公开(公告)号：KR1019980020555A

公开(公告)日：1998-06-25

申请号：KR1019960039064

申请日：1996-09-10

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 강성원 ,  이진호 ,  조경익 ,  유형준

IPC: H01L21/205

Abstract: 본 발명은 스퍼터링 공정을 이용한 진공 소자의 구조 및 제조 방법에 관한 것으로, 등방성 및 이방성 식각법으로 실리콘 필라를 형성하여 방출 전극을 형성하고 게이트 절연막을 형성한 후 게이트 전극을 스퍼터링법을 이용하여 형성함으로써 게이트 전극이 방출 전극에 쉽게 인접할 수 있게 형성되고, 방출 전극과 게이트 전극간의 거리를 쉽게 조절할 수 있을 뿐 아니라 게이트 전극과 방출 전극간의 간격을 조절하면 원하는 저전압의 구동을 실현할 수 있고, 반도체 공정을 이용하므로 균일하고 안정된 진공소자를 제작할 수 있는 진공 소자의 구조 및 제조방법이 개시된다.

公开(公告)号：KR100138853B1

公开(公告)日：1998-06-01

申请号：KR1019940028804

申请日：1994-11-03

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 박민 ,  이중환 ,  구진근 ,  유형준

IPC: H01L21/265 ,  H01L21/31

Abstract: 본 발명은 반도체 초고집적회로(ULSI)의 제조공정에서 금속층간 절연막(IMD; inter metal dielelectric)으로 SOG(spin-on glass)를 사용하는 반도체 장치의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 플라즈마 방법을 이용하여 양질의 SOG 박막을 형성시킬 수 있는 경화(curing) 방법에 관한 것이다.
본 발명은 절연막으로 SOG(Spin-On Glass)를 사용하는 반도체 장치의 제조방법에 있어서, SOG의 경화처리(curing)를 플라즈마 방법, 또는 기존의 열처리 방법과 병하여 수행함으로써, SOG막 내에 잔류하는 Si-OH 결합 및 휘발성 유기물과 H
2 O를 제거한다.

公开(公告)号：KR100135039B1

公开(公告)日：1998-04-20

申请号：KR1019940019491

申请日：1994-08-08

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 박병선 ,  오용호 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: T자형 게이트를 갖는 전계효과트랜지스터(field effect transistor)의 게이트 전극을 형성하기 위한 본 발명의 포토마스크는 투명한 석영층과, 이 투명한 석영층의 한 표면 위에 형성되어서 T-게이트의 다리 부위의 패턴닝을 위한 주 패턴과, 주 패턴 주위에 배치되어서 T-게이트의 머리 부위의 선폭 변화를 조절하기 위한 한개 이상의 보조 패턴을 포함하는, 주 패턴과 보조 패턴은 불투명막으로 형성되는, 하부의 마스크층(1)과; 하부의 마스크층(1)의 다른 한 표면 위에 형성되고, 투명한 막으로 규칙적으로 형성되는 복수의 위상 격자(phase grating) 패턴들을 갖는 상부의 마스크층(2)으로 구성된다.

公开(公告)号：KR1019970052966A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950050526

申请日：1995-12-15

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이진구 ,  윤형진 ,  이응호 ,  정철환 ,  정병훈 ,  장원익 ,  유형준

IPC: H01L21/321

Abstract: 본 발명은 플레이튼에 슬러리 공급장치가 내설된 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.
본 발명의 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치는 웨이퍼(2)를 장착하기 위한 웨이퍼 캐리어(1)와, 상단에 복수개의 슬러리 공급구(5)가 형성된 연마 패드(4)가 장착되고, 웨이퍼(2)의 연마시 웨이퍼(2)의 일부가 플레이튼(3)의 외부로 노출되도록 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와 비동축상으로 플레이튼 회전축(13) 상에 부설되며, 복수개의 슬러리 공급구(5)가 관통형성되고, 하부에는 원통상으로 슬러리(12)가 충진되는 슬러리 탱크(9)가 연설되며, 전기한 슬러리 탱크(9) 하단의 플레이튼 회전축(13) 내부에는 슬러리 탱크(9) 내의 슬러리(12)를 전기한 슬러리 공급구(5)를 통해 연마 패드(4) 상에 공급하기 위한 피스톤(10)이 내설되어, 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와의 회전에 의해 웨이퍼(2)를 연마하는 플레이튼(3)이 포함되어 구성된 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019970051606A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950053676

申请日：1995-12-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 이재열 ,  박경호 ,  최부연 ,  강상원 ,  이종현 ,  유형준

IPC: H01H47/00

Abstract: 본 발명은 정전구동 마이크로 릴레이 소자 및 그의 제조방법에 관한 것으로, 본원 발명은 기판(10)상의 소정영역에 일부분이 단속되어 종방향으로 형성된 하부 접촉전극(12)과, 상기 하부 접촉전극(12)의 양측에 각각 형성되어 있는 하부 구동전극(13,14)과, 상기 하부 접촉전극(12)과 수직으로 대응하는 부분이 오목한 형상을 갖도록 아래로 굴곡진 제1오목부(17)가 형성되어 있고 상기 하부 구동전극(13,14)과 수직으로 대응하는 부분이 오목한 형상을 갖도록 각각 아래로 굴곡진 제2오목부(18,19)가 형성되어 있으며 하부 접촉전극(12)과 하부 구동전극(13,14)사이에 소정의 공간이 형성되도록 소정의 높이에 브릿지형상으로 형성되어 있는 브릿지 몸체(21)와, 상기 하부 접촉전극(12)과 대면하는 브릿지 몸체(21)의 제1오목부의 배면에 형성되어 있는 상부 접촉전극(20) , 상기 브릿지 몸체(21)의 전면에 형성되어 있는 상부 구동전극(20)을 포함하는 것을 특징으로 한다.

公开(公告)号：KR1019970048993A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019950053651

申请日：1995-12-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 최상수 ,  정해빈 ,  이종현 ,  유형준

IPC: G03F1/22 ,  H01L21/30

Abstract: 본 발명은 높은 광투과 정렬창을 갖는 X-선 브랭크마스크 및 그 제조방법에 관한 것으로서, 종래기술의 X-선 마스크용 투과막은 광투과도가 낮고, 층간정렬도가 떨어졌던 문제점을 해결하기 위해 X-마스크에서 정렬광이 투과하는 부위는 광투과도가 우수한 멤브레인 물질을, X-선 노광에 의한 소산이 없는 멤브레인 물질을 하나의 웨이퍼에 형성한 구조로서, 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 을, 칩부위의 멤브레인은 Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하고, 또한 정렬창의 멤브레인으로 Si
3 N
4 /SiO
2 을 사용하고, 칩부위의 멤브레인은 Si
3 N
4 /poly-Si/Si
3 N
4 을 사용하는 것이다.

公开(公告)号：KR1019970011053B1

公开(公告)日：1997-07-05

申请号：KR1019930027861

申请日：1993-12-15

Applicant: 한국전자통신연구원 ,  주식회사 케이티

Inventor： 장원익 ,  이종현 ,  장기호 ,  유형준

IPC: H01L21/027

Abstract: A reticle transferring and driving apparatus having a variable pre-alignment function capable of forming an image on a sensitive material which is coated on a wafer is disclosed. In the apparatus, a pre-alignment mechanism is mounted next to an edge of a reticle(4) at 90= . A pre-alignment operation is performed in X, Y or direction and XY and directions. A transferring system is transferred into an optical axis(1) along two LM guides(14). A reticle driving section processes an analog signal from a light receiving sensor(7) according to the pre-alignment result and drives a reticle(4) in an XY direction and direction by combinations of a hinge spring(24) and a gear motor(18) and a rotating bearing(17) and the gear motor(18), respectively.

Abstract translation: 公开了一种具有能够在涂覆在晶片上的敏感材料上形成图像的可变的预对准功能的掩模版传送和驱动装置。 在该装置中，预定位机构以90 =安装在分划板（4）的边缘的旁边。 在X，Y或方向以及XY和方向上执行预对准操作。 传送系统沿两个LM导轨（14）传送到光轴（1）。 光罩驱动部根据预定位结果对来自光接收传感器（7）的模拟信号进行处理，并通过铰链弹簧（24）和齿轮电动机（24）的组合在XY方向和方向上驱动光罩（4） 18）和旋转轴承（17）和齿轮马达（18）。

公开(公告)号：KR1019960026415A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940034382

申请日：1994-12-15

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 김상기 ,  백종태 ,  정해빈 ,  유형준

IPC: H01L21/324

Abstract: 본 발명은 반도체 제조장치 중에서 특히 선택적으로 열처리 공정을 수행할 수 있도록 한 열처리 장치에 관한 것이다.
종래의 열처리 장치는 시료의 부분적인 열처리가 불가능하여 전체를 열처리 함으로써 열처리가 필요치 않은 부분이 후속열처리 단계에서 전기적, 물리적, 기하학적 변형이 발생하는 문제점들이 있었다.
본 발명은 상술한 문제점들을 극복하기 위한 것으로 열처리시 시료의 특정 영역의 선택은 물론 주입되는 불순물 중 특성 특성불순물의 선택과, 시료의 증착 박막중 특정 박막만을 선택적으로 열처리 할 수 있도록 열원에서 발산되는 빛을 집속하여 필터를 통과 시킨후 소정의 마스크를 거쳐 시료에 조사 되도록 한 것이다.

公开(公告)号：KR1019960026089A

公开(公告)日：1996-07-22

申请号：KR1019940035478

申请日：1994-12-21

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 오용호 ,  박병선 ,  이각현 ,  유형준

IPC: H01L21/027

公开(公告)号：KR1019960008982A

公开(公告)日：1996-03-22

申请号：KR1019940019491

申请日：1994-08-08

Applicant: 한국전자통신연구원

Inventor： 박병선 ,  오용호 ,  유형준

IPC: H01L21/027