자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는마그네트론 스퍼터링 설비
    11.
    发明公开
    자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치 및 이를 갖는마그네트론 스퍼터링 설비 有权
    用于调整磁化距离的装置和具有相同功能的MAGNETRON喷射设备

    公开(公告)号:KR1020100006482A

    公开(公告)日:2010-01-19

    申请号:KR1020080066722

    申请日:2008-07-09

    Abstract: PURPOSE: An apparatus for adjusting a magnetization distance and magnetron sputtering equipment having the same are provided to prevent the magnetization of a target by separating the distance between a target and a magnetron. CONSTITUTION: A magnetron unit conveyor for magnetization prevention includes a magnetron unit(200) and a moving unit. The magnetron is arranged at the proximity of a target(130). The magnetron unit forms constant magnetic field. The target is formed with the metal. A movable unit is separated from a magnetron and the target by a certain interval to make magnetic filed in predetermined magnetic field.

    Abstract translation: 目的:提供一种用于调整磁化距离的装置和具有该装置的磁控溅射装置,以通过分离靶和磁控管之间的距离来防止靶的磁化。 构成:用于防止磁化的磁控管单元输送机包括磁控管单元(200)和移动单元。 磁控管布置在目标(130)附近。 磁控管单元形成恒定的磁场。 目标与金属形成。 可移动单元与磁控管和目标物分开一定间隔以使磁场保持在预定的磁场中。

    수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법
    12.
    发明授权
    수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형마스크의 제조방법 有权
    用于制造垂直沉积掩模的装置和用于制造垂直沉积掩模的制造方法

    公开(公告)号:KR100922045B1

    公开(公告)日:2009-10-19

    申请号:KR1020070118784

    申请日:2007-11-20

    Abstract: 본 발명은 증착이 수행되는 기판이 대면적화 됨에 따라 상기 기판과 대응되는 대면적 마스크를 제작할 때, 마스크 무게에 의한 처짐 현상을 방지하기 위하여 마스크 시트와 마스크 프레임을 지면으로부터 수직 상태로 용접시킬 수 있는 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형 마스크의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
    상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와, 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에는 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단을 포함하는 인장 유닛과; 및 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 용접수단을 포함하며, 상기 인장 유닛 중 일부 인장 유닛의 처짐을 방지하기 위해 상기 인장 유닛과 연결된 처짐 방지수단이 더 포함됨을 특징으로 한다.

    수직 증착형 마스크 제조장치
    13.
    发明公开
    수직 증착형 마스크 제조장치 有权
    用于制作垂直沉积掩模的装置

    公开(公告)号:KR1020090052202A

    公开(公告)日:2009-05-25

    申请号:KR1020070118786

    申请日:2007-11-20

    CPC classification number: G03F1/64 G03F1/42 G03F1/68

    Abstract: 본 발명은 증착이 수행되는 기판이 대면적화 됨에 따라 상기 기판과 대응되는 대면적 마스크를 제작할 때, 마스크 무게에 의한 처짐 현상을 방지하기 위하여 마스크 시트와 마스크 프레임을 지면으로부터 수직 상태로 용접시킬 수 있는 수직 증착형 마스크 제조장치를 제공함에 그 목적이 있다.
    상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 인장시켜 고정하는 인장 유닛과; 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 용접수단이 포함되며,
    상기 인장 유닛은, 상기 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와; 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과; 상기 다수의 클램프 중 적어도 하나의 클램부를 상부 또는 하부로 이동시키키도록 상기 클램프의 일 측면에 클램프 위치 조절수단을 포함되어 구성됨을 특징으로 한다.

    가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치
    14.
    发明授权
    가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치 失效
    加热装置和具有该装置的基板处理装置

    公开(公告)号:KR101094279B1

    公开(公告)日:2011-12-19

    申请号:KR1020090107175

    申请日:2009-11-06

    CPC classification number: H01L21/67109 C23C16/46

    Abstract: 본 발명은 다수의 기판을 동시에 가공하기 위한 기판 가공 장치에 있어서, 상기 다수의 기판이 가공되는 가공 챔버를 가열하기 위한 가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치에 관한 것으로, 빠른 시간 내에 냉각되어 가공 챔버의 냉각에 소요되는 시간을 감소시킬 수 있는 가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
    본 발명은 흡기구 및 배기구가 형성된 몸체; 상기 몸체의 내부에 위치하는 하나 또는 다수의 히터; 상기 몸체의 흡기구와 연결되는 냉각부; 상기 몸체의 배기구와 연결되는 배기 펌프; 및 상기 냉각부를 제어하기 위한 제어부를 포함하는 가열 수단에 관한 것이다.
    또한, 본 발명은 다수의 기판이 적층된 보트; 상기 다수의 기판을 가공하기 위한 공간을 제공하는 가공 챔버; 상기 보트를 상기 가공 챔버의 내부로 반입 및 반출시키기 위한 이송부; 및 상기 가공 챔버의 외측에 위치하는 가열 수단을 포함하며, 상기 가열 수단은 흡기구 및 배기구가 형성된 몸체, 상기 몸체의 내부에 위치하는 하나 또는 다수의 히터, 상기 몸체의 흡기구와 연결되는 냉각부, 상기 몸체의 배기구와 연결되는 배기 펌프 및 상기 냉각부를 제어하기 위한 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 기판 가공 장치에 관한 것이다.
    기판 가공 장치, 가열 수단

    소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법
    15.
    发明授权
    소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법 失效
    源气体供给单元,具有该源气体供给单元的沉积装置及其方法

    公开(公告)号:KR101084275B1

    公开(公告)日:2011-11-16

    申请号:KR1020090089698

    申请日:2009-09-22

    CPC classification number: F17D1/02 C23C16/4485 C23C16/52 Y10T137/0318

    Abstract: 본 발명은 소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법에 관한 것으로, 일정한 소스 가스를 증착 챔버로 공급함으로써 균일한 막을 증착할 수 있는 소스 가스 공급 유닛, 이를 구비하는 증착 장치 및 방법에 관한 것이다.
    본 발명은 소스가 저장되는 캐니스터, 상기 캐니스터를 가열하기 위한 가열부, 상기 캐니스터의 일측에 형성되는 소스 가스 공급관, 상기 소스 가스 공급관에 설치되어, 상기 소스 가스 공급관을 통과하는 소스 가스의 양을 측정하는 측정 수단 및 상기 가열부와 상기 측정 수단에 연결되는 온도 제어부를 포함하고, 상기 온도 제어부는 상기 측정 수단에 의해 측정된 소스 가스의 양에 따라 상기 가열부를 제어하는 것을 특징으로 하는 소스 가스 공급 유닛을 제공한다.
    캐리어 가스, 소스 가스, 증착 챔버, 측정 수단, 온도 제어부, 가열

    반도체 생산 공정에서 임계 치수 제어 방법 및 이를 지원하는 반도체 제조 라인
    16.
    发明授权
    반도체 생산 공정에서 임계 치수 제어 방법 및 이를 지원하는 반도체 제조 라인 失效
    用于控制半导体制造工艺中的关键尺寸的方法和支持其的半导体制造线

    公开(公告)号:KR101073553B1

    公开(公告)日:2011-10-17

    申请号:KR1020100021000

    申请日:2010-03-09

    Abstract: 반도체생산공정에서임계치수제어방법은단속적인생산공정을수행하는모델인지여부를판단하는단계, 상기판단에따라모델별오프셋또는모델그룹의공통오프셋을적용하는단계, 상기모델별오프셋또는상기모델그룹의공통오프셋과함께공정변수를적용하여생산공정을수행하는단계, 및상기생산공정에서의실제임계치수를측정하는단계를포함하고, 상기실제임계치수를기반으로모델별오프셋이계산되고, 상기계산된모델별오프셋이상기모델그룹의공통오프셋의계산에적용된다. 서로다른목표의임계치수를가지는다수의모델이연속적또는단속적인생산공정을수행하더라도, 이전의공정변화를반영하여최적의공정조건을구하고, 임계치수와의오차를최소화하여생산재시작초반에발생하는시간과비용을저감할수 있다.

    반도체 생산 공정에서 임계 치수 제어 방법 및 이를 지원하는 반도체 제조 라인
    18.
    发明公开
    반도체 생산 공정에서 임계 치수 제어 방법 및 이를 지원하는 반도체 제조 라인 失效
    用于控制半导体生产工艺中的关键尺寸的方法和支持其的半导体制造线

    公开(公告)号:KR1020110101761A

    公开(公告)日:2011-09-16

    申请号:KR1020100021000

    申请日:2010-03-09

    Abstract: 반도체 생산 공정에서 임계 치수 제어 방법은 단속적인 생산 공정을 수행하는 모델인지 여부를 판단하는 단계, 상기 판단에 따라 모델별 오프셋 또는 모델 그룹의 공통 오프셋을 적용하는 단계, 상기 모델별 오프셋 또는 상기 모델 그룹의 공통 오프셋과 함께 공정 변수를 적용하여 생산 공정을 수행하는 단계, 및 상기 생산 공정에서의 실제 임계 치수를 측정하는 단계를 포함하고, 상기 실제 임계 치수를 기반으로 모델별 오프셋이 계산되고, 상기 계산된 모델별 오프셋이 상기 모델 그룹의 공통 오프셋의 계산에 적용된다. 서로 다른 목표의 임계 치수를 가지는 다수의 모델이 연속적 또는 단속적인 생산 공정을 수행하더라도, 이전의 공정변화를 반영하여 최적의 공정 조건을 구하고, 임계 치수와의 오차를 최소화하여 생산 재시작 초반에 발생하는 시간과 비용을 저감할 수 있다.

    가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치
    19.
    发明公开
    가열 수단 및 이를 포함하는 기판 가공 장치 失效
    加热装置和具有该加热装置的基板加工装置

    公开(公告)号:KR1020110050268A

    公开(公告)日:2011-05-13

    申请号:KR1020090107175

    申请日:2009-11-06

    CPC classification number: H01L21/67109 C23C16/46

    Abstract: PURPOSE: A heating device and a substrate processing apparatus having the same are provided to reduce processing time by forcedly cooling down one or a plurality of heaters and to reduce the time required for cooling down the process chamber. CONSTITUTION: In a heating device and a substrate processing apparatus having the same, a body(210) includes an inlet unit(211) and an outlet unit(212). One or a plurality of heaters(220) are installed inside the body. A cooling unit(230) is connected to the inlet unit of the body. An exhaust pump(240) is connected to the exhaust pipe of the body. A controller(250) controls the cooling unit.

    Abstract translation: 目的:提供一种加热装置及其基板处理装置,以通过强制冷却一个或多个加热器并减少冷却处理室所需的时间来减少处理时间。 构成:在加热装置和具有该加热装置的基板处理装置中,主体(210)包括入口单元(211)和出口单元(212)。 一个或多个加热器(220)安装在体内。 冷却单元(230)连接到主体的入口单元。 排气泵(240)连接到主体的排气管。 控制器(250)控制冷却单元。

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