公开(公告)号：KR101760311B1

公开(公告)日：2017-07-21

申请号：KR1020130038071

申请日：2013-04-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  테라모토아키히로

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/677 ,  H01L21/67265 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67775 ,  H01L21/67778

Abstract: 기판전달장치의높이를억제할수 있는기술을제공하는것이다. 격벽에형성된개구부에, 기판반송용기의전면에형성된기판취출구를당해격벽의일면측으로부터대향시키고, 상기기판반송용기의덮개체를상기격벽의타면측으로분리하여기판의전달을행하는장치에서, 상기개구부를상기격벽의타면측으로부터개폐하는도어와, 상기도어를, 상기개구부를폐색하는제 1 위치와당해위치로부터전방으로떨어진제 2 위치와의사이에서진퇴시키기위한진퇴부와, 상기도어를, 제 2 위치와상기개구부의전방영역으로부터벗어난제 3 위치와의사이에서, 당해도어의진퇴방향을따른회동축을중심으로회동시키는회동기구를구비하도록장치를구성한다. 이와같이구성함으로써, 도어를승강시킬필요가없으므로, 장치의높이를억제할수 있다.

公开(公告)号：KR101690229B1

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：KR1020130156196

申请日：2013-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리카와카츠히로 ,  스나카이쿠오 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

Abstract: 기판의높이가예정위치로부터벗어나도반송용기로부터기판을반출가능하게하고또한신속하게장치를개시할수 있는기술을제공하는것이다. 반입포트에반송용기를재치하는공정과, 반입포트로반입된반송용기내의기판의높이위치를광학적으로검출하기위한승강가능한기판검출부를이용하고, 반입포트상의반송용기내의각 기판의높이위치에대한정보를취득하는공정과, 상기기판반송기구가당해기판반송기구에의해관리되고있는좌표상에서미리설정된높이위치에있을때에있어서, 상기기판검출부에의해관리되고있는좌표상에서의당해기판반송기구의높이위치와, 상기기판검출부에의해취득한상기정보에기초하여, 반송용기내의기판을수취할때의기판반송기구의높이위치를산출하는공정과, 이높이위치에기초하여반송용기내로부터기판을취출하는공정을행한다.

Abstract translation: 要解决的问题：即使在基板的高度超出预设位置的情况下，也能够使输送容器的基板输出，从而能够迅速地升起装置。 解决方案：基板输送方法包括以下步骤：将输送容器放置在输送口上; 通过使用基板检测部分获取关于输送容器中的每个基板的高度的信息，该基板检测部分自由地上升或下降以光学检测在输送端口中输送的输送容器中的基板的高度; 基于在基板检测部分管理的坐标上的基板输送机构的高度和基板检测部分获得的信息时，基于输送容器中的每个基板接收基板输送机构的高度， 传送机构在由基板输送机构管理的坐标上处于预设高度; 并基于该高度将基材从输送容器中取出。

公开(公告)号：KR1020160142778A

公开(公告)日：2016-12-13

申请号：KR1020160067476

申请日：2016-05-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시마사토 ,  노구치고헤이 ,  이이즈카겐지 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/67 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01L22/10 ,  G01N21/85 ,  G01N2021/8578 ,  G03F7/16 ,  G03F7/162 ,  H01L21/0273 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6715 ,  H01L22/12 ,  H01L22/24

Abstract: 복수의유체공급로를구비하는기판처리장치에있어서, 각공급로를유통하는유체에포함되는이물을검출하는데 있어서, 장치의대형화및 제조비용의상승을방지할수 있는기술을제공하는것이다. 기판에공급되는유체의복수의공급로각각의일부이며, 유체중 이물의측정영역을구성하고, 서로열을형성해서설치되는측정용유로부와, 상기복수의유로부에공용되고, 상기유로부에광로를형성하기위한광 조사부와, 상기복수의유로부중 선택된유로부내에, 광로를형성하기위해서, 상기광 조사부를상기유로부의배열방향을따라서상대적으로이동시키는이동기구와, 상기유로부를투과하는광을수광하는수광소자를포함하는수광부와, 상기수광소자로부터출력되는신호에기초하여, 상기유체중 이물을검출하기위한검출부를구비하도록장치를구성한다. 그에의해, 필요한광 조사부의수를삭감할수 있음과함께, 장치의축소화를도모할수 있다.

Abstract translation: 一种装置，包括：作为供给到基板的流体的多个供给路径的一部分的测定流路部，构成测定流体中异物的测定区域的测量流路部， 相互排列; 光照射单元，被配置为在所述流路部分之一中形成光路，所述光照射单元由所述多个流路部分共享; 移动机构，其构造成沿着所述流路部的配置方向相对移动所述光照射单元，以在所述多个流路部中选择的流路部内形成光路; 光接收单元，其包括受光元件，所述光接收元件接收由所述流路部分透射的光; 以及检测单元，被配置为基于从所述光接收元件输出的信号来检测所述流体中的异物。 因此，可以减少必要的光照射单元的数量，并且可以使该装置小型化。

公开(公告)号：KR1020040111070A

公开(公告)日：2004-12-31

申请号：KR1020040044273

申请日：2004-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이이다나루아키 ,  이토카즈히코 ,  키노시타미치오

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67754 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67259 ,  H01L21/681 ,  Y10S414/139 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus and an aligning method of a substrate carrier apparatus are provided to perform a precise alignment of the substrate carrier apparatus on a processing unit. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus includes a first optical detection mark(7A), a second optical detection mark(7B), an optical sensor(6), and a controller(C). The first optical detection mark on an outer surface of an exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a lateral direction with respect to a carrier opening. The second optical detection mark on the outer surface of the exterior casing includes a predetermined positional coordinate in a vertical direction with respect to the carrier opening. The optical sensor is provided on the substrate carrier apparatus to detect the first or second optical detection marks. The controller includes two programs. One of the programs rotates the substrate carrier apparatus, and moves the substrate carrier apparatus in the vertical direction, to allow the substrate carrier apparatus to face the carrier opening of the processing unit. The other program allows the substrate carrier apparatus to enter a processing unit to perform an operation of data acquisition on a precise transfer position.

Abstract translation: 目的：提供基板载体装置的基板处理装置和对准方法，以在处理单元上执行基板载体装置的精确对准。 构成：基板处理装置包括第一光学检测标记（7A），第二光学检测标记（7B），光学传感器（6）和控制器（C）。 外壳的外表面上的第一光学检测标记在相对于载体开口的横向方向上具有预定的位置坐标。 外壳的外表面上的第二光学检测标记包括相对于载体开口在垂直方向上的预定位置坐标。 光学传感器设置在基板载体装置上以检测第一或第二光学检测标记。 控制器包括两个程序。 其中一个程序旋转衬底载体装置，并使衬底载体装置沿垂直方向移动，以允许衬底载体装置面对处理单元的载体开口。 另一个程序允许基板载体装置进入处理单元，以在精确的传送位置执行数据采集的操作。

公开(公告)号：KR100177591B1

公开(公告)日：1999-04-15

申请号：KR1019930001597

申请日：1993-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  요시오카가즈토시 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67781 ,  H01L21/6838 ,  Y10S414/137 ,  Y10S414/141

Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러 개의 캐리어 및 받아 건네는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건네는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건네는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동 가능하게 되어 있다.

公开(公告)号：KR101534357B1

公开(公告)日：2015-07-06

申请号：KR1020100027568

申请日：2010-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다스구루 ,  모리카와가츠히로

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67742 ,  H01L21/68707

Abstract: 본발명은기판과의접촉에의한마모및 기판을통한약품에의한부식에의해기판을정상적으로지지할수 없게되는것을저지할수 있는기판지지장치를제공한다. 기판의이면을지지하는이면지지부를구비한지지부재와, 이지지부재에설치되고, 상기이면지지부에지지된기판의측면을둘러싸며, 기판의위치를규제하는위치규제부를포함하고, 상기이면지지부및 상기위치규제부중 하나이상은, 기재와, 이기재를피복하며, 그마모및 화학적침식중 하나이상을저지하기위한보호막을포함하는기판지시장치를구성한다. 이기판지지장치는, 예컨대상기지지부재를지지하는기체와, 상기기체에대하여지지부재를이동시키기위한구동기구를더 포함하고, 기판반송장치로서구성된다. 또한상기지지부재는, 예컨대기판을가열또는냉각하기위한온도조정판으로서구성된다.

公开(公告)号：KR101528894B1

公开(公告)日：2015-06-15

申请号：KR1020100029764

申请日：2010-04-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다수구루 ,  모리카와카츠히로

IPC: H01L21/677 ,  B25J15/08 ,  B65G49/07

Abstract: 마모량감소, 오염방지, 얼라인먼트정밀도향상또는이탈방지의기능을구비한기판보지부재, 기판반송암 및기판반송장치를제공한다. 기판반송장치의기판반송암에장착되어, 기판의주연부를재치하여기판을보지하는기판보지부재(4)로서, 기판의이면에접촉하여기판을보지하는이면보지부(5)와, 기판의단면(端面)에접촉하는단면접촉부(6)를가진다. 단면접촉부(6)는, R 형상을가지며기판의단면에접촉하여기판의이탈을규제하는 R 형상부(8)와, R 형상부(8)의상방측에설치되어차양형상으로형성된오버행부(81)를포함한다.

公开(公告)号：KR1020140085311A

公开(公告)日：2014-07-07

申请号：KR1020130156196

申请日：2013-12-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 모리카와카츠히로 ,  스나카이쿠오 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/67766 ,  H01L21/68

Abstract: The present invention provides a technology for carrying substrates out from transfer containers even when the height of the substrates is escaped from a predetermined position, and rapidly operating a device. A substrate transfer method comprises a process of mounting the transfer containers on load ports; a process of acquiring information on the height of the substrates in the transfer containers on the load ports using elevating type substrate detection parts for optically detecting the height of the substrates in the transfer containers carried to the load ports; a process of calculating the height of a substrate transfer tool at a time when the substrate transfer tool receives the substrates from the transfer containers based on the height of the substrate transfer tool on a coordinate managed by the substrate detection parts and the information acquired by the substrate detection parts when the substrate transfer tool is positioned at a height preset on the coordinate, managed by the substrate transfer tool; and a process of carrying the substrates out from the transfer containers based on the height.

Abstract translation: 本发明提供了一种用于将基板从传送容器输送的技术，即使当基板的高度从预定位置逸出并且快速操作设备时。 基板转印方法包括将转印容器安装在装载口上的过程; 使用升降型基板检测部件来获取关于装载口上的转印容器中的基板的高度的信息的处理，用于光学地检测运送到装载口的转印容器中的基板的高度; 基板转印工具在基板转印工具从基板检测部件管理的坐标上基于基板转印工具的高度接收基板的转印工具的高度计算过程， 当基板传送工具位于由基板传送工具管理的坐标上预设的高度时的基板检测部件; 以及基于高度将基板从转印容器移出的处理。

公开(公告)号：KR1020100117021A

公开(公告)日：2010-11-02

申请号：KR1020100029764

申请日：2010-04-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카노세이지 ,  마츠시타미치아키 ,  이이다나루아키 ,  에노키다수구루 ,  모리카와카츠히로

IPC: H01L21/677 ,  B25J15/08 ,  B65G49/07

CPC classification number: H01L21/67742 ,  B25J11/0095 ,  B25J15/009 ,  H01L21/68707 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/6875 ,  Y10S414/141

Abstract: PURPOSE: A substrate supporting unit, a substrate transferring arm, and a substrate transferring unit are provided to reduce the abrasion of the substrate supporting unit and the contamination of a substrate by including a cross-section contact part with an R-shaped part and an overhang part. CONSTITUTION: A rear side supporting unit(5) supports a substrate by being in contact with the rear side of the substrate. A cross-section contact part is in contact with the cross-section of the substrate. An R-shaped part(8) is formed into an R-shape and is in contact with the cross-section of the substrate in order to prevent the substrate from being escaped. An overhang part(81) is installed over the R-shaped part.

Abstract translation: 目的：提供基板支撑单元，基板转印臂和基板转印单元，以通过将截面接触部分包括R形部分和/或基板支撑单元的横截面接触部分来减少基板支撑单元的磨损和基板的污染 突出部分。 构成：后侧支撑单元（5）通过与基板的后侧接触来支撑基板。 横截面接触部分与衬底的横截面接触。 R形部分（8）形成为R形并且与衬底的横截面接触以防止衬底逸出。 突出部分（81）安装在R形部分上。

公开(公告)号：KR100701578B1

公开(公告)日：2007-04-02

申请号：KR1020010004660

申请日：2001-01-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 키타노준이치 ,  마츠야마유지 ,  키타노타카히로 ,  카타노타카유키 ,  마츠이히데후미 ,  스즈키요 ,  야마시타마사미 ,  아오야마토루 ,  이와키히로유키 ,  시무라사토루 ,  데구치마사토시 ,  요시하라코우스케 ,  이이다나루아키

IPC: H01L21/30

CPC classification number: H01L21/67178 ,  G03F7/70991 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67161 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67778 ,  Y10T29/41

Abstract: 도포현상 처리시스템에 있어서 경계판에 의해 나누어진 각 영역, 즉 카세트 스테이션, 처리 스테이션 및 인터페이스부의 상부에 각 영역 내로 불활성 기체를 공급하는 기체 공급부를 각각 설치한다. 상기 각 영역의 하부에는 각 영역 내의 분위기를 배기하기 위한 배기관을 설치한다. 각 기체 공급장치로 산소 등의 불순물이나 미립자를 포함하지 않는 불활성 기체를 각 영역 내로 공급하고 각 영역 내의 분위기를 배기관으로 배기함으로써 각 영역 내의 분위기를 청정한 상태로 유지한다.