公开(公告)号：KR1020160117221A

公开(公告)日：2016-10-10

申请号：KR1020160035390

申请日：2016-03-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미우라,시게히로 ,  고바야시,다케시 ,  스가와라,가츠아키 ,  이토,나오히데

IPC: H01J37/32 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68 ,  G01J3/02 ,  G01J3/443

CPC classification number: H01J37/32972 ,  C23C16/45536 ,  C23C16/45551 ,  C23C16/4584 ,  C23C16/4586 ,  C23C16/50 ,  C23C16/52 ,  H01J37/321 ,  H01J37/32935 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/68764 ,  H01L21/68771 ,  H01J37/32944 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/443 ,  G01N21/25 ,  G01N21/68

Abstract: 본발명은회전테이블(2)에의해웨이퍼(W)를공전시키면서플라즈마처리하는장치에관한것으로, 히터유닛(7)의광에의해밝게되어있는플라즈마발생영역에서의플라즈마의착화를확실하게검출한다. 진공용기(1)의천장면에투과창(300)을설치하고, 광검출부(301)에의해투과창(300)의하방측의플라즈마발생영역의광을검출한다. 그리고 R, G, B의각 광강도의합계에대한 R, G, B의각각의비율을구하고, 또한안테나(83)에고주파전력을공급하기전후에서의각 비율의변화율을구해서그들을합계한값을평가값으로하고, 평가값과임계값을비교하여, 평가값이임계값보다도크면플라즈마의착화가일어나고, 평가값이임계값이하이면플라즈마의착화가일어나지않았다고판단한다.

公开(公告)号：KR1020140130840A

公开(公告)日：2014-11-12

申请号：KR1020130049310

申请日：2013-05-02

Applicant: 광주과학기술원

Inventor： 정성호 ,  김찬규 ,  이석희 ,  인정환 ,  이학재

IPC: G01N21/71

CPC classification number: G01J3/443 ,  G01N21/718 ,  Y02E10/541 ,  Y02P70/521

Abstract: 본 발명의 제1 실시예에 따른 CIGS 박막의 깊이에 따른 성분 정량분석 방법은, CIGS 박막에 레이저 빔을 조사하여 플라즈마를 발생시키고, 상기 플라즈마로부터 발생하는 분광선을 얻는 단계, 상기 CIGS 박막의 특정 원소의 분광선들 중 특성이 유사한 분광선들을 선택하는 단계, 및 상기 선택된 분광선들의 강도를 합한 값을 이용하여 성분 조성을 측정하는 단계를 포함할 수 있다.

Abstract translation: 根据本发明的实施例，根据CIGS薄膜的深度定量分析物质的方法包括：通过将激光束照射到CIGS薄膜并获得从等离子体产生的光谱线来产生等离子体的步骤; 在CIGS薄膜的特定元素的谱线中选择具有相似特征的谱线的步骤; 以及使用增加所选谱线强度的值来测量物质组成的步骤。

公开(公告)号：KR101386017B1

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：KR1020087008044

申请日：2006-08-30

Applicant: 퍼킨엘머, 인크.

Inventor： 모리스로에,피터,제이.

IPC: G01N21/73 ,  G01J3/30

CPC classification number: G01N21/73 ,  G01J3/443 ,  G01N21/68 ,  G01N2201/126 ,  H01J49/105

Abstract: 토치에서 플라즈마를 유지하는 장치가 제공된다. 특정 실시예에서, 장치는 전원에 연결되도록 구성되고, 상기 토치의 방사면을 따라 루프 전류를 제공하도록 구성되고 배열된 제 1 전극을 포함한다. 임의의 실시예에서, 상기 토치의 방사면은 상기 토치의 종축에 실질적으로 수직이다.
플라즈마 발생 장치, 전극, 접지 플레이트, 토치

Abstract translation: 提供了一种用于在割炬中维持等离子体的装置。 在某些示例中，该装置包括被配置为耦合到电源并被构造和布置成沿着焊炬的径向平面提供回路电流的第一电极。 在一些示例中，焊炬的径向平面基本上垂直于焊炬的纵向轴线。

公开(公告)号：KR1020140034835A

公开(公告)日：2014-03-20

申请号：KR1020137033673

申请日：2012-05-18

Applicant: 오와이 스파클리케 에이비

Inventor： 니라넨카이 ,  라우노에르노

IPC: G01N21/39

CPC classification number: G01N21/61 ,  G01B11/06 ,  G01J3/443 ,  G01N21/031 ,  G01N21/39 ,  G01N21/55 ,  G01N21/67 ,  G01N2021/0396

Abstract: 서로에게 떨어져서 위치한 간격 (spacing)을 형성한 적어도 두 개의 유리 시트들을 구비한 유리 유닛의 상기 간격에 포함된 가스 혼합물 내의 가스 성분의 농도를 판별하는 비-침입성 (non-invasive)의 방법이 제공된다. 상기 유리 유닛의 표면에 어떤 각도로 하나 이상의 광 빔 (light beam)들이 인가되며, 이 경우 방사된 광 빔의 파장은 관심대상인 가스 성분의 적어도 하나의 흡수선 (absorption line) 주변에서 또는 그 흡수선을 넘어서 변한다. 상기 간격의 적어도 하나의 표면 또는 반대 측면에 위치한 접촉영역 (interface)을 통한 또는 상기 표면이나 접촉영역으로부터 반사된 상기 광 빔들을 탐지기에 의해서 수집되며 그리고 상기 관심대상 가스 성분의 흡수선에 걸쳐서 상기 전송된 또는 반사된 광 빔들의 강도 (intensity)에서의 비-선형 변이들이 컴포넌트 판별된다. 측정될 상기 가스 성분의 농도는 상기 강도에서의 상기 비-선형 변이들을 기반으로 하여 판별된다.

公开(公告)号：KR1020110133758A

公开(公告)日：2011-12-14

申请号：KR1020100053331

申请日：2010-06-07

Applicant: 명지대학교 산학협력단

Inventor： 한승수 ,  홍상진 ,  전성익 ,  김승균 ,  김민우

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205

CPC classification number: H01J37/32963 ,  G01J3/443

Abstract: PURPOSE: A plasma process diagnosing system, a method for detecting an end point in the same, and a device thereof are provided to detect an end point using a light division analyzing method, a concealing Markov model, and a Viterbi algorithm, thereby accurately detecting whether a plasma process is abnormal and accurately detecting a processing state. CONSTITUTION: A chamber(100) receives a holder(102). A layer made of SiO2 is formed on a wafer(104) arranged on the holder. A positive photo resist or a negative photo resist is formed on the layer. A photo resist layer has a fixed pattern. The photo resist layer is formed on the layer. A sensing unit(110) senses light which is generated during a reaction process.

Abstract translation: 目的：提供等离子体处理诊断系统，检测端点的方法及其装置，以使用光分割方法，隐马尔可夫模型和维特比算法来检测终点，由此精确检测 等离子体处理是否异常，并准确地检测处理状态。 构成：室（100）接收保持器（102）。 在设置在保持器上的晶片（104）上形成由SiO 2制成的层。 在该层上形成正光阻或负光刻胶。 光刻胶层具有固定图案。 在该层上形成光刻胶层。 感测单元（110）感测在反应过程中产生的光。

公开(公告)号：KR1020110091209A

公开(公告)日：2011-08-11

申请号：KR1020100010926

申请日：2010-02-05

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 손종락 ,  박일우

IPC: G01J3/51 ,  G01J3/443 ,  H01L33/58

CPC classification number: G01J3/51 ,  G01J3/443 ,  H01L33/58

Abstract: PURPOSE: Device and method for evaluating optical characteristic of an LED and a method of manufacturing an LED device are provided to reduce color dispersion of an LED device emitting a particular color of light including white and realize desired color coordinates easily and effectively. CONSTITUTION: A device(100) for evaluating optical characteristic of an LED emits white light through an optical converting filter(151) in a process of evaluating light emitting from an LED bare package(50) and measures color coordinates of the emitted white light. The LED bare package is formed by die bonding of an LED chip(10) to a package body(20) and by connecting of a chip to the lead frame(not shown) of the body by wire bonding if necessary. The LED bare package is an intermediate product before phosphor bearing resin(including a bag) is coated. The package body comprises a reflective cup and an LED chip can be mounted in the reflective cup.

Abstract translation: 目的：提供用于评估LED的光学特性的装置和方法以及制造LED装置的方法，以减少发射包括白色的特定颜色的LED的LED装置的色散，并且容易且有效地实现所需的色坐标。 构成：用于评估LED的光学特性的装置（100）在评估来自LED裸封装（50）的发光的过程中通过光转换滤光器（151）发射白光并测量所发射的白光的颜色坐标。 通过LED芯片（10）与封装主体（20）的裸片接合，并且如果需要，通过引线接合将芯片连接到主体的引线框架（未示出）而形成LED裸封装置。 LED裸露包装是在涂覆荧光体轴承树脂（包括袋子）之前的中间产品。 包装体包括反射杯，LED芯片可以安装在反射杯中。

公开(公告)号：KR101010928B1

公开(公告)日：2011-01-26

申请号：KR1020090098004

申请日：2009-10-15

Applicant: (주)화백엔지니어링

Inventor： 이강 ,  홍상진 ,  이상열 ,  안종환

IPC: G01J3/46

CPC classification number: G01N21/25 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0202 ,  G01J3/0264 ,  G01J3/443 ,  G01N21/68

Abstract: PURPOSE: An arc detection apparatus is provided to immediately and sensitively check the internal state of a processing chamber, thereby monitoring the abnormality of plasma in the processing chamber in real time. CONSTITUTION: An arc detection apparatus comprises an RGB sensor unit(200), a master board(300), an analog to digital converter(231), a color analysis unit(236) and a comparison unit(237). The RGB sensor unit comprises an RGB module(230) which measures the light generated from plasma in a plasma processing chamber. The master board processes signals outputted from the RGB sensor unit and controls the operation of the processing chamber or displays the processing state to outside. The analog to digital converter changes RGB signals detected by the RGB sensor unit into digital signals. The color analysis unit changes the plasma state into numerically quantized RGB optical data. The comparison unit compares RGB optical data transmitted from the color analysis unit with the RGB optical data obtained from the plasma of steady state.

Abstract translation: 目的：提供一种电弧检测装置，用于立即敏感地检查处理室的内部状态，从而实时监测处理室中的等离子体的异常。 构成：电弧检测装置包括RGB传感器单元（200），主板（300），模数转换器（231），颜色分析单元（236）和比较单元（237）。 RGB传感器单元包括RGB模块（230），其测量在等离子体处理室中由等离子体产生的光。 主板处理从RGB传感器单元输出的信号并控制处理室的操作或将处理状态显示在外部。 模数转换器将RGB传感器单元检测到的RGB信号变为数字信号。 颜色分析单元将等离子体状态改变为数字量化的RGB光学数据。 比较单元将从颜色分析单元发送的RGB光学数据与从稳态等离子体获得的RGB光学数据进行比较。

公开(公告)号：KR1020100091378A

公开(公告)日：2010-08-19

申请号：KR1020090010547

申请日：2009-02-10

Applicant: 삼성전자주식회사 ,  연세대학교 산학협력단

Inventor： 이헌정 ,  채승기 ,  한재원 ,  오창훈

IPC: H01L21/205 ,  H05H1/24

CPC classification number: G02B21/0028 ,  G01J3/02 ,  G01J3/0208 ,  G01J3/0229 ,  G01J3/0262 ,  G01J3/0289 ,  G01J3/443

Abstract: PURPOSE: An optical apparatus for plasma is provided to measure the spatial distribution of plasma emitted light by regulating the distance between a light receiving lens and a pin-hole. CONSTITUTION: A light receiving lens(110) receives optical emission spectrum from plasma. A first aperture is arranged between the light receiving lens and the plasma to block out-focused light. A second aperture is arranged between the light receiving lens and the phase forming region of the light receiving lens to block in-focused light. A pin-hole is arranged in the phase forming region of the light receiving lens to limit the depth of focus with respect to a target region.

Abstract translation: 目的：提供一种用于等离子体的光学装置，通过调节光接收透镜和针孔之间的距离来测量等离子体发射光的空间分布。 构成：光接收透镜（110）从等离子体接收光发射光谱。 在光接收透镜和等离子体之间布置第一孔以阻挡聚焦外的光。 在光接收透镜和光接收透镜的相位形成区域之间布置第二孔，以阻挡聚焦光。 在光接收透镜的相位形成区域中布置有针孔，以限制相对于目标区域的聚焦深度。

公开(公告)号：KR1020090116779A

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：KR1020097018412

申请日：2008-03-24

Applicant: 미쯔이 죠센 가부시키가이샤

Inventor： 타키자와카즈키

IPC: H01L21/205 ,  H01L21/3065 ,  H05H1/00

CPC classification number: H05H1/0043 ,  G01J3/443 ,  H01J37/32926 ,  H01J37/32954 ,  H01J37/32972

Abstract: A laser beam with a wavelength capable of pumping atoms of helium in the metastable state is directed to a produced plasma, and atoms in the metastable state are excited. Absorption amount information representing the amount of laser beam absorbed is acquired, and the density of atoms of helium in the metastable state in the plasma is computed from the absorption amount. The emissions of light from helium gas in the plasma caused by transition from two different excited states to the lower level are measured, and the ratio between the intensities of the emissions is determined. The electron temperature of the produced plasma is computed from the computed density of the atoms of helium gas in the metastable state and the computed emission intensity ratio. With this, the plasma electron temperature can be computed with a relatively high accuracy irrespective of the condition of the plasma atmosphere.

Abstract translation: 具有能够在亚稳态的氦原子的波长的激光束被引导到产生的等离子体，并且激发亚稳态的原子。 获取表示吸收的激光束的量的吸收量信息，根据吸收量计算等离子体中的亚稳态的氦原子的密度。 测量从两个不同的激发态转换到较低的等离子体所产生的等离子体中氦气的光的发射，确定发射强度之间的比例。 所产生的等离子体的电子温度是从亚稳态中氦气原子的计算密度和计算出的发射强度比计算的。 由此，与等离子体气氛的条件无关地，可以以相对高的精度计算等离子体电子温度。

公开(公告)号：KR1020060053778A

公开(公告)日：2006-05-22

申请号：KR1020040094221

申请日：2004-11-17

Applicant: 삼성전자주식회사

Inventor： 곽희진 ,  김홍식 ,  송선진 ,  윤성준 ,  김진성 ,  김정주

IPC: H01L21/66

CPC classification number: H01J37/32972 ,  G01J3/443

Abstract: 본 발명은 분광 분석기를 이용한 파장 선정을 위한 시스템 및 그 방법에 관한 것이다. 파장 선정 시스템은 플라즈마 공정을 처리하는 공정 챔버와, 공정 챔버로부터 플라즈마 공정 시 방출되는 빛의 파장으로부터 플라즈마 내의 화학종의 성분을 분석, 확인하는 분광 분석기와, 공정 챔버로부터 플라즈마 공정 시 챔버 내의 가스에 포함되는 물질들의 질량을 분석하여 성분을 확인하는 질량 분석기 및, 분광 분석기 및 질량 분석기로부터 측정된 데이터를 받아서, 기울기 변동의 일치도가 높은 파장을 선정하는 처리부를 포함한다. 본 발명에 의하면, 플라즈마 공정에서 분석 대상 화학종이 방출하는 여러 개 파장들의 세기 데이터와 질량 분석기에서 확인되는 데이터를 이용하여 기울기 변동의 일치도가 높은 파장을 선정한다.
플라즈마 공정, 분광 분석기, 질량 분석기, 파장 선정