다. 본 발명에서는, 기판(3)을 처리액으로 처리한 후에 상기 기판(3)을 건조시키는 기판 처리 장치(1)에 있어서, 상기 기판(3)을 회전시키는 기판 회전 기구(22)와, 상기 기판(3)에 대하여 처리액을 토출하는 처리액 토출부(13)와, 상기 기판(3)에 대하여 상대적으로 이동하면서, 상기 기판(3) 상의 처리액과 치환되는 치환액을 상기 기판(3)을 향해 토출하는 치환액 토출부(14)와, 상기 기판(3)에 대하여 상기 치환액 토출부(14)와는 상이한 방향으로 이동하면서 불활성 가스를 상기 기판(3)의 상방으로부터 상기 기판(3)에 대하여 외주 방향으로 비스듬하게 토출하는 불활성 가스 토출부(15)를 가지는 것으로 했다.
Abstract translation: 提供本发明以提高处理基板的通过量并降低其运行成本。 一种用处理液处理基板（3）并干燥基板（3）的基板处理装置（1）包括：基板旋转装置（22），其构造成使基板（3）旋转; 处理液体排出单元（13），被配置为将处理液体朝向基板（3）排出; 置换液体排出单元（14），被配置为在衬底（3）上将由处理液体取代的取代液体朝向衬底3排出，同时相对于衬底（3）相对移动; 以及惰性气体排出单元（15），其构造成在与所述基板（3）的移动方向不同的方向上移动时，向所述基板（3）的周边部朝向所述基板（3）的上方沿着倾斜方向排出惰性气体， 放电单元（14）。
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公开(公告)号：KR1020090131642A
公开(公告)日：2009-12-29
申请号：KR1020090049906
申请日：2009-06-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: B08B1/00 , A46B9/06 , A46B13/008 , A46B15/0002 , A46B15/0006 , A46B2200/3073 , H01L21/67046 , H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning apparatus is provided to effectively clean the periphery of a substrate by distributing a cleaning force into a diametric direction through a state change part of a brush. CONSTITUTION: A substrate holding device rotatably holds a substrate. A cleaning solution supply device(10) supplies a cleaning solution to the substrate held to the substrate holding device. A cleaning apparatus(20) includes a brush(21) and a pressing device. The brush has a periphery cleaning part. The periphery cleaning part is contacted with the periphery of the substrate. The pressing device presses the periphery cleaning part to the periphery of the substrate. The periphery cleaning part has a state change part. A state of the state change part is changed according to a diametric direction in order to distribute a cleaning force into the diametric direction.
Abstract translation: 目的：提供一种基板清洗装置，通过将刷子的状态变化部分向直径方向分配清洁力，有效地清洁基板的周边。 构成：基板保持装置可旋转地保持基板。 清洗液供给装置（10）向保持在基板保持装置的基板供给清洗液。 清洁装置（20）包括刷子（21）和按压装置。 刷具有周边清洁部分。 周边清洁部分与基板的周边接触。 按压装置将周边清洁部按压到基板的周边。 周边清洁部具有状态改变部。 根据直径方向改变状态变化部的状态，以便将清洁力分配到直径方向。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR102217053B1
公开(公告)日：2021-02-18
申请号：KR1020140064547
申请日：2014-05-28
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/08 , H01L21/00
Abstract: 기판처리에서의스루풋의향상과런닝코스트의저감을도모하는것이다. 본발명에서는, 기판(3)을처리액으로처리한후에상기기판(3)을건조시키는기판처리장치(1)에있어서, 상기기판(3)을회전시키는기판회전기구(22)와, 상기기판(3)에대하여처리액을토출하는처리액토출부(13)와, 상기기판(3)에대하여상대적으로이동하면서, 상기기판(3) 상의처리액과치환되는치환액을상기기판(3)을향해토출하는치환액토출부(14)와, 상기기판(3)에대하여상기치환액토출부(14)와는상이한방향으로이동하면서불활성가스를상기기판(3)의상방으로부터상기기판(3)에대하여외주방향으로비스듬하게토출하는불활성가스토출부(15)를가지는것으로했다.
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公开(公告)号：KR1020140141514A
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：KR1020140065736
申请日：2014-05-30
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/02
CPC classification number: B05B15/555 , C03C23/0075 , H01L21/67051 , H01L21/6715
Abstract: 본 발명은 세정 성능을 향상시키고 아울러 소형화를 도모하는 것을 특징으로 한다.
실시형태에 따른 기판 처리 장치는, 기판에 처리액을 토출하는 제1 노즐 및 제2 노즐과, 제1 노즐과 제2 노즐을 이동시키는 이동 기구와, 적어도 제2 노즐을 세정하는 노즐 세정 장치를 구비한다. 노즐 세정 장치는, 세정조와, 오버플로조를 구비한다. 세정조는, 적어도 제2 노즐을 세정하기 위한 세정액을 저류하는 저류부와, 정해진 수위를 초과한 세정액을 저류부로부터 배출하는 오버플로부를 구비한다. 오버플로조는, 세정조에 인접하여 배치되고, 오버플로부로부터 배출되는 세정액을 받아 외부에 배출한다.Abstract translation: 本发明是为了提高清洗性能，确保小型化。 根据实施例的基板处理装置包括：第一喷嘴，将基板处理液喷射的第二喷嘴，使第一喷嘴和第二喷嘴移动的移动单元;以及喷嘴清洗装置，其至少清洗第二喷嘴 。 喷嘴清洁装置包括清洗槽和溢流槽。 清洗槽包括存储部分，其存储用于清洁至少第二喷嘴的清洁溶液和从存储部分排出在预定水位上流动的清洁溶液的溢流部分。 溢流槽与清洗槽相邻，将从溢流器排出的清洗液排出到外部。
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公开(公告)号：KR101464387B1
公开(公告)日：2014-11-21
申请号：KR1020090101783
申请日：2009-10-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: 본 발명은 기판을 세정 처리한 후 IPA 등의 건조용 용제를 이용하여 건조한 경우에, 작업 처리량을 저하시키지 않고 약액을 회수할 수 있는 세정 장치 및 세정 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
웨이퍼(W)를 회전시키면서, 웨이퍼(W)에 약액 세정을 실시하고, 린스 처리를 실시하며, 그 후 IPA에 의한 건조 처리를 실시하는 세정액 공급 기구(1)는, 배액 컵(6) 및 배액 배관(31)을 세정하기 위한 세정액을, 웨이퍼(W)에 공급하지 않으면서, 배액 컵(6)에 공급하는 세정액 공급 기구(39)를 구비하고, 세정액 공급 기구(1)의 각 구성부를 제어하는 제어부(40)를 더 구비하며, 이 제어부(40)는, 웨이퍼(W)의 세정 처리, 그 후의 린스 처리를 실시하게 한 후, IPA에 의한 건조 처리를 행하게 하는 때에, 건조 처리가 실시되고 있는 타이밍에 세정액을 배액 컵(6)에 공급하도록 제어한다.-
公开(公告)号：KR1020120073089A
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：KR1020110118816
申请日：2011-11-15
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302
CPC classification number: H01L21/67028 , H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A method and apparatus for processing a substrate are provided to prevent fine particles from being attached due to a watermark on the surface of a substrate by heating the substrate at higher temperatures than a dew point temperature. CONSTITUTION: A substrate inputting and outputting stand(4) is formed in a front end of a substrate processing apparatus(1). A carrier(3) horizontally receives a plurality of substrates(2). A substrate transferring chamber(5) is formed in the rear of the substrate inputting and outputting stand and transfers the substrate and receives a substrate transferring device(8) and a substrate transfer stand(9). A substrate processing chamber(6) cleans or dries the substrate.
Abstract translation: 目的：提供一种用于处理基板的方法和装置，以通过在比露点温度更高的温度下加热基板来防止由于水印而在基板的表面上附着细颗粒。 构成：在基板处理装置（1）的前端形成基板输入输出台（4）。 水平地承载多个基板（2）的载体（3）。 在基板输入输出支架的后部形成有基板搬送室（5），并传送基板并接收基板搬送装置（8）和基板搬运支架（9）。 基板处理室（6）清洗或干燥基板。
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公开(公告)号：KR1020100050400A
公开(公告)日：2010-05-13
申请号：KR1020090101783
申请日：2009-10-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤
IPC: H01L21/302 , H01L21/304
CPC classification number: H01L21/67051
Abstract: PURPOSE: A cleaning apparatus, a cleaning method and a storage medium are provided to prevent a drying solvent from being mixed with a medicine liquid by cleaning a culture cup and a culture pipe after drying and removing the drying solvent. CONSTITUTION: A holding device pivotally holds a substrate(W). A rotating device rotates the holding device. A medicine liquid supply unit(39) supplies a cleaning chemical to the substrate on the holding device. A rinse supply unit supplies rinse solution to the substrate on the holding device. A drying solvent supply unit supplies the drying solvent to the substrate on the holding device. A culture cup(6) is prepared for accepting the culture fluid of the distributed processing liquid from the substrate outside a rotation plate(11).
Abstract translation: 目的：提供清洁装置，清洁方法和存储介质，以在干燥和除去干燥溶剂之后通过清洗培养杯和培养管来防止干燥溶剂与药液混合。 构成：保持装置枢转地保持基板（W）。 旋转装置旋转保持装置。 药液供给单元（39）向保持装置的基板供给清洗剂。 冲洗供应单元向保持装置上的基板供应冲洗溶液。 干燥溶剂供给单元将干燥溶剂供给到保持装置上的基板。 制备文化杯（6），用于从旋转板（11）外的基板接受分散处理液的培养液。
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