公开(公告)号：KR1020050062519A

公开(公告)日：2005-06-23

申请号：KR1020057001756

申请日：2003-07-30

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 팔론존피. ,  룰존에이. ,  자끄로버트엔. ,  립콘자콥피. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  파르틀로윌리암엔. ,  어쇼프알렉산더아이. ,  이시하라도시히코 ,  마이스너존 ,  네스리차드엠. ,  멜처폴씨.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/2333 ,  H01S3/036 ,  H01S3/134 ,  H01S3/225 ,  H01S3/2366

Abstract: The present invention provides a control system for a modular high repetition rate two discharge chamber ultraviolet. In preferred embodiments, the laser is a production line machine with a master oscillator (10) producing a very narrow band seed beam which is amplified (12) in the second discharge chamber. Novel control features specially adapted for a two-chamber gas discharge laser system include (1) pulse energy controls, with nanosecond timing precision (2) precision pulse to pulse wavelength controls with high speed and extreme speed wavelength tuning (3) fast response gas temperature control and (4) F2 injection controls with novel learning algorithm.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于模块化高重复率两放电室紫外线的控制系统。 在优选实施例中，激光器是具有主振荡器（10）的生产线机器，其产生非常窄的带子种子束，其在第二放电室中被放大（12）。 特别适用于双室气体放电激光系统的新型控制特征包括（1）脉冲能量控制，具有纳秒定时精度（2）精确脉冲到脉冲波长控制，具有高速和极速波长调谐（3）快速响应气体温度 控制和（4）F2注射控制与新的学习算法。

公开(公告)号：KR100394397B1

公开(公告)日：2003-08-09

申请号：KR1020007009736

申请日：1999-02-16

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 노울레스데이비드에스. ,  아졸라제임즈에이치. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  다스팔라쉬피. ,  에르소브알렉산더아이. ,  주하스즈티보르 ,  네스리차드엠. ,  오자르스키로버트지. ,  파틀로웰리암엔. ,  로스웨일다니엘에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  유자즈도우스키리차드씨. ,  와트슨톰웨이 ,  포멘코프이고르브이.

IPC: H01S3/225

CPC classification number: G01J9/0246 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  G03F7/70358 ,  G03F7/70558 ,  G03F7/70575 ,  H01S3/02 ,  H01S3/03 ,  H01S3/036 ,  H01S3/0971 ,  H01S3/1055 ,  H01S3/1392 ,  H01S3/225

Abstract: A reliable, modular, production quality narrow-band KrF excimer laser capable of producing 10 mJ laser pulses at 1000 Hz with a bandwidth of about 0.6 pm or less. The present invention is especially suited to long-term round-the-clock operation in the lithographic production of integrated circuits. Improvements over prior art lasers include a single upstream preionizer tube and acoustic baffles. A preferred embodiment includes reduced fluorine concentration, an anode support bar shaped to reduce aerodynamic reaction forces on blower bearings, a modified pulse power system providing faster pulse rise time, an output coupler with substantially increased reflectivity, a line narrowing module with CaF prism beam expanders, a more accurate wavemeter, a laser computer controller programmed with new and improved pulse energy control algorithm.

Abstract translation: 一种可靠的模块化生产质量的窄带KrF准分子激光器，能够以1000Hz的频率产生10mJ的激光脉冲，带宽约为0.6pm或更小。 本发明特别适用于集成电路光刻生产中的长期全天候操作。 现有技术激光器的改进包括单个上游预电离子管和隔音板。 一个优选的实施例包括降低的氟浓度，成形为减少鼓风机轴承上的空气动力学反作用力的阳极支撑杆，提供更快的脉冲上升时间的改进的脉冲功率系统，具有显着提高的反射率的输出耦合器，具有CaF棱镜光束扩展器 ，更精确的波长计，一种用新的和改进的脉冲能量控制算法编程的激光计算机控制器。

公开(公告)号：KR100343032B1

公开(公告)日：2002-07-02

申请号：KR1020000024186

申请日：2000-05-06

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 온켈스에케하르트디. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  듀페이토마스피.

IPC: H01S3/225

Abstract: 신뢰성 있으며, 모듈화되어 있고, 1000 내지 2000Hz 이상 범위의 반복율에서 생성가능한 생성능력을 갖는 F₂엑시머 레이저로서, 레이저 펄스는 대역폭이 157nm의 범위의 파장에서 약 1pm 이하인 반치전폭을 가지며, 펄스에너지가 10mJ이상이 된다. 레이저 가스 농도는 레이저에서의 불필요한 적외선 방사의 감소에 대하여 개시되어 있다. 또한 적외선광을 실제로 감광하지 않는 UV 에너지 검출기를 개시한다. 본 발명의 바람직한 실시예는, 10 내지 40 와트범위의 전력출력으로 10 내지 5 mJ 범위의 펄스 에너지로 1000 내지 4000 Hz범위로 동작할 수 있다. 조명원으로서 이 레이저를 사용하면, 스테퍼 또는 스캐너 장치는 0.1㎛ 이하의 집적회로 해상도를 만들어낼 수 있다. 대체가능한 모듈은 레이저 챔버와 모듈러 펄스 전력 시스템을 포함한다.
바람직한 실시예에서, 레이저는 2개의 외부 프리즘 세트를 사용하여 F₂157.6nm라인으로 동조된다. 바람직한 제 2 실시예에서, 레이저는 광대역에서 동작하고, 157.6nm 라인은 공동공진기 외부에 선택된다. 바람직한 제 3 실시예에서, 0.2pm의 라인폭이 주입 시딩을 사용하여 제공된다. 또 다른 실시예는 4기압을 초과하는 압력에서 레이저를 동작시켜 동조 범위를 증가시키고 라인 선택용 회절격자를 사용한다.

公开(公告)号：KR1020010022701A

公开(公告)日：2001-03-26

申请号：KR1020007001297

申请日：1998-07-31

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  다스팔라시피. ,  포멘코프이고르브이. ,  베샤우셀레헤르베에이. ,  오자르스키로버트지.

IPC: H01S3/10

Abstract: 마스크(36) 근처의 노출 시스템내에 위치된 제 1 광 강도 검출기(44) 및 레이저(12)의 출력부 근처에 위치된 제2 광 강도 검출기(46)를 구비한 스테퍼(20) 또는 스캐너와 같은 레이저가 조명되는 웨이퍼 노출 시스템. 피드백 제어 시스템은 상기 검출기중 적어도 하나에 의해 검출된 신호에 근거하여 레이저의 출력을 제어한다. 피드백 제어 시스템은 버스트 모드에서 동작하는 레이저에 마스크에서의 요구되는 강도를 가진 광 펄스를 제공하기 위해 레이저 방전 전압을 제어하기 위해 사용되는 알고리즘으로 프로그래밍된 프로세서를 포함한다. 상기 알고리즘은 적어도 다음의 파라미터를 사용한다; 이전에 측정된 펄스 에너지, 계산된 에너지 에러, 계산된 선량 에러, 전압을 갖는 펄스 에너지의 변화율에 대한 값, 및 적어도 하나의 기준 전압. 바람직한 실시예에서, 알고리즘은 레이저의 출력이 소정 범위내에서 유지되도록 하기 위해 레이저의 출력부에서 피드백 제어를 제공하여 광 강도 검출기를 사용하도록 마스크 근처에 위치된 광 강도 검출기로 측정된 펄스 에너지를 사용한다.

公开(公告)号：KR101211490B1

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：KR1020067027071

申请日：2005-06-17

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  에르쇼프알렉산더아이. ,  포멘코프이고브이. ,  파트로윌리엄엔.

IPC: H01S3/22

Abstract: 분산 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하고 있는 레이저 광 펄스 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정되는 각각의 펄스에 대해 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는 분산 대역폭 선택 광학 장치(도 1의 참조기호 120); 분산 중심 파장 선택 광학장치에 대해 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 적어도 하나의 입사각( )을 선택하도록 동작하는 튜닝 메커니즘; 상기 분산 중심 파장 선택 광학장치로부터, 각 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 복수의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분들을 구비한 레이저 광 펄스를 복귀시키기 위해 레이저 광 펄스의 상이한 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않는 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 복수의 입사각 선택 엘리먼트를 포함하는 튜닝 메커니즘을 포함하는, 협대역 단펄스 듀레이션 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템으로서, 선택된 펄스 반복율에서 레이저 출력 광 펄스를 구비하는 빔을 생성하는 시스템에 대역폭 제어를 제공하는 장치 및 방법이 개시된다. 상기 튜닝 메커니즘은, 상기 분산 대역폭 선택 광학장치로부터, 각 펄스의 각각의 시간적으로 분리된 부분이 적어도 2 개의 상이한 선택된 중심 파장중에 하나를 가지는, 각 펄스의 복수의 시간적으로 분리된 부분들을 구비한 레이저 빔을 복귀시키기 위해 펄스의 상이한 시간적으로 분리된 부분에 대한 입사각을 각각 정의하는 시간 입사각( ) 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다. 상기 튜닝 메커니즘은, 레이저 광 펄스의 공간적으로 분리되지만 시간적으로는 분리되지 않은 부분에 대해 각각 입사각을 정의하는 복수의 공간 입사각 선택 엘리먼트; 및 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리되지만 시간적으로 분리되지 않은 부분중 적어도 제 1 시간적으로 분리된 부분에 대한 적어도 제 1 입사각과, 상기 펄스의 각각의 공간적으로 분리된 부분 중에서 제 2의 시간적으로 분리되지만 공간적으로 분리되지 않은 부분에 대한 제 2 입사각을 각각 정의하는 복수의 시간 입사각 선택 엘리먼트를 포함할 수 있다.
협대역 단펄스 듀레이션의 가스 방출 레이저 출력 광 펄스 빔 생성 시스템, 펄스 반복율, 레이저 출력 광 펄스, 분산 파장 선택 광학장치, 펄스, 입사각, 튜닝 메커니즘, 입사각 선택 엘리먼트

Abstract translation: 分布式带宽选择为选择至少一个中心波长为每个脉冲，至少部分地由包含用于色散波长选择性光学元件的各脉冲的激光脉冲束的入射角来确定的一部分，所述光学装置（参照图1 符号120）; 包括用于色散中心波长选择光学器件的每个脉冲的激光脉冲束的至少一个入射角

公开(公告)号：KR101194231B1

公开(公告)日：2012-10-29

申请号：KR1020087013076

申请日：2006-10-20

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 에르쇼프알렉산더아이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  브라운다니엘제이.더블유. ,  포멘코프아이고르브이. ,  베르그스테츠로버트에이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  라로빅이반

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/70583 ,  H01S3/005 ,  H01S3/0057 ,  H01S3/03 ,  H01S3/034 ,  H01S3/08036 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/10092 ,  H01S3/105 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2333

Abstract: 제1가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 및 제1오실레이터 캐비티 내의 라인 내로우잉 모듈을 포함하는 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 출력을 산출하는 시드 레이저 오실레이터; 레이저 출력 광 빔 펄스를 포함하는 레이저 시스템 출력을 형성하기 위해 시드 레이저 오실레이터의 출력을 수신하고, 시드 레이저 오실레이터의 출력을 증폭하는 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버 내에 증폭 이득 매체를 포함하는 레이저 증폭 스테이지; 및 링 파워 증폭 스테이지를 포함하는 라인 내로우드 펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템을 포함할 수 있는 방법 및 장치가 개시된다.
펄스 엑시머 또는 분자 플루오르 가스방전 레이저 시스템, 레이저 출력 광 빔 펄스, 시드 레이저 오실레이터, 레이저 증폭 스테이지, 링 파워 증폭 스테이지, 가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 오실레이터 캐비티, 라인 내로우잉 모듈, 제2가스방전 엑시머 또는 분자 플루오르 레이저 챔버, 증폭 이득 매체.

公开(公告)号：KR101151660B1

公开(公告)日：2012-06-08

申请号：KR1020087012671

申请日：2006-10-20

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 아킨스로버트피. ,  샌드스트롬리차드엘.

IPC: G02B27/09 ,  G02B27/46

CPC classification number: B23K26/0604 ,  B23K26/0608 ,  B23K26/066 ,  B23K26/067 ,  B23K26/0738 ,  G02B27/0966 ,  G02B27/0988 ,  G02B27/46

Abstract: 필름과상호작용하기위한레이저빔을형상화및 균질화시키기위한시스템및 방법이개시된다. 상기형상화및 균질화시스템은렌즈어레이, 및상기렌즈어레이로부터레이저광을수신하고상기렌즈어레이의각 렌즈에대해평면에각각의기다란이미지를생성하도록배치되는렌즈를포함한다. 추가로, 상기시스템은상기평면에배치된에지를가진빔 조리개, 및상기기다란이미지중 어느하나와빔 조리개에지사이의정렬을변화시키도록상기렌즈어레이의렌즈를회전시키는이동가능한마운트를포함한다.

公开(公告)号：KR101147316B1

公开(公告)日：2012-05-18

申请号：KR1020077012317

申请日：2005-11-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 알고트스마틴제이. ,  버그스테트로버트에이. ,  글레스피월터디. ,  쿨게이코블라디미르에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라일로프게르만이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  스트레이트브라이언디. ,  다이어디모티에스.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/005 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/097 ,  H01S3/106 ,  H01S3/2251

Abstract: 공칭 광경로를 갖고 있고, 펄스의 버스트내의 출력 레이저 광 펄스 빔 펄스를 생성하는 협대역 DUV 고전력 고반복율 가스 방전 레이저용 라인 내로잉 모듈에 있어서, 분산 중심 파장 선택 광학기구상의 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정된 각 펄스에 대하여 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는, 상기 라인 내로우잉 모듈의 광경로내에 이동가능하게 장착된 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구; 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구쪽으로 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 투사각을 선택함으로써, 상기 분산 중심 파장 선택 광학 기구상에 각 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제1 튜닝 메커니즘; 및 상기 라인 내로우잉 모듈의 공칭 광경로에 대하여 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구의 위치를 변경함으로써 상기 각 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제2 튜닝 메커니즘;을 포함하고, 상기 제2 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 거칠게 선택하고 상기 제1 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 보다 미세하게 선택하는 라인 내로우잉 방법 및 모듈이 개시되어 있다.
라인 내로우잉 모듈, 가스 방전 레이저, 분산 중심 파장 선택 광학 기구, 튜 닝 메커니즘, 거친 조정, 미세조정, 입사각, 투사각, 광경로, 출력 레이저 광 펄스 빔 펄스

公开(公告)号：KR1020120025004A

公开(公告)日：2012-03-14

申请号：KR1020127002413

申请日：2005-11-28

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 알고트스마틴제이. ,  버그스테트로버트에이. ,  글레스피월터디. ,  쿨게이코블라디미르에이. ,  파틀로윌리엄엔. ,  라일로프게르만이. ,  샌드스트롬리차드엘. ,  스트레이트브라이언디. ,  다이어디모티에스.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/1055 ,  G03F7/70025 ,  G03F7/70041 ,  H01S3/005 ,  H01S3/036 ,  H01S3/08 ,  H01S3/08004 ,  H01S3/08059 ,  H01S3/097 ,  H01S3/106 ,  H01S3/2251

Abstract: 공칭 광경로를 갖고 있고, 펄스의 버스트내의 출력 레이저 광 펄스 빔 펄스를 생성하는 협대역 DUV 고전력 고반복율 가스 방전 레이저용 라인 내로잉 모듈에 있어서, 분산 중심 파장 선택 광학기구상의 각각의 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각에 의해 적어도 부분적으로 결정된 각 펄스에 대하여 적어도 하나의 중심 파장을 선택하는, 상기 라인 내로우잉 모듈의 광경로내에 이동가능하게 장착된 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구; 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구쪽으로 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 투사각을 선택함으로써, 상기 분산 중심 파장 선택 광학 기구상에 각 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제1 튜닝 메커니즘; 및 상기 라인 내로우잉 모듈의 공칭 광경로에 대하여 상기 분산 중심 파장 선택 광학기구의 위치를 변경함으로써 상기 각 펄스를 포함하는 레이저 광 펄스 빔의 입사각을 선택하도록 부분적으로 동작하는 제2 튜닝 메커니즘;을 포함하고, 상기 제2 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 거칠게 선택하고 상기 제1 튜닝 메커니즘은 상기 중심 파장에 대한 값을 보다 미세하게 선택하는 라인 내로우잉 방법 및 모듈이 개시되어 있다.

Abstract translation: 在用于窄带DUV高功率高重复率气体放电激光器的输入模块中，其具有标称光路并在脉冲串中产生输出激光脉冲束脉冲， 所述色散中心波长选择光学机构可移动地安装在所述机翼模块的所述光路内进入所述线中，为至少部分由所述激光脉冲束的入射角度确定的每个脉冲选择至少一个中心波长; 通过选择包括脉冲的激光束脉冲束在色散中心波长选择光学器件上的投射角，部分地选择包括每个脉冲的激光束脉冲束的入射角， 1调谐机制; 以及第二调谐机构，其部分地操作以通过将色散中心波长选择光学器件相对于机翼模块的标称光路的位置改变成线路来选择包括每个脉冲的激光脉冲束的入射角 第二调谐机构大致选择中心波长的值，第一调谐机构为中心波长选择更精细的值。

公开(公告)号：KR101024559B1

公开(公告)日：2011-03-31

申请号：KR1020047017911

申请日：2003-04-23

Applicant: 사이머 엘엘씨

Inventor： 샌드스트롬리차드엘. ,  판샤오지양 ,  멜치올존티. ,  알고츠존엠. ,  볼매튜 ,  프로이로프블라디미르 ,  어쇼프알렉산더아이. ,  야거토마스 ,  질레스피에월터디. ,  루브린레오나드 ,  그라첼홀저케이. ,  파르틀로윌리암엔. ,  마쉬엘리자베쓰 ,  모톤리차드디. ,  우자즈도우키리차드씨. ,  와켄틴데이비드제이. ,  웹알키레.

IPC: H01S3/22

CPC classification number: H01S3/225 ,  G03F7/7055 ,  H01S3/1024 ,  H01S3/2251 ,  H01S3/2258 ,  H01S3/2333

Abstract: 본 발명은 고 반복율 고전력 출력 빔(38)을 발생하는 모듈러, 고 반복율, 자외선 가스 방전 레이저 시스템(도 1)을 위한 수명이 긴 광학기구를 제공한다. 본 발명은 프로토타입 레이저 시스템의 출력 빔(14C)의 고 펄스 강도 섹션(10)(26)에 위치된 CaF
2 광학기구(4260)(422)(424)(426)상에서의 표면 손상 문제에 대해 본원인에 의해 발견된 해결책을 포함한다. 실시예는 수십억 출력 레이저 펄스(38)의 빔 운반을 위한 빔 포인팅 컨트롤(40A)(40B)(6)에 의한 인클로우징된(4) 및 퍼지된 빔 경로(14C)를 포함한다. 본원에 설명된 광학 컴포넌트 및 모듈은 수십억 펄스(14A)에 대해 3.5 x10
6 Watts/㎠ 이상의 피크 강도 및 1.75 x 10
6 Watts/㎠ 이상의평균 출력 펄스 강도로 200nm 이하의 파장을 갖춘 자외선 레이저 출력 펄스(14A)를 제어할 수 있는 데 이는 상기 펄스 강도에서 수분 후엔 고장나는 종래기술의 광학 컴포넌트 및 모듈과 비교된다.
파장, 펄스, 반복율, 자외선 가스 방전, 레이저, 빔, 퍼지