公开(公告)号：DE3662317D1

公开(公告)日：1989-04-13

申请号：DE3662317

申请日：1986-03-14

Applicant: IBM

Inventor： CLECAK NICHOLAS JEFFRIES ,  GRANT BARBARA DIANNE ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  TOMPKINS TERRY CADY ,  WILLSON CARLTON GRANT

IPC: C08L101/00 ,  C08K5/00 ,  C08K5/53 ,  C08L33/00 ,  C08L33/02 ,  C08L61/10 ,  G03C1/72 ,  G03C5/16 ,  G03F7/016 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  G03F7/10

Abstract: A lithographic resin for use with deep ultraviolet radiation comprises a weakly acidic resin and an alpha phosphoryl substituted diazo carbonyl compound as a sensitizer.

公开(公告)号：DE112012001286B4

公开(公告)日：2017-05-18

申请号：DE112012001286

申请日：2012-03-19

Applicant: IBM ,  SAN JOSE STATE UNIV RES FOUND

Inventor： MILLER ROBERT DENNIS ,  SLY JOSEPH ,  NUNO HECTOR HUGO ,  TIJO MELIA ,  LEE VICTOR YEE-WAY

IPC: A61K9/50 ,  A61K47/02 ,  A61K47/26 ,  A61K49/00 ,  B01J13/08 ,  C08J3/14 ,  C08J7/06

Abstract: Es ist eine Nanoschale offenbart, die einen Sternpolymer-Okklusionskomplex, der i) ein amphiphiles, monomolekulares Sternpolymer mit einem quervernetzten Kern, der mit 6 oder mehr eigenständigen Polymerarmen kovalent verbunden ist, und ii) ein Cargo-Material aufweist, das in dem Sternpolymer okkludiert ist; sowie eine Schale aufweist, die ein anorganisches Material in Kontakt mit einer peripheren Oberfläche des Sternpolymer-Okklusionskomplexes aufweist.

公开(公告)号：GB2485283B

公开(公告)日：2014-11-26

申请号：GB201119451

申请日：2010-08-23

Applicant: IBM

Inventor： NELSON ALSHAKIM ,  BROCK PHILLIP JOE ,  SOORIYAKUMARAN RATNAM ,  DAVIS BLAKE ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  ALLEN ROBERT DAVID ,  LIN QINGHUANG

IPC: C09D183/04 ,  C08G77/04 ,  C08L83/04 ,  C09D183/14 ,  H01L21/312

公开(公告)号：DE112013000700T5

公开(公告)日：2014-10-09

申请号：DE112013000700

申请日：2013-02-12

Applicant: IBM

Inventor： SUNDBERG LINDA KARIN ,  WALLRAFF GREGORY MICHAEL ,  SONG QING ,  BASS JOHN DAVID ,  KIM HO-CHEOL ,  MILLER ROBERT DENNIS

IPC: G03F7/00 ,  G03F7/004

Abstract: Es werden Zusammensetzungen nach der Formel (3) offenbart: [C']k[Ta(O2)x(L')y](3),wobei x eine Ganzzahl von 1 bis 4 ist, y eine Ganzzahl von 1 bis 4 ist, Ta(O2)x(L')y eine Ladung von 0 bis –3 aufweist, C ein Gegenion mit einer Ladung von +1 bis +3 ist, k eine Ganzzahl von 0 bis 3 ist, L' ein oxidativ stabiler organischer Ligand mit einer Ladung von 0 bis –4 ist, und L' eine elektronenabgebende Funktionsgruppe aufweist, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus Carboxylaten, Alkoxiden, Aminen, Aminoxiden, Phosphinen, Phosphinoxiden, Arsinoxiden und Kombinationen daraus besteht. Die Zusammensetzungen finden als hoch auflösende Fotolacke Anwendung.

公开(公告)号：DE69723776D1

公开(公告)日：2003-09-04

申请号：DE69723776

申请日：1997-04-18

Applicant: IBM

Inventor： GORDON II ,  KARG SIGFRIED FRIEDRICH ,  KAUFMAN JAMES HARVEY ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  KREYENSCHMIDT MARTIN ,  SCOTT JOHN CAMPBELL

IPC: C09K11/06 ,  H01L51/50 ,  H05B33/10 ,  H05B33/12 ,  H05B33/14 ,  H01L51/20 ,  H01L51/30 ,  H01L33/00

Abstract: The invention relates to an organic electroluminescent device comprising a light emitting composition disposed between a first and second electrode. The composition comprises a charge transporting polymer and an organic salt comprising immobilized anions and cations nonuniformly distributed in the polymer matrix.

公开(公告)号：MY115696A

公开(公告)日：2003-08-30

申请号：MYPI9704488

申请日：1997-09-26

Applicant: IBM

Inventor： HAWKER CRAIG JON ,  HEDRICK JAMES LUPTON ,  MILLER ROBERT DENNIS

IPC: H01L21/28 ,  H01L21/312 ,  H01L21/3205 ,  H01L21/768 ,  H01L23/522 ,  H01L23/532

Abstract: THE INVENTION RELATES TO AN INTEGRATED CIRCUIT DEVICE COMPRISING (I) A SUBSTRATE; (II) METALLIC CIRCUIT LINES POSITIONED ON THE SUBSTRATE AND (III) A DIELECTRIC MATERIAL POSITIONED ON THE CIRCUIT LINES. THE DIELECTRIC MATERIAL COMPRISES THE REACTION PRODUCT OF A HYPERBRANCHED POLYMER AND ORGANIC POLYSILICA. (FIG.1)

公开(公告)号：DE69022685D1

公开(公告)日：1995-11-02

申请号：DE69022685

申请日：1990-11-07

Applicant: IBM

Inventor： ASTHANA RAHUL ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  SCHELLENBERG FRANKLIN MARK ,  SINCERBOX GLENN TAVERNIA ,  ZAVISLAN JAMES MATTHEW

IPC: G01J4/04 ,  G02B27/28 ,  G02B27/42 ,  G11B7/135 ,  G11B11/10 ,  G11B11/105 ,  G11B13/04 ,  G11B7/12

Abstract: An improved apparatus and method for detecting the polarization state of an optical wavefront is disclosed, which is especially suitable for use in an integrated magneto-optic recording head. An optically transparent waveguide structure (10) transmits TE and TM modes of the wavefront propagated as a beam coupled into the waveguide by a TE/TM grating coupler (16). In the waveguide structure is a periodic structure (21) comprising a birefringent mode separator that splits the propagating beam into TE and TM modes. The mode separator comprises an array of uniformly spaced volumes of identical configuration. Photosensitive devices (13,14) detect the intensity of the light contained within each of the separated beams. The signals from these photosensitive devices are used to determine the state of polarization of the optical wavefront. The periodic structure may, if desired, comprise regions of alternating birefringence, such as a Bragg grating, either in a waveguide layer or a cladding layer. Focal power is introduced (1) by providing focal power in the input grating coupler to the waveguide with a curved grating structure, (2) by varying the pitch of the birefringent mode separator extending in a direction transverse to the optical axis of the propagating beam, or (3) by introducing a surface grating with a varying pitch in a direction transverse of the optical axis.

公开(公告)号：DE3880823D1

公开(公告)日：1993-06-09

申请号：DE3880823

申请日：1988-12-15

Applicant: IBM

Inventor： MCKEAN DENNIS RICHARD ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  WALSH JOSEPH GREGORY ,  WILLSON CARLTON GRANT

IPC: C07C309/76 ,  C07C67/00 ,  C07C301/00 ,  G03C1/72 ,  G03C1/73 ,  G03F7/022

Abstract: Esters of 1-oxo-2-diazo-naphthalene sulfonic acid wherein the sulfonic acid group is at either the 4 or the 5 position of a hydroxymethyl-tricyclo [5.2.1.0 ] decane wherein the hydroxy group is either at the 3 or 4 position and useful as sensitizers for positive resists, particularly relatively thick resists at 365 nm.

公开(公告)号：DE3467430D1

公开(公告)日：1987-12-17

申请号：DE3467430

申请日：1984-05-16

Applicant: IBM

Inventor： CLECAK NICHOLAS JEFFRIES ,  MCKEAN DENNIS RICHARD ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  TOMPKINS TERRY CADY ,  WILLSON CARLTON GRANT

IPC: G03F7/20 ,  C07D213/77 ,  G03C1/72 ,  G03C5/08 ,  G03F7/008 ,  G03F7/016 ,  G03F7/022 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027 ,  G03F7/08

Abstract: A lithographic resist for use with deep ultra-violet radiation comprising an acidic resin and a diazohomotetramic acid sensitizer.

公开(公告)号：DE112015000671T5

公开(公告)日：2016-10-20

申请号：DE112015000671

申请日：2015-01-30

Applicant: ASAHI CHEMICAL IND ,  IBM

Inventor： SCOTT JOHN CAMPBELL ,  WILCKE WINFRIED WOLFGANG ,  KIM HO-CHEOL ,  KRUPP LESLIE ELIZABETH ,  AETUKURI NAGA PHANI BABU ,  KITAJIMA SHINTARO ,  MILLER ROBERT DENNIS ,  MCCLOSKEY BRYAN DAVID

IPC: H01M2/14

Abstract: Eine Einheit beinhaltet eine Membran, die: (i) sauerstoffundurchlässig und (ii) in zumindest einem polaren Lösungsmittel unlöslich ist; und ionenleitende Teilchen in der Membran. Zumindest einige Teilchen erstrecken sich von einer ersten Seite der Membran zu einer gegenüberliegenden zweiten Seite der Membran. Die Dicke der Membran beträgt 15 μm bis 100 μm.