Abstract:
상수나 담수를 손쉽게 얻을 수 있는 여과용 필터의 제조 방법을 제공한다. 실리콘으로 이루어지는 기판(1)을, 상기 기판(1)의 표면 상에 형성된 상기 표면의 일부를 노출시키는 다수의 개구부를 갖는 마스크막을 사용하여 에칭하여 기판(1)에 직경이 약 100㎚인 다수의 둥근 구멍(2)을 형성하고, 형성된 둥근 구멍(2)의 내표면에 산화규소막(3)을 퇴적시켜 산화규소막(3)에 의해 축소되는 둥근 구멍(2)의 개구부 근방의 최소 직경부(4)에 있어서의 직경 D1을 1㎚∼100㎚로 조정한다.
Abstract:
여과 처리 시에 안정된 개구 직경을 얻을 수 있고, 더구나 눈막힘되었을 때에 용이하게 재생하여 반복 사용할 수 있는 여과용 필터를 제공한다. 여과용 필터(10)는, 표리에 관통하는 관통 구멍을 갖는 기판(11)을 적층한 기판 적층체와, 기판(11) 상호의 간격을 규정하는 스토퍼(15), 및 스토퍼(15)보다 열팽창 계수가 큰 필러(16)를 가지고, 필러(16)의 길이를 스토퍼(15)의 길이보다 길게 하고, 기판(11) 상호간의 상온 시의 간격을 적어도 스토퍼(15)로 규정하고, 가열 시의 간격을 열팽창된 필러(16)로 규정하고, 기판(11) 상호간의 간극에서 피처리액(A)에 포함되는 오염 물질을 포착하는 여과면을 형성한다.
Abstract:
PURPOSE: An error detecting device of a periodic driving system, a processing device including the periodic driving system, an error detecting method of the periodic driving system, and a computer program are provided to understand a difference between an error situation and a normal situation sufficiently regardless of deterministic or probabilistic values, thereby detecting the error of the periodic driving system accurately. CONSTITUTION: A data acquisition unit(31) acquires time series data from a data logger. A condition setting unit(32) sets a condition for detecting an error. A translational error operation unit(33) calculates a translational error from the time series data. A probability distribution output unit(34) calculates the probability distribution of the translation error. A histogram preparation unit(35) prepares the histogram of the probability distribution. An error determination unit(36) determines the error of a periodic driving system by comparing the prepared histogram with a normal sound model histogram and an error sound model histogram. [Reference numerals] (1) Non-contact microphone sensor; (11) Data logger; (12) Control unit; (13) Main memory unit; (14) External memory unit; (2) Free amp; (21) Operation unit; (22) Display unit; (23) Carrier unit; (24) Normal noise screening unit; (300) Rotation driving system; (31) Data acquisition unit; (32) Condition setting unit; (33) Translational error operation unit; (34) Probability distribution output unit; (35) Histogram preparation unit; (36) Error determination unit; (37) Rotation determination unit; (38) Disturbance noise determination unit; (39) Display process unit; (41) Collection time series data; (42) Embedded vector data; (43) Nearest vector data; (44) First translational error data; (45) Second translational error data; (46) Probability distribution data; (47) Histogram data; (51) Program group; (52) Normal sound model data; (53) Error sound model data; (54) Disturbance noise model data; (55) Error sound determination data; (56) Inspection condition data
Abstract:
A method for cleaning a component in a substrate processing apparatus including a processing chamber, foreign materials being attached to the component, at least a part of the component being exposed inside the processing chamber, and the substrate processing apparatus being adapted to load and unload a foreign material adsorbing member into and from the processing chamber. The method includes loading the foreign material adsorbing member into the processing chamber; generating a plasma nearer the component than the foreign material adsorbing member; extinguishing the plasma; and unloading the foreign material adsorbing member from the processing chamber, wherein the generation and the extinguishment of the plasma are repeated alternately and the foreign material adsorbing member has a positive potential at least during the extinguishment of the plasma.
Abstract:
성막 처리시에 용기내나 도입관내로부터 파티클이 유출하는 것을 방지할 수 있는 분체상 소스 공급계의 세정 방법을 제공한다. 기판 처리 시스템(10)은 분체형상 소스 공급계(12)와 성막 처리 장치(11)를 구비한다. 분체형상 소스 공급계(12)는 분체형상 소스(13)(텅스텐 카르보닐)를 수용하는 앰플(14)과, 해당 앰플(14)내에 캐리어 가스를 공급하는 캐리어 가스 공급 장치(16)와, 앰플(14) 및 성막 처리 장치(11)를 접속하는 분체형상 소스 도입관(17)과, 해당 분체형상 소스 도입관(17)으로부터 분기하는 퍼지관(19)과, 분체상 소스 도입관(17)을 개폐하는 개폐 밸브(22)를 갖는다. 성막 처리에 앞서, 개폐밸브(22)가 닫히고 또한 퍼지관(19)내를 배기할 때에, 캐리어 가스 공급 장치(16)가, 캐리어 가스에 의해서 파티클에 작용하는 점성력이 성막 처리시에 있어서의 캐리어 가스에 의해서 파티클에 작용하는 점성력보다도 커지도록 캐리어 가스를 공급한다.
Abstract:
(과제) 종래의 정보 처리 장치에 있어서는, 반도체 프로세스에 관한 시계열 데이터로부터, 반도체 프로세스의 상태를 정밀도 좋게 검지할 수 없다는 과제가 있었다. (해결 수단) 반도체 프로세스에 관한 시계열 데이터인 제1 정보를 접수하는 제1 입력 접수부(101)와, 반도체 프로세스에 관한 시계열 데이터인 제2 정보를 접수하는 제2 입력 접수부(102)와, 제1 정보의 소정의 기간 내의 정보를, 창함수를 이용하여 취출하여, 창 취득 정보를 얻는 창함수 처리부(103)와, 창함수 처리부(107)가 취출한 창 취득 정보와, 제2 정보와의 상호 상관 함수를 산출하는 상관 산출부(109)와, 상관 산출부(109)의 산출 결과에 따른 정보를 출력하는 출력부(111)를 구비했다.
Abstract:
본 발명은 챔버내 부품의 수명을 정확하게 검지하고, 수명에 도달하지 않은 부품을 교환하는 것에 의한 낭비 및 수명이 경과한 부품을 계속 사용함에 의한 트러블의 발생을 방지할 수 있는 챔버내 부품을 제공한다. 본 발명에 의하면, 플라즈마 처리장치에 적용되는 포커스링(26) 등의 챔버내 부품이고, 구성 재료와는 다른 원소, 예를 들면 스칸듐(Sc)으로 이루어지는 수명 검출용 원소층(51, 52)이 매설되어 있는 것을 설치한 기판 처리장치(10)를 이용하여 웨이퍼(W)에 대하여 RIE처리를 실행하고, 처리 가스중의 발광 스펙트럼을 플라즈마 발광 분광기(46)에 의해 감시하고, 수명 검출용 원소층(51, 52)에 기인하는 스펙트럼을 검출함으로써 포커스링(26)등의 챔버내 부품의 수명을 검지한다.
Abstract:
본 발명은 진공 처리시에 챔버내에 발생하는 파티클 및/또는 아웃가스를 흡착하여, 제거할 수 있는 기판 처리 장치의 진공 배기 방법을 제공한다. 웨이퍼 W를 탑재하는 스테이지(12)를 구비한 챔버(11)를 대기 개방 후에 감압하는 기판 처리 장치의 진공 배기 방법에 있어서, 스테이지(12) 표면을 보호 부재(25)로 덮는 보호 부재 피복 단계와, 챔버(11)를 밀폐하는 밀폐 단계와, 밀봉한 챔버내를 감압하는 진공 배기 단계를 갖는다. 보호 부재(25)는 파티클 P 및 아웃가스를 포집하는 가스 흡착 기능을 구비한 트랩부(38)와 베이스부(26)를 갖는다.
Abstract:
터보 분자 펌프는, 다단의 회전 블레이드 (32) 가 형성되고 고속 회전하는 로터 (30) 와, 회전 블레이드 (32) 에 대해 펌프 축방향으로 교대로 배치된 복수의 고정 블레이드 (33) 와, 회전 블레이드 (32) 및 고정 블레이드 (33) 를 수용하고 흡기구 (21a) 가 형성된 펌프 하우징 (34) 과, 로터 (30) 의 흡기구측에 근접하여 형성되고 로터 (30) 의 회전 블레이드 근원보다 내경측 면에 대향하도록 배치되는 원반 (150) 과, 흡기구 (21a) 와 로터 (30) 사이에 배치되고 세선을 엮어 형성된 원통상의 그물 구조체 (153a, 153b) 를 구비하고, 로터에 의해 비산된 파티클을, 그물 구조체 (153a, 153b) 의 내부에 포착한다.
Abstract:
본 발명은 처리량을 저하시키지 않고, 기판의 주면(主面)에 형성된 패턴이 붕괴되는 것을 방지할 수 있는 기밀 모듈을 제공한다. 기판 처리 시스템의 로드록 모듈(5)은 이송탑재 아암(31)과, 챔버(32)와, 로드록 모듈 배기계(34)를 가지며, 챔버(32) 내에는, 챔버(32) 내에 반입된 웨이퍼(W)의 주면과 대향하도록 판형상 부재(36)가 배치되고, 웨이퍼(W)의 주면의 바로 위에는 웨이퍼(W) 및 판형상 부재(36)에 의해, 챔버(32)의 나머지 부분으로부터 분리된 배기 유로가 구획형성되며, 해당 배기 유로의 단면적은 챔버(32)의 나머지 부분의 단면적보다 작다.