公开(公告)号：KR101770994B1

公开(公告)日：2017-09-05

申请号：KR1020120073413

申请日：2012-07-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  이토노리히로 ,  오가타노부히로 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B05B15/04 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05B14/00 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02 ,  G03F7/40 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715

Abstract: 회수컵과는별개로기액분리장치를설치할필요를없애, 기판액처리장치의소형화를도모하는것이다. 본발명에서는, 처리공간내에서기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에형성한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에설치한승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을승강시키기위한컵 승강기구를가지도록했다.

Abstract translation: 液体分离装置与回收杯分开，从而减小基底液体处理装置的尺寸。 之后该处理在本发明中，而不是在处理空间中的基板，并且提供给所述衬底的旋转机构，以及用于选择性地供给的多个种类的处理液体中的至基底机构的处理液供给，以及用于通过不旋转所述衬底的衬底 一个和杯回收液体中，多个以回收液体的液体回收部形成多个杯的的处理中，以排出从液体回收单元回收的处理液的次数被形成在回收杯排水球的底部，收集 形成杯排气口的排水guboda上侧并在多个杯以预定距离，以覆盖形成在排气口的上端部固定在盖和，固定罩的上方以便引导所述供应至衬底如部分液体回收之后的处理溶液 根据处理液的种类，使升降杯升降的升降机构。

公开(公告)号：KR101583104B1

公开(公告)日：2016-01-07

申请号：KR1020110128293

申请日：2011-12-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  오가타노부히로 ,  가네코사토시 ,  나가미네슈이치 ,  가이요시히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/6708 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/68728

Abstract: 본발명은, 기판의하면을효율적으로세정할수 있는액 처리장치를제공한다. 기판세정장치(10)는, 기판유지부에유지된기판(W)의하면의아래쪽에위치하여기판의하면에처리액을토출하는노즐(60)을구비한다. 노즐은, 기판의중앙부에대향하는위치로부터기판의주연부에대향하는위치사이에배열된복수의제1 토출구(61)를갖고있다. 제1 토출구는, 기판의하면을향해서토출되는처리액의토출방향이기판의회전방향의성분을갖도록형성되어있다.

Abstract translation: 本发明提供一种能够有效地清洁基板的液体处理装置。 基板清洁装置10设置在由基板保持单元保持的基板W的下方，并且包括用于将处理液排出到基板上的喷嘴60。 喷嘴具有多个第一排出口（61），该多个第一排出口布置在与基板的中心相对的位置和面对基板的周边的位置之间。 第一排出口被形成为使朝向基板排出的处理液的排出方向成为基板旋转方向的成分。

公开(公告)号：KR101417208B1

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：KR1020110040840

申请日：2011-04-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 오가타노부히로 ,  나가미네슈이치 ,  기요타겐지

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67173 ,  Y10T137/0324 ,  Y10T137/87684 ,  Y10T137/87877

Abstract: 본 발명은, 유로를 전환하기 위한 구동 기구의 개수를 삭감할 수 있는 유로 전환 장치를 제공하고, 또한 피처리체를 처리하는 처리 유체의 전용 배출로를 전환하기 위한 구동 기구의 개수를 삭감할 수 있는 액처리 장치를 제공하는 것을 과제로 한다.
웨이퍼(W)에 대하여 복수 종별의 처리 유체를 서로 다른 타이밍에 공급하여 처리를 행하는 액처리 유닛(3)으로부터, 이 액처리 유닛(3)의 분위기를 배기로(35), 유로 전환부(5)를 통해, 복수의 전용 배출로(접속용 유로)(61∼63)에 배기한다. 상기 유로 전환부(5)는, 외통(51)과 그 내부에 마련된 회전통(53)을 구비하고, 상기 회전통(53)의 3개의 개구부(53a∼53c)는, 상기 회전통(53)을 회전시키는 동안에, 서로 대응하는 외통(51)의 3개의 접속구(51a∼51c)와 회전통(51)의 개구부(53a∼53c)의 세트 중 하나가 겹쳐져 연통하고 또한 다른 세트에 대해서는 연통하지 않는 상태가 각 세트 사이에서 순서대로 발생하도록 배치되어 있다.

公开(公告)号：KR1020140079338A

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：KR1020137029451

申请日：2012-10-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  하시모토유스케

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677 ,  H01L21/687 ,  H01L21/311 ,  H01L21/02 ,  B08B3/04

CPC classification number: B08B3/04 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68792 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/02282

Abstract: 기판 처리 장치는, 액체를 저류하는 저류조와, 기판(W)을 회전 가능하게 수평으로 지지하는 기판 지지부(10)와, 저류조에 저류된 액체에 기판(W)을 침지하는 침지 위치와 침지 위치의 상측으로서 저류조에 저류된 액체로부터 기판(W)을 이격시킨 이격 위치 사이에서, 기판 지지부(10)를 이동시키는 플레이트 구동부(30a)를 구비한다. 기판 처리 장치는, 기판 지지부(10)로 지지된 기판(W)을 회전시키는 회전 구동부(30M)와, 이격 위치에 있어서 회전 구동부(30M)로 회전되고 있는 기판(W)에 액체를 공급하는 액체 공급부(10n, 20m, 20n)도 구비한다.

Abstract translation: 一种基板处理装置，包括：储存罐，被配置为储存液体; 基板支撑单元，其构造成可水平地支撑基板; 以及板驱动单元，其构造成将所述基板支撑单元移动到所述基板浸入到所述储存槽中的液体中的浸渍位置与所述浸渍位置上方的所述基板与所述液体分离的分离位置之间移动 储存在储罐中。 基板处理装置还包括：旋转驱动单元，被配置为使由基板支撑单元支撑的基板旋转，以及液体供应单元，其构造成将液体供应到由旋转驱动单元在分离位置旋转的基板。

公开(公告)号：KR1020130135125A

公开(公告)日：2013-12-10

申请号：KR1020130061508

申请日：2013-05-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가이요시히로 ,  이시카와신야 ,  카미카와유지 ,  나가미네슈이치 ,  신도나오키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L29/1608 ,  B05B1/36 ,  B05B15/555 ,  B05B15/557 ,  B08B3/102 ,  B08B9/0321 ,  B08B9/0328 ,  H01L21/67051 ,  H01L29/7813

Abstract: The present invention cleans from a front end of a nozzle to an upper part of the nozzle. A nozzle cleaning device according to an embodiment of the present invention comprises a water storage tank, a liquid discharge unit, and an overflow discharge unit. The water storage tank comprises a cylindrical inner peripheral surface. Cleaning liquids, which clean the nozzle and are used for substrate processing, flow in the water storage tanks. The liquid discharge unit discharges the cleaning liquids into the water storage tank toward a position which is eccentric to the central axis of the inner peripheral surface of the water storage tank; flows in the cleaning liquids in the water storage tank; and forms a vortex in the water storage tank. The overflow discharge unit discharges the cleaning liquids which overflow from the water storage tank. [Reference numerals] (44) Second discharge unit

Abstract translation: 本发明从喷嘴的前端清洗到喷嘴的上部。 根据本发明实施例的喷嘴清洁装置包括储水箱，液体排出单元和溢流排放单元。 储水箱包括圆筒形的内周面。 清洁喷嘴并用于基板处理的清洁液体在储水箱中流动。 液体排出单元将清洗液向储水箱的内周面的中心轴偏心的位置排出， 流入储水箱内的清洗液; 并在储水箱中形成涡流。 溢流排放单元排出从储水箱溢出的清洗液。 （附图标记）（44）第二排出单元

公开(公告)号：KR1020100020421A

公开(公告)日：2010-02-22

申请号：KR1020090069931

申请日：2009-07-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  기시타나오후미 ,  비와사토시 ,  후지무라고우지

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341 ,  G02F1/13

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67178

Abstract: PURPOSE: A liquid treatment apparatus, a liquid treatment method and a storage medium are provide to suppress the total exhaust volume of liquid treatment equipment and to increase a array number of a substrate holding unit. CONSTITUTION: First air blow amount controllers are respectively connected to a plurality of discrete exhaust ducts(7). The first air blow amount controllers adjusts the outside blowing amount from a cup body side and the outside blowing amount from a branch pipe side. When a drug solution nozzle is a set position opposite to a substrate on a substrate holding part, a controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the cup body(4) in a first state. The controller sets the first air blow amount controllers corresponding to the other cup body in a second state.

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以抑制液体处理设备的总排气量并增加基板保持单元的阵列数。 构成：第一吹气量控制器分别连接到多个离散排气管道（7）。 第一吹气量控制器从分支管侧调节杯体侧的外侧吹出量和外部吹出量。 当药液喷嘴是与基板保持部件上的基板相对的设定位置时，控制器将与杯体（4）对应的第一吹气量控制器设定在第一状态。 控制器在第二状态下设定与另一杯体对应的第一吹气量控制器。

公开(公告)号：KR100676038B1

公开(公告)日：2007-01-29

申请号：KR1020000047160

申请日：2000-08-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쓰야마유지 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B05C11/08

Abstract: 웨이퍼의 주위에 설치하는 컵의 상부측을 사각통형상, 하부측을 원통형상으로 하고, 이 컵은, 위쪽에서 보았을 경우, 원통형상을 형성하는 부분이 사각통형상을 형성하는 부분의 내측에 위치하는 형상으로 되어 있다. 컵은 승강기구를 갖추고, 공급노즐의 스캔(scan)시에는 컵 상부측이 웨이퍼의 옆쪽으로, 세정액 및 현상액을 떨쳐 떨어뜨릴 때에는 컵 하부측이 웨이퍼 위쪽 레벨(level) 및 아래쪽 레벨에 걸치는 위치로 되도록 제어부에 의해 제어된다. 공급노즐의 스캔은, 상부측 컵 내부에 공급노즐을 위치시켜 행한다.

公开(公告)号：KR1020020079440A

公开(公告)日：2002-10-19

申请号：KR1020020018191

申请日：2002-04-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  B08B3/04 ,  Y10S134/902

Abstract: PURPOSE: To separately discharge gas and liquid in wafer development. CONSTITUTION: A cup housing portion 60 is provided on the bottom thereof with a bottom plate 61. The bottom plate 61 is provided with a drain port 62, and the upper face of the bottom plate 61 is inclined, so that the drain port 62 is positioned at the lowermost level. A cup 67, which encircles a wafer W during processing, is placed in the cup which houses the portion 60. An inclined plate 70, having substantially a conical shape, is placed on the bottom plate 61 inside the cup 67. The inclined plate 70 is provided with exhaust pipes 72, and an exhaust port 73s of the exhaust pipes 72 is positioned at a level higher than that of the inclined plate 70. Developing solution, flying out of a wafer W or similarly leaving the wafer W, flows on the bottom plate 61 and the inclined plate 70 and is discharged through the drain port 62, without flowing into the exhaust ports 73. Air supplied from an air supplying mechanism 95 located above goes through the cup 67 and is exhausted through the exhaust pipes 72.

Abstract translation: 目的：在晶圆开发中单独排放气体和液体。 构成：底座61的底部设置有杯容器部60，底板61设有排水口62，底板61的上表面倾斜，排水口62为 位于最低层。 在加工期间环绕晶片W的杯67放置在容纳部分60的杯中。具有大致圆锥形状的倾斜板70放置在杯67内的底板61上。倾斜板70 设有排气管72，排气管72的排气口73s位于比倾斜板70高的位置上。从晶片W飞出或类似地离开晶片W的显​​影液流过 底板61和倾斜板70，并且通过排出口62排出，而不流入排气口73.从位于上方的供气机构95供应的空气经过杯67，并通过排气管72排出。

公开(公告)号：KR1020000077484A

公开(公告)日：2000-12-26

申请号：KR1020000029242

申请日：2000-05-30

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나가미네슈이치 ,  아키모토마사미 ,  니시야아키라 ,  고스기히토시

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021

Abstract: 레지스트도포막을가진기판이놓이는얹어놓는대와, 이얹어놓는대상의기판에현상액을공급하는노즐과, 이노즐에현상액을공급하는액공급기구와, 노즐과기판을상대적으로이동시키는이동기구를구비하는현상장치로서, 노즐은, 액공급기구에연이어통하는액입구와, 이액입구를통하여상기액공급기구로부터공급된현상액을잠정적으로저장시켜두는액저장부와, 이액저장부의바닥부로연이어통하며, 액저장부로부터의현상액을압력손실시키는좁은유로와, 이좁은유로에연이어통하는토출구유로를가진직선상태의액토출부와, 토출구유로내에설치되고, 또한좁은유로의출구근방에배치되며, 좁은유로에서나온현상액의기세를약하게하여, 상기토출구로부터토출되는현상액이상기레지스트도포막에주는충격력을저감시키는완충부재를구비한다.

公开(公告)号：KR1020170015415A

公开(公告)日：2017-02-08

申请号：KR1020170011934

申请日：2017-01-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  이토노리히로 ,  오가타노부히로 ,  나가미네슈이치

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/67 ,  B05B15/04 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05B14/00 ,  B05C11/08 ,  B08B3/04 ,  B08B3/08 ,  B08B15/02 ,  G03F7/40 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/02052

Abstract: 본발명은기판을처리액으로처리하는기판액처리장치에관한것이다. 본발명의기판액처리장치는, 기판을보지하고, 또한보지한기판을회전시키기위한기판회전기구와, 기판으로복수종류의처리액을선택적으로공급하는처리액공급기구와, 기판으로공급한후의처리액을회수하기위한회수컵과, 처리액을회수하기위하여회수컵에형성한복수의액 회수부와, 액회수부로부터회수한처리액을배출하기위하여회수컵의저부에형성한배액구와, 회수컵의배액구보다상방측에형성한배기구와, 배기구의상방을소정의간격을두고덮기위하여회수컵에고정한고정커버와, 기판으로공급한후의처리액을액 회수부로안내하기위하여고정커버의상방에서승강가능하게설치된승강컵과, 처리액의종류에따라승강컵을고정커버에대하여승강시키기위한컵 승강기구를가지고, 승강컵에는구획벽에승강가능하게삽입관통된승강로드가접속되어있고, 승강로드는컵 승강기구와접속되어있으며, 승강컵이승강할때, 배기구와고정커버와의사이의상기소정의간격은일정하게유지되어, 배기압력의변동을방지한다.

Abstract translation: 提供了一种基板液体处理装置，其中处理溶液和气氛可以在收集杯内彼此分离。 基板液体处理装置包括：基板旋转单元; 处理液供应单元; 收集杯，其被配置为收集处理溶液; 在收集杯处形成的液体收集区域; 形成在收集杯的底部的液体排出口; 形成在排液口上方的排气口; 固定盖，其被构造成在其间具有空间覆盖所述排气口的上部; 提升杯，其设置在所述固定盖的上方并且被构造成将所述处理溶液引导到所述液体收集区域中; 以及杯升降单元，其配置为根据处理溶液的种类上下移动升降杯。