公开(公告)号：KR1020120025393A

公开(公告)日：2012-03-15

申请号：KR1020110074341

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67721

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a coating and developing method, and a storage medium are provided to reduce the installation area of an apparatus by being formed to convert a negative developing process and a positive developing process. CONSTITUTION: A substrate carried with a carrier(C) is delivered to a processing block(S20). A coating film including a resist film is formed in the processing block. The substrate is carried to an exposure apparatus through an interface block(S7). The substrate coming back through the interface block after exposure is developed in the processing block. The substrate is delivered to a carrier block(S1).

Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，涂覆和显影方法以及存储介质，以通过形成负极显影处理和正显影处理来减少设备的安装面积。 构成：将携带有载体（C）的基板输送到处理块（S20）。 在处理块中形成包括抗蚀剂膜的涂膜。 基板通过界面块传送到曝光装置（S7）。 在处理块中展开曝光后通过界面块返回的衬底。 将衬底输送到载体块（S1）。

公开(公告)号：KR1020120005937A

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：KR1020110043716

申请日：2011-05-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  도미따히로시 ,  하야까와마꼬또 ,  요시다다쯔헤이

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus, a method thereof, and a memory medium are provided to apply a unit block for a dual developing process, thereby suppressing the degradation of operation efficiency of the coating and developing apparatus. CONSTITUTION: A carrier block(S1) comprises a loading stand(11) which loads a carrier(C), an opening and closing part(12), and a transfer arm. The transfer arm comprises five wafer holding support parts in up and down directions. A processing block(S2) comprises unit blocks(B1-B6) which perform liquid processing process in a wafer. The unit block comprises a heating module, a main arm, and a return region. A liquid processing unit comprises an antireflection film formation module(BCT1, 2) and a resist film formation module(COT1,2).

Abstract translation: 目的：提供一种涂布和显影装置，其方法和存储介质以应用用于双显影处理的单位块，从而抑制涂层和显影装置的操作效率的劣化。 构成：载体块（S1）包括装载载体（C）的装载台（11），开闭部分（12）和传送臂。 传送臂在上下方向上包括五个晶片保持支撑部。 处理块（S2）包括在晶片中执行液体处理处理的单元块（B1-B6）。 单元块包括加热模块，主臂和返回区域。 液体处理单元包括防反射膜形成模块（BCT1,2）和抗蚀膜形成模块（COT1,2）。

公开(公告)号：KR101788334B1

公开(公告)日：2017-10-19

申请号：KR1020120105189

申请日：2012-09-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 에노끼다스구루 ,  나까하라다마사히로 ,  미야따아끼라 ,  기야마히데까즈 ,  이이다나루아끼

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67178 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67769 ,  H01L21/67781 ,  H01L21/68707 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/139

Abstract: 기판처리장치는, 좌우로이격되어설치된제1 캐리어적재부및 제2 캐리어적재부를포함하는캐리어블록과, 복수의계층부분을상하로배치한계층구조를가짐과동시에각 계층부분이기판을반송하는기판반송기구와기판을처리하는처리모듈을갖는처리블록과, 각각대응하는계층부분의기판반송기구에의해기판의전달이행해지는높이위치에배치된복수의기판적재부를포함하는타워유닛과, 제1 캐리어적재부상의캐리어와타워유닛의각 기판적재부사이에서기판의이동탑재를행하는제1 기판이동탑재기구와, 제2 캐리어적재부상의캐리어와타워유닛의각 기판적재부사이에서기판의이동탑재를행하는제2 기판이동탑재기구를갖는다.

Abstract translation: 一种基板处理装置，用于输送第一载波安装部分和所述第二载波安装载体块，同时为具有一个层结构中的多个层的部分的基板的每个层部分上下布置，其包括设置成从侧面间隔开到另一侧 并且包括基板搬送机构和所述处理块的塔架单元具有用于处理衬底，对应于装载多个被布置在高度位置的衬底的处理模块变为由每个单元的层部分的基板搬送机构在衬底的实施发送时，第一个 和所述第一基板移动安装机构，用于在每个载波和载波安装部与所述基板进行移动的塔单元busayi装载的基板的每个载体的基板安装的与所述基板进行移动安装部分的载体和塔单元busayi第二 和第二基板移动和安装机构。

公开(公告)号：KR1020160110335A

公开(公告)日：2016-09-21

申请号：KR1020160115376

申请日：2016-09-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16 ,  G03F7/00

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/002 ,  G03F7/16

Abstract: 본발명의과제는처리블록의설치면적을억제하는동시에장치의가동효율의저하를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 전단처리용의단위블록을제1 전단처리용의단위블록및 제2 전단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여서로적층하고, 후단처리용의단위블록을제1 후단처리용의단위블록및 제2 후단처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하고, 또한현상처리용의단위블록을제1 현상처리용의단위블록및 제2 현상처리용의단위블록으로서상하로이중화하여, 서로적층하여처리블록을구성하고, 전단처리용의단위블록으로부터후단처리용의각 단위블록에기판을배분하여전달하는제1 전달기구와, 노광후의기판을현상처리용의단위블록에배분하여전달하는제2 전달기구를구비하도록도포, 현상장치를구성한다.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够限制处理块的安装面积的技术，同时限制设备的操作效率的降低。 处理块通过以下步骤形成：将用于前端处理的单位块作为第一前端处理的单位块和用于第二前端处理的单位块进行垂直二次化，并堆叠单元块; 将用于后端处理的单位块作为第一后端处理的单位块和用于第二后端处理的单位块垂直二元化，并且堆叠单元块; 并且将用于开发过程的单位块垂直二元化为开发前端处理的单位块和用于第二开发过程的单元块，并且堆叠单元块。 第一传送装置从用于前端处理的单元块向后端处理的每个单元块分配和传送基板。 第二传送装置将完成曝光的基板分配并传送到用于显影处理的单元块。

公开(公告)号：KR1020130049746A

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：KR1020120123672

申请日：2012-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나까하라다마사히로 ,  사까따요오지 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루 ,  나까시마쯔네나가

IPC: H01L21/02 ,  H01L21/027 ,  H01L21/302 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L21/67051 ,  G03F7/70691 ,  H01L21/02043 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67213 ,  H01L21/67225 ,  H01L21/67242 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67706 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/6875 ,  H01L22/20 ,  H01L21/02008 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/302

Abstract: PURPOSE: A substrate processing system, a substrate transferring method, and a computer storage medium are provided to reduce a load by cleaning the rear of a substrate before an exposure process. CONSTITUTION: A cleaning unit(100) cleans the rear of a wafer. An inspecting unit(101) inspects whether to expose the wafer before the wafer is inputted. A wafer transferring device(120,130) includes an arm to transfer a substrate. The wafer transferring device is installed in a housing.

Abstract translation: 目的：提供基板处理系统，基板转印方法和计算机存储介质，以在曝光处理之前清洁基板的后部来减小负载。 构成：清洁单元（100）清洁晶片的后部。 检查单元（101）检查在晶片输入之前是否暴露晶片。 晶片传送装置（120,130）包括用于传送基板的臂。 晶片转移装置安装在壳体中。

公开(公告)号：KR101161467B1

公开(公告)日：2012-07-02

申请号：KR1020070036835

申请日：2007-04-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네꼬도모히로 ,  미야따아끼라

IPC: H01L21/027

CPC classification number: Y02P90/02

Abstract: 카세트 스테이션과 처리 스테이션 사이에 검사 스테이션이 마련된 도포, 현상 장치에 있어서, 검사 모듈에 의해 기판이 불필요하게 체재되는 시간을 삭감하는 것이다.
검사 스테이션 내의 기판 반송 수단은 카세트 스테이션과 처리 스테이션 사이의 기판의 전달을 우선하고, 처리 스테이션 내의 기판 반송 수단의 사이클 타임 내의 남은 시간으로 검사 모듈에 대해 기판의 전달을 행하고, 검사 모듈로부터의 기판의 반출에 대해서는 기판의 추월을 행할 수 있도록(처리 순서가 큰 기판보다도 처리 순서가 작은 기판을 반출할 수 있음) 하고, 검사 모듈로의 기판의 반입에 대해서는 기판의 추월을 금지하고 있다.
웨이퍼, 카세트 스테이션, 전달 아암, 메인 아암, 전달 모듈, 검사 모듈

公开(公告)号：KR1020120028798A

公开(公告)日：2012-03-23

申请号：KR1020110074338

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유우이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/682

Abstract: PURPOSE: A coating/developing apparatus, a method thereof, and a storage medium are provided to process a substrate in the other side unit block when one side unit block is not available, thereby preventing degradation of a processing amount. CONSTITUTION: A carrier block(S1), a processing block, and an interface block(S5) are connected into a straight line shape. An exposure apparatus(S6) for performing a dipping exposure process is connected to the interface block. A loading table(11) loads a carrier(C). A transfer arm(13) extracts a wafer from the carrier through an opening/closing part(12). The transfer arm comprises five wafer maintenance support parts(14) in up and down directions.

Abstract translation: 目的：提供一种涂布/显影装置，其方法和存储介质，以在一侧单元块不可用时处理另一侧单元块中的基板，从而防止处理量的劣化。 构成：承载块（S1），处理块和接口块（S5）被连接成直线形状。 用于进行浸渍曝光处理的曝光装置（S6）连接到界面块。 装载台（11）装载载体（C）。 传送臂（13）通过打开/关闭部分（12）从载体提取晶片。 传送臂在上下方向上包括五个晶片维护支撑部件（14）。

公开(公告)号：KR1020120023534A

公开(公告)日：2012-03-13

申请号：KR1020110074464

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/0274

Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus, a coating-developing method thereof, and a storage medium are provided to prevent degradation of a processing quantity by performing a process with the other side module when one side module is not available by a unit block of a liquid processing system. CONSTITUTION: A processing block(S20) is comprised of a front side heating system block(S2), a liquid processing block(S3), and a rear side heating block(S4). The front side heating system block is arranged toward a washing block(S5) side from a carrier block side. The liquid processing block comprises first to fifth liquid processing unit blocks(B1-B5) for performing a liquid process on a wafer. Each liquid processing unit block is partitioned by a partition wall. The rear side heating block comprises first to third heating processing unit blocks(C1,C2,C3). The wafer is returned to an interface block after exposure treatment.

Abstract translation: 目的：提供一种涂布显影装置，其涂布显影方法和存储介质，以通过在单面模块不可用单面模块获得时通过与另一侧模块进行处理来防止处理量的劣化 液体处理系统。 构成：处理块（S20）包括前侧加热系统块（S2），液体处理块（S3）和后侧加热块（S4）。 前侧加热系统块朝向从承载块侧的洗涤块（S5）侧配置。 液体处理块包括用于在晶片上进行液体处理的第一至第五液体处理单元块（B1-B5）。 每个液体处理单元块由分隔壁分隔。 后侧加热块包括第一至第三加热处理单元块（C1，C2，C3）。 曝光处理后晶片返回界面块。

公开(公告)号：KR1020120005946A

公开(公告)日：2012-01-17

申请号：KR1020110061419

申请日：2011-06-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마쯔오까노부아끼 ,  미야따아끼라 ,  하야시신이찌 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/708 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/002 ,  G03F7/16

Abstract: PURPOSE: A coating and developing apparatus are provided to laminate unit blocks for a developing treatment process multiplexed in up and down directions in the unit block, thereby suppressing the installation area of a processing block while setting the appropriate depth size of the processing block. CONSTITUTION: A loading table(11) loading a carrier(C), an opening and closing part(12), and a transfer arm for picking up a wafer are installed in a carrier block(S1). The transfer arm comprises five wafer retention support parts in up and down directions. A processing block (S2) is connected to the carrier block. The processing block comprises unit blocks(B1-B6) for processing a liquid treatment process on the wafer. The unit block comprises a heating module, a main arm, and a return area. A liquid treatment unit comprises an antireflection film formation module(BCT1,2) and a resist film formation module(COT1,2).

Abstract translation: 目的：提供一种涂覆和显影装置，用于层压单元块中用于在上下方向上复用的显影处理工艺的单元块，从而在设置处理块的适当深度尺寸的同时抑制处理块的安装面积。 构成：装载载体（C）的装载台（11），开闭部分（12）和用于拾取晶片的传送臂安装在载体块（S1）中。 传送臂在上下方向上包括五个晶片保持支撑部件。 处理块（S2）连接到载体块。 处理块包括用于处理晶片上的液体处理过程的单元块（B1-B6）。 单元块包括加热模块，主臂和返回区域。 液体处理单元包括抗反射膜形成模块（BCT1,2）和抗蚀剂膜形成模块（COT1,2）。

公开(公告)号：KR1020100019968A

公开(公告)日：2010-02-19

申请号：KR1020090073070

申请日：2009-08-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미야따아끼라

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/677

CPC classification number: H01L21/67098 ,  G05B19/41815 ,  G05B19/4189 ,  G05B2219/31002 ,  G05B2219/45031 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67739

Abstract: PURPOSE: A coating-developing apparatus, a coating-developing method and a storage medium are provided to improve treatment quantity by rapidly sending back a substrate of a setting module after setting completion. CONSTITUTION: A recipe is selected(S1). A return schedule preparation part makes a return schedule of lot(S2). A controller practices processing toward the wafer of lot (S3). A temperature setting processing of the heat module is initiated(S4). The optimal time of the main arm is calculated(S5). According to the comparison result of the running time and optimal time, the following cycle 23 is processed(S6). The calculation about the optimal time is operated(S7). The atmosphere control of the main arm is determined through the comparison of the running time of the optimal time and executes cycle 23(S8). The optimal time of the main arm about each heat module is calculated(S9). The cycle 25 is processed after the waiting time of the main arm(S10).

Abstract translation: 目的：提供涂布显影装置，涂布显影方法和存储介质，以在设置完成之后快速地将设置模块的基板送回来来改善处理量。 规定：选择配方（S1）。 退货计划准备部分作出许可的退货时间表（S2）。 控制器对批次晶圆进行处理（S3）。 启动加热模块的温度设定处理（S4）。 计算主臂的最佳时间（S5）。 根据运行时间和最佳时间的比较结果，处理以下周期23（S6）。 操作最佳时间的计算（S7）。 通过比较最佳时间的运行时间并执行循环23来确定主臂的气氛控制（S8）。 计算主臂关于每个加热模块的最佳时间（S9）。 在主臂的等待时间之后处理循环25（S10）。