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    기판 세정 방법, 기판 세정 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
    11.
    发明公开
    기판 세정 방법, 기판 세정 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 有权
    基板清洁方法，基板清洁设备，计算机程序和程序记录介质

    公开(公告)号：KR1020060037276A

    公开(公告)日：2006-05-03

    申请号：KR1020057024864

    申请日：2005-04-19

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오노히로키 ,  세키구치겐지

    IPC: H01L21/304

    CPC classification number: H01L21/67051 ,  B08B3/02 ,  G02F2001/1316 ,  H01L21/67028 ,  Y10S134/902

    Abstract: A cleaning process using a cleaning liquid nozzle and a rinse process using a side rinse nozzle are performed to a wafer, and then a drying process is performed. In the drying process, the wafer is rotated, pure water starts to be supplied to a center point of the wafer from the pure water nozzle, and substantially at the same time, nitrogen gas starts to jet from a gas nozzle, at the wafer center part, to a point at a suitable distance from the wafer center. Then, while permitting the pure water nozzle to scan the wafer toward the wafer circumference, the gas nozzle is permitted to scan the wafer toward the wafer circumference in an area inner than the pure water nozzle position, after passing the wafer center.

    Abstract translation: 对晶片进行使用清洗液喷嘴的清洗处理和使用侧面冲洗喷嘴的冲洗处理，然后进行干燥处理。 在干燥过程中，晶片旋转，纯水开始从纯水喷嘴供应到晶片的中心点，并且基本上同时，氮气开始从气体喷嘴喷射，在晶片中心 部分，到与晶片中心合适距离的点。 然后，在允许纯水喷嘴朝向晶片周边扫描晶片的同时，允许气体喷嘴在通过晶片中心之后沿着纯水喷嘴位置内的区域向晶片圆周扫描。

    기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
    13.
    发明公开
    기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
    基板加工设备，基板加工方法和储存介质

    公开(公告)号：KR1020090088800A

    公开(公告)日：2009-08-20

    申请号：KR1020090009821

    申请日：2009-02-06

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지

    IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02 ,  F26B9/06

    CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

    Abstract: A substrate processing apparatus, a substrate processing method, and a recoding medium are provided to reduce an amount of the low humidity gas by supplying the low humidity gas by arranging a gas discharging head in a proximal position when drying the substrate. A chamber(1) accommodates a substrate(W). A substrate maintaining unit horizontally maintains the substrate in the chamber. The rotating device rotates the substrate maintaining unit. A gas discharging head(7) discharges one of the low humidity gas and the clean air to the lower part. The gas supply unit supplies one of the low humidity gas and the clean air to the gas discharging head. A shaft(12) is rotated by a rotation motor(11). A nozzle head(14) moves on the wafer by rotating a nozzle arm(13).

    Abstract translation: 提供基板处理装置，基板处理方法和记录介质，以在干燥基板时将近端位置设置排气头来供给低湿气体来减少低湿气体的量。 腔室（1）容纳衬底（W）。 衬底保持单元将衬底水平地保持在腔室中。 旋转装置旋转衬底保持单元。 排气头（7）将低湿度气体和清洁空气中的一个排出到下部。 气体供给单元将一个低湿度气体和清洁空气提供给排气头。 轴（12）由旋转马达（11）旋转。 喷嘴头（14）通过旋转喷嘴臂（13）在晶片上移动。

    기판 처리 방법 및 기판 처리 장치
    14.
    发明授权
    기판 처리 방법 및 기판 처리 장치 有权
    基板处理方法及基板处理装置

    公开(公告)号：KR100766844B1

    公开(公告)日：2007-10-17

    申请号：KR1020067012237

    申请日：2005-10-12

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지 ,  우치다노리타카 ,  다나카사토루 ,  오노히로키

    IPC: H01L21/304

    CPC classification number: F26B5/005 ,  H01L21/02052 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6708

    Abstract: 본 발명에 의한 기판 처리 장치는 기판(W)을 유지하여 이를 회전시키는 스핀척(3)을 구비한다. 스핀척에 의해 회전되는 기판에 대하여 처리액을 공급하는 처리액 공급 시스템(11,…)이 마련된다. 또한, 기판에 대하여, 처리액보다도 휘발성이 높은 건조용 유체를 공급하는 유체 노즐(12)과, 기판에 대하여 불활성 가스를 공급하는 불활성 가스 노즐(13)이 마련된다. 불활성 가스 노즐이 유체 노즐보다도 기판의 회전 중심(P
    o )에 가까워지도록 유지하면서, 이들의 노즐(12, 13)을 기판의 회전 중심에 대하여 반경 방향 외측으로 향해 이동시키는 노즐 이동 기구(15, 52,…)가 마련된다.

    Abstract translation: 根据本发明的基板处理装置包括一个旋转卡盘（3），用于旋转它用于保持衬底（W）。 设置处理液供给系统，用于供给处理溶液由旋转卡盘（11，...）旋转的基板。 另外，相对于该衬底，流体喷嘴12，用于供给惰性气体到衬底比所述高挥发性为它提供液体供给干燥流体来处理惰性气体喷嘴13。 基板除了惰性气体喷嘴的旋转中心是流体喷嘴（P

    기판세정장치 및 기판세정방법
    16.
    发明公开
    기판세정장치 및 기판세정방법 失效
    基材清洁装置和基材清洁方法

    公开(公告)号：KR1019990067744A

    公开(公告)日：1999-08-25

    申请号：KR1019990000113

    申请日：1999-01-06

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 히로세게이조 ,  세키구치겐지

    IPC: H01L21/304

    Abstract: 본 발명의 기판세정장치는, 실질적으로 수평으로 유지된 기판에 대하여 상대이동접촉되는 액투과성의 막스크럽부재와, 이 막스크럽부재를 지지하는 지지부와, 막스크럽부재를 통해서 기판에 세정액을 공급하기 위한 공급관과, 이 공급관에 세정액을 공급하는 세정액공급원과, 세정액의 공급에 의해 부풀려진 막스크럽부재를 기판에 밀어붙이는 실린더기구와, 세정액의 공급에 의해 부풀려진 막스크럽부와 기판을 상대적으로 수평이동시키는 스핀척을 구비한다.

    기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체
    19.
    发明授权
    기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 有权
    基板加工设备，基板加工方法和储存介质

    公开(公告)号：KR101275973B1

    公开(公告)日：2013-06-14

    申请号：KR1020090009821

    申请日：2009-02-06

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 오리이다케히코 ,  세키구치겐지

    IPC: H01L21/304 ,  H01L21/02 ,  F26B9/06

    CPC classification number: H01L21/02052 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034

    Abstract: 웨이퍼(W)가수용되는챔버(1)와, 챔버(1) 내에서웨이퍼(W)를유지하는스핀척(2)과, 챔버(1) 내의스핀척(2)의상측에상하이동가능하게설치되며, 저습도가스및 청정공기중 어느하나를하측을향하여토출가능한가스토출헤드(7)와, 가스토출헤드(7)를, 적어도상기챔버의상부에있는후퇴위치와, 상기기판유지부에유지된기판에근접한근접위치사이에서이동시키는구동기구(67)와, 스핀척(2)에유지된웨이퍼(W)에처리액을공급하는처리액공급노즐(15)과, 스핀척(2)에유지된웨이퍼(W)에 IPA를공급하는 IPA 공급노즐(35)을포함하고, 적어도 IPA의공급시에가스토출헤드(7)를근접위치에위치시켜상기가스토출헤드로부터저습도가스를공급한다.

    Abstract translation: 一种基板处理装置，包括：配置成用基板保持件配置被处理基板的室，旋转基板的旋转卡盘，将排出除湿气体排出到基板的排气头，处理液供给喷嘴，IPA 供给喷嘴和驱动装置，该驱动装置构造成使所述气体排出头在所述室的上部的后退位置和所述基板附近的接近位置之间移动。 特别地，当将IPA提供给基板时，气体放电头位于接近位置，使得当将IPA供给到基板时，将除气从气体排出头供应到基板。

    기판 세정 방법, 기판 세정 장치, 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체
    20.
    发明公开
    기판 세정 방법, 기판 세정 장치, 및 컴퓨터 판독 가능한 기억 매체 无效
    基板清洁方法，基板清洁装置和计算机可读存储介质

    公开(公告)号：KR1020100094360A

    公开(公告)日：2010-08-26

    申请号：KR1020100011525

    申请日：2010-02-08

    Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

    Inventor： 와타나베츠카사 ,  신도나오키 ,  오노히로키 ,  세키구치겐지

    IPC: H01L21/302

    CPC classification number: H01L21/67051 ,  B24C7/0046 ,  H01L21/02057 ,  Y10S134/902

    Abstract: PURPOSE: A method for cleaning substrates, an apparatus for cleaning the substrates, and a computer-readable storage media are provided to clean the substrates by colliding cleaning particles in dry air or flowing inert gas to the substrates. CONSTITUTION: An external chamber(2) receives substrates. A cleaning nozzle-arm housing houses a cleaning nozzle-arm(31). A rinse liquid nozzle-arm housing houses a rinse liquid nozzle-arm(32) for supplying rinse liquid. A spin chuck(12) is loaded in an inner cup(11) for supporting substrates. An under plate(13) upwardly and downwardly moves in order to correspond to the substrates which are supported by the spin chuck.

    Abstract translation: 目的：提供一种清洁基板的方法，用于清洁基板的装置和计算机可读存储介质，以通过将干燥空气中的清洁颗粒碰撞或将惰性气体流到基板来清洁基板。 构成：外部室（2）接收衬底。 清洁喷嘴臂壳体容纳清洁喷嘴臂（31）。 冲洗液体喷嘴臂壳体容纳用于供应冲洗液体的冲洗液体喷嘴臂（32）。 旋转卡盘（12）装载在用于支撑基底的内杯（11）中。 向下和向下移动底板（13）以对应于由旋转卡盘支撑的基板。

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