Abstract:
An apparatus (10) for producing a beam (14) of ionized clusters, having a cluster source (12) and an ionizer (18), includes an electrostatic mass separator (26) which permits only those clusters having a mass greater than a selected value to pass. Unclustered ions and clusters of smaller size are reflected and do not reach the substrate target. The mass separator (26) has a retarding field electrode (30) and an entrance electrode (28), both in the form of grids (32) with the grid openings aligned. Use of a second electrostatic mass separator (26) allows selection of a narrow range of cluster masses for acceleration against the substrate.
Abstract:
A device for providing an energy filtered charged particle image particularly an electron image in the form of an electron energy analyser which acts as a band-pass filter whilst maintaining the spatial integrity of the electron image in a uniform magnetic field. It embodies new electron optical properties wherein image electrons injected parallel to the magnetic field are guided, using crossed electrostatic and magnetic fields, to a low-pass electron mirror (4) and then through a high-pass retardation filter (6). Non-uniform electrostatic deflection fields are used to compensate for the energy-dependent dispersion of the crossed fields whereby it is possible to correct for image distortion resulting from such dispersion.
Abstract:
일 실시예는 고해상도 전자 빔 이미징을 위한 장치에 관한 것이다. 장치는 입사 전자 빔에서 전자들의 에너지 확산을 제한하도록 구성된 에너지 필터를 포함한다. 에너지 필터는 무수차 빈 필터 및 필터 조리개를 이용하여 형성될 수 있다. 다른 실시예는 고해상도 전자 빔 장치를 위해 입사 전자 빔을 형성하는 방법에 관한 것이다. 다른 실시예는 곡선 전도성 전극을 포함하는 무수차 빈 필터에 관한 것이다. 다른 실시예는 한 쌍의 자기 요크 및 다중극 디플렉터를 포함하는 무수차 빈 필터에 관한 것이다. 다른 실시예들, 양태들 및 피처들이 또한 개시된다.
Abstract:
에너지폭을 가진 빔의 고정밀도 에너지분석의 기술을 제공한다. 고에너지 정밀도의 고주파 가속식의 이온가속·수송장치는, 설정 빔에너지에 대해서 에너지폭(에너지 분포)을 가지는 고주파 가속식의 가속 시스템에 의하여 이온빔의 가속을 행한 후의 빔라인으로서, 에너지분석용 편향전자석과 가로방향 빔수렴요소를 구비한다. 이온가속·수송장치는, 또한 에너지분석용 편향전자석 및 가로방향 빔수렴요소에 의하여 에너지 분산과 빔사이즈가 적정하게 되는 위치에, 에너지폭제한슬릿과 에너지분석슬릿으로 구성되는 이중 슬릿이 설치되어 있으며, 이중 슬릿은, 에너지 분리와 에너지제한을 행하고, 빔전류량의 감소를 억제하면서, 보다 작은 에너지폭이 되도록 조정함으로써, 이온빔의 에너지폭을 축소하여, 필요 에너지 정밀도를 실현한다.
Abstract:
일 실시형태는 타겟 기판에서 사이트 위치를 검사하는 방법에 관한 것이다. 디자인 클립을 이용하여 기준 이미지로부터 생성된 윤곽이 획득된다. 사이트 위치의 타겟 이미지가 획득된다. 윤곽들이 타겟 이미지에 정렬되고, 윤곽의 픽셀들에 대하여 콘트라스트 값이 계산된다. 상기 콘트라스트 값에 역치를 적용하여 윤곽 기반 결함 얼룩을 결정한다. 다른 실시형태는 결함에 대하여 사이트 위치를 검사할 때 사용하는 윤곽을 생성하는 방법에 관한 것이다. 다른 실시형태, 양태 및 특징들이 또한 개시된다.