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公开(公告)号:CN107046795A
公开(公告)日:2017-08-15
申请号:CN201611104147.0
申请日:2016-12-05
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: H05K9/00
CPC classification number: H05K9/00 , G12B17/00 , G12B17/02 , H01J37/09 , H01J37/3002 , H01J2237/0264 , H05K9/0001 , H05K9/0003 , H05K9/0075
Abstract: 一种板包括其中的第一导磁板和第二导磁板。第一导磁板具有第一导磁方向。第二导磁板与第一导磁板重叠。第二导磁板具有第二导磁方向。第一导磁方向和第二导磁方向交叉。
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公开(公告)号:CN105531793A
公开(公告)日:2016-04-27
申请号:CN201480047309.4
申请日:2014-05-16
Applicant: 株式会社日立高新技术
IPC: H01J37/295 , G01N23/04 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/24 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/28
CPC classification number: H01J37/10 , G01N23/20058 , G01N2223/418 , H01J37/04 , H01J37/05 , H01J37/09 , H01J37/147 , H01J37/1472 , H01J37/153 , H01J37/24 , H01J37/244 , H01J37/26 , H01J37/261 , H01J37/28 , H01J37/285 , H01J37/295 , H01J2237/21 , H01J2237/2614
Abstract: 本发明提供一种电子显微镜,其特征在于,在通过关闭透射电子显微镜的物镜(5),使电子束的交叉(11、13)与限制视场光阑(65)一致,并使第一成像透镜(61)的焦距变化,来进行试样的像观察模式与试样的衍射图案观察模式的切换的无透镜傅科法中,在第一成像透镜(61)的后段配置偏转器(81),在确定成像光学系统的条件后能够固定照射光学系统(4)的条件。由此,在不安装磁屏蔽透镜的通常的通用型透射电子显微镜中,也能够对操作者没有负担地实施无透镜傅科法。
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公开(公告)号:CN105206491A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201510495691.1
申请日:2015-05-29
Applicant: 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
CPC classification number: H01J37/10 , H01J37/09 , H01J37/12 , H01J37/24 , H01J37/26 , H01J37/28 , H01J2237/0453 , H01J2237/1202
Abstract: 一种粒子束系统,包括粒子源;具有下游形成粒子束的多个开口(353)的第一多孔板(351);具有由粒子束穿透的多个开口(361)的第二多孔板(359);具有由还穿透第一和第二多孔板的开口的全部粒子穿透的开口(365)的孔板(363);具有由粒子束穿透的多个开口(357)并且具有针对束分别提供偶极场或四极场的多个场发生器(372)的第三多孔板(355);以及将电势馈送至多孔板和孔板的控制器(369),从而第二多孔板中的第二开口分别作为透镜作用在粒子束(3)上并将可调节激励馈送至场发生器。
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公开(公告)号:CN102439683B
公开(公告)日:2015-09-30
申请号:CN201080020420.6
申请日:2010-04-22
Applicant: 瓦里安半导体设备公司
CPC classification number: H01J37/08 , H01J27/024 , H01J37/09 , H01J2237/0451 , H01J2237/0453 , H01J2237/0456 , H01J2237/065 , H01J2237/08 , H01J2237/083 , H01J2237/31 , H01J2237/31701 , Y10S438/961
Abstract: 一种离子源,包括具有萃取孔隙的电弧室及等离子体鞘调制器。等离子体鞘调制器被装配以控制边界的形状,上述边界位于等离子体与接近萃取孔隙的等离子体鞘之间。等离子体鞘调制器可包括一对绝缘体,此对绝缘体安置于电弧室中且藉由安置于接近萃取孔隙的间隙来隔开。具有高电流密度的聚焦良好的离子束可藉由离子源产生。高电流密度离子束可改善相关制程的产出。离子束的发射率也可被控制。
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公开(公告)号:CN104350575A
公开(公告)日:2015-02-11
申请号:CN201380027656.6
申请日:2013-04-22
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/10 , H01J37/09 , H01J37/18 , H01J37/26 , H01J2237/103
Abstract: 本发明的目的在于提供一种通过有效地配置差动排气节流阀(111)与物侧限制光阑(110),从而保持照射电流的较大的动态范围并且具有高差动排气能力的带电粒子装置。本发明的特征在于,带电粒子束装置(100)的在内部具有光学系统的镜筒具有第1真空度的第1空间(106)以及比第1真空度更高真空度的第2空间(105),物侧限制光阑(110)配置于第2空间(105)。
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公开(公告)号:CN104284627A
公开(公告)日:2015-01-14
申请号:CN201380025915.1
申请日:2013-05-17
Applicant: 卡尔斯特里姆保健公司
IPC: A61B6/03
CPC classification number: A61B6/4007 , A61B6/032 , A61B6/06 , A61B6/4085 , A61B6/42 , A61B6/4405 , A61B6/488 , A61B6/501 , A61B6/54 , G06T2207/10141 , G06T2207/10144 , G06T2207/10148 , G06T2207/10152 , G06T2211/412 , H01J35/24 , H01J37/09 , H01J2235/162 , H01J2237/045
Abstract: 用于射线照相成像的方法和/或设备的实施例能够包括按照曲线布置的多个x射线源以及配置成相对于其旋转的探测器。在一个实施例中,CBCT成像方法和/或设备能够包括:使用静止的成角度分布x射线源以第一速度执行第一扫描,以获取照射第一视场(FOV)的探测器的第一CBCT投影数据;识别第一FOV内的感兴趣区域;以及使用x射线源、以第二速度执行第二扫描,使用由x射线源进行的第二放射来获取照射包括第一FOV内感兴趣区域的第二较小FOV的探测器的一部分的第二CBCT投影数据,其中第二速度大于第一速度。
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公开(公告)号:CN104241066A
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201410245642.8
申请日:2014-06-05
Applicant: FEI公司
IPC: H01J37/26
CPC classification number: H01J37/12 , H01J37/09 , H01J37/3005 , H01J2237/12 , H01J2237/20207
Abstract: 本发明公开了一种对带电粒子设备中的样品成像的方法。本发明涉及配备有离子束柱(102)和电子束柱(101)的双束设备,电子束柱包含静电浸没透镜(116)。当倾斜样品(104)时,静电浸没场失真并且失去绕电子光轴的对称。结果倾斜引入有害影响,诸如横向色像差和束位移。另外在样品的非倾斜位置中检测二次电子或后向散射电子的柱内检测器(141)将在当倾斜样品时归因于失去浸没场对称而表现出这些电子的混合。本发明示出如何通过关于最靠近样品的接地电极对平台进行偏置来消除或至少减少这些缺点。
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公开(公告)号:CN103597571B
公开(公告)日:2014-12-03
申请号:CN201280027699.X
申请日:2012-05-31
Applicant: 株式会社日立高新技术
CPC classification number: H01J37/16 , H01J37/09 , H01J37/20 , H01J2237/0216 , H01J2237/26
Abstract: 本发明提供一种带电粒子装置,其具有筒形的镜筒(10)、设于该镜筒内部的带电粒子线光学系统、设于该镜筒的试料台(103)、以及支承所述镜筒的支承装置(211、212)。所述支承装置具有在沿所述镜筒的轴线方向设定的多个支承点对所述镜筒进行简支的简支构造,所述镜筒的支承点被设定在如下位置:将所述镜筒视为两端为自由端的梁时的、与梁的振动的波节的位置对应的位置。由此,能够不增加镜筒自身的重量,使镜筒高刚性化,使作用于镜筒的振动降低。
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公开(公告)号:CN103811248A
公开(公告)日:2014-05-21
申请号:CN201410083953.9
申请日:2011-03-17
Applicant: 汉辰科技股份有限公司
IPC: H01J37/09 , H01J37/317
CPC classification number: C23C14/48 , H01J37/09 , H01J37/3171 , H01J2237/0455 , H01J2237/24542 , H01J2237/31711
Abstract: 本发明提供一种利用一离子束以及一可变孔隙在一衬底的不同部分上以不同的离子掺杂量进行离子注入的方法,用以先改变离子束形状,特别是在衬底附近改变离子束的最终形状,然后再以成形后离子束来对衬底进行离子注入。因此,衬底的不同部分或是不同的衬底,可在不使用公知通过多个固定孔隙或是每次都要重新调整离子束等方法的情况下,分别通过不同的成形后离子束来进行离子注入。换句话说,不需要高成本与复杂的操作步骤,即可达成分别通过特制离子束来进行不同离子注入的目的。另外,相较于现有技术,由于可变孔隙的调整可通过机械操作而易于达成,故能加速离子束调整过程,以获得进行离子注入的一特定离子束的离子束调整过程。
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公开(公告)号:CN103257529A
公开(公告)日:2013-08-21
申请号:CN201310051135.6
申请日:2013-02-16
Applicant: 纽富来科技股份有限公司
IPC: G03F7/20
CPC classification number: H01J37/3007 , H01J37/09 , H01J2237/12 , H01J2237/31776
Abstract: 本发明涉及电子束描绘装置以及电子束描绘方法。电子束描绘装置(100)具备承载试样(216)的XY工作台(105)、配置有射出电子束(200)的电子枪(201)和具备在电子束(200)的轴向上排列的电极的电磁透镜(202、204、207、210)的电子镜筒(102)。在XY工作台(105)与电子镜筒(102)之间,设有遮挡电子束(200)向试样(216)照射而产生的反射电子或者2次电子的屏蔽板(211)。在屏蔽板(211)的正上方,配置有改变电子束(200)的焦点位置的静电透镜(210),对静电透镜(210)始终从电压供给单元(135)施加负的电压。
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