公开(公告)号：KR1019900019175A

公开(公告)日：1990-12-24

申请号：KR1019900007282

申请日：1990-05-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 이와쓰하루오 ,  사카모토야스히로 ,  이와키리준로오

IPC: H01L21/469

Abstract: 내용 없음

公开(公告)号：KR100306087B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019930030041

申请日：1993-12-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 요코미조겐지 ,  다시마지하야 ,  무카이에이이치 ,  혼다요시유키 ,  하라무라나오히코 ,  무라카미신야 ,  쵸노야스히로

IPC: H01L21/304

Abstract: 기판 세정 장치는, 여러 개의 기판을 세정하기 위한 세정액이 수용된 세정탱크와, 이 세정탱크내에 여러 개의 기판을 서로 평행하게 유지하는 보호유지부와, 세정탱크의 바닥부에 형성한 액공급구와, 이 액공급구에 연결되어 액공급구를 통하여 세정탱크내에 세정액을 공급하는 액공급 시스템과, 보호유지부에 유지된 여러 개의 기판과 상기 액공급구와의 사이에 설치되고, 세정액을 유통시키기 위한 여러 개의 정류구멍을 가지는 정류판을 가진다. 이들 여러 개의 정류구멍은 기판의 배열을 따라서 직렬로 나란한 여러 개의 열(列)을 형성하고, 각 열의 구멍은 기판에 대하여 하나씩 걸러서 위치하며, 또, 그 인접한 구멍과는 위치가 어긋나도록 배열되어 있다.

公开(公告)号：KR100304147B1

公开(公告)日：2001-11-30

申请号：KR1019980017564

申请日：1998-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 니시미쓰오 ,  신도나오키 ,  야마구치가즈야

IPC: H01L21/304

Abstract: 본 발명은, 반송척의 세정 및 건조처리를 높은 효율로서 양호하게 행하는 반송척의 세정장치 및 세정방법을 제공한다.
본 발명은, 복수의 피처리기판을 세운 상태에서, 소정 간격으로 나란하게 파지하기 위한 한쌍의 아암부재를 가진 반송척을 세정ㆍ건조처리하기 위한 반송척의 세정장치에 있어서, 상기 한쌍의 아암부재 중에서 적어도 한쪽이 출입하도록 상부 개구를 가지는 처리탱크와, 이 처리탱크 내에서 세정액을 토출하도록 설치된 세정노즐과, 상기 처리탱크 내에서 건조용 가스를 분사하도록 설치된 가스노즐과, 상기 반송척이 상기 상부 개구를 통하여 상기 처리탱크 내로 출입하도록, 상기 반송척과 상기 처리탱크를 상대적으로 상하방향으로 이동시키는 승강수단과, 이 승강수단에 의해 상기 반송척이 상기 처리탱크에 대하여 상대적으로 상승되었을 때에 상기 세정노즐이 세정액을 상기 척부재로 향하여 분사함과 동시에 상기 가스노즐이 건조용 가스를 상� � 척부재로 향하여 분사하도록, 상기 승강수단, 세정노즐 및 가스노즐의 각 동작을 제어하는 수단을 구비한다.

公开(公告)号：KR100274756B1

公开(公告)日：2000-12-15

申请号：KR1019950024425

申请日：1995-08-08

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사 ,  모토다기미오 ,  세키구치겐지 ,  오모리츠타에

IPC: H01L21/312 ,  H01L21/027 ,  G03F7/06

CPC classification number: B05D1/005 ,  G03F7/162

Abstract: 처리용기 내에 수용된 기판을, 처리용기와 함께 회전 시키면서, 상기 기판의 면위에 도포액을 공급하여 도포막을 형성하는 도포막 형성 방법은, 기판의 면위에 용제를 도포하는 공정과, 기판에 도포액을 공급하는 공정과, 기판 및 처리용기를 제 1의 회전수로 회전시켜서, 도포액을 기판의 면위에서 확산시키는 공정과, 처리용기를 뚜껑체로 폐쇄하고, 기판을 처리용기내에 봉입하는 공정과, 뚜껑체가 구비된 처리용기 및 기판을 제 2의 회전수로 회전시켜서, 도포막의 막두께를 조정하는 공정을 가진다.

公开(公告)号：KR100260586B1

公开(公告)日：2000-07-01

申请号：KR1019930029478

申请日：1993-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 가미카와유지

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02052 ,  F26B21/145 ,  H01L21/67034

Abstract: IPA증기를 웨이퍼에 접속시켜, 웨이퍼로부터 부착액을 제거하는 기판건조장치로서, IPA를 저류하는 조와, 이 조내의 IPA를 공급하는 공급기구와, 조내의 IPA를 배출하는 배출기구와, 조내의 IPA내의 웨이퍼를 침적시키는 승강보트와, 조의 외부바닥면에 접촉가능하게 설치되고, 열 전달에 의하여, 조내의 IPA를 가열하는 가열블록과, IPA와 냉각수와의 사이에서 열교환하도록 조내의 설치되고, 배출되기 위한 IPA를 냉각수에 의하여 냉각하는 순행시스템을 가진다.

公开(公告)号：KR100256081B1

公开(公告)日：2000-05-01

申请号：KR1019940002162

申请日：1994-02-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 기무라요시오

IPC: H01L21/31

CPC classification number: G03F7/16 ,  H01L21/6715 ,  Y10S134/902

Abstract: 반도체 웨이퍼에 포토레지스트를 도포하는 장치는, 로드/언로드 유니트와, 처리 유니트를 구비한다. 처리유니트에는 반송로가 배치되고, 반송로를 따라서, 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 냉각부, 레지스트 도포부, 및 피복층 도포부가 배치된다. 애드히젼 처리부, 프리베이크부, 및 피복층 도포부는, 개개의 처리실내의 배치되는 한편, 냉각부 및 레지스트 도포부는 공통의 주처리실내로 배치된다.
반송로를 따라서 이동이 자유롭게 반송로보트이 배치되고, 그 로봇에 의하여 처리실 사이에서 기판이 반송된다. 주처리실내에는 전용의 반송부재가 배치되고, 그 반송부재에 의하여 냉각부로부터 레지스트 도포부로 기판이 방송된다.

公开(公告)号：KR100248568B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019940002752

申请日：1994-02-16

Applicant: 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤 ,  도오교오에레구토론가부시끼가이사

Inventor： 미야자키다카노리 ,  고바야시가즈히코 ,  가미카와유우지 ,  다시마지하야

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B21/145 ,  F26B25/009 ,  H01L21/67781 ,  Y10S134/902 ,  Y10S203/07

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정처리 시스템에 조립된 웨이퍼의 건조장치는 IPA를 수용하는 탱크를 구비한다. 탱크에는 IPA의 증기를 발생시키기 위한 히터가 설치된다. 탱크는 케이싱에 의하여 포위되고, 케이싱은 셔터에 의하여 개폐되는 개구부를 3방향으로 가진다. 탱크에는 화재발생을 검지하는 센서와, 탱크내에 CO
2 가스를 방출하기 위한 노즐이 설치된다. 웨이퍼는 복수매가 반송로보트의 척에 유지되고, 케이싱의 외부로부터 개구부를 통하여 케이싱의 내부로 반송된다. 센서에 의하여 화재발생이 검지되면, 바로 척이 케이싱으로부터 퇴피함과 동시에 셔터가 폐쇄된다. 10 추후에 셔터를 폐쇄시키는 신호가 재차 셔터의 구동원에 전달되어 20초 후에 CO
2 가스의 방출이 개시된다.

公开(公告)号：KR100248564B1

公开(公告)日：2000-03-15

申请号：KR1019930005826

申请日：1993-04-07

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 시라이시히로후미 ,  혼다요시유키

IPC: H01L21/00

CPC classification number: H01L21/67034 ,  F26B5/08

Abstract: 본 발명인 스핀 드라이어는 여러 개의 웨이퍼를 둘러싸는 광체와, 광체 가운데 여러 개의 웨이퍼를 회전시키는 모터와, 회전수단인 회전축에 대하여 웨이퍼의 면이 실질적으로 직교하여 서로 마주보는 자세가 되도록 웨이퍼 각각을 유지하는 상하 클램프바와, 광체 내에 청정공기 기류를 발생시키는 가스 도입기구 및 가스 배기기구를 갖는다. 광체는 가스도입 기구 및 가스 배기기구가스에 의해 발생되는 가스기류의 흐름방향에 직교하는 광체의 단면적이 가스 기류의 하류측에 가도록 점점 작아지게 형성되어 있다.

公开(公告)号：KR100241292B1

公开(公告)日：2000-02-01

申请号：KR1019940019357

申请日：1994-08-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 구로다고오키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67057

Abstract: 반도체 웨이퍼의 세정시스템은, 처리배설을 가지는 약액세정부를 구비한다. 처리베셀내에는 50매의 웨이퍼를 한번에 유지하기 위한 홀더가 설치된다. 홀더에는 웨이퍼의 주연부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 50개의 웨이퍼는 한쌍의 개폐아암을 구비하는 척에 의하여 일괄하여 홀더에 대하여 접수된다. 각 아암에는 웨이퍼의 가장자리부를 수용하는 50개의 홈이 형성된다. 웨이퍼를 접수하기 위한 상대위치 기준으로 부터 척과 홀더와의 상대위치의 어긋남을 수정하기 위하여 양 끝단부에 촬상부를 구비한다. 각 촬상부는 척의 홈과 이것에 대응하는 홈을 동시에 촬상한다. 촬상된 양홈은 모니터상의 동일좌표내에 중첩되어 표시된다. 촬상된 양홈의 상의 어긋남을 수정하도록 척과 홀더를 상대적으로 움직이고, 상대위치기준으로 부터 현상대위치의 어긋남을 수정한다.

公开(公告)号：KR100230694B1

公开(公告)日：1999-11-15

申请号：KR1019930008470

申请日：1993-05-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 ,  도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤

Inventor： 다테야마기요히사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67173 ,  B08B1/007 ,  B08B1/04 ,  B08B11/02 ,  H01L21/67046 ,  Y10S134/902

Abstract: 기판 세정처리장치에서는, 기판을 회전(spin) 판부재와 함께 회전시키는 모터와, 회전 판부재와 웨이퍼 하면과의 상호간에 공간이 형성되도록 웨이퍼를 유지하는 유지돌기와, 웨이퍼 상면에 세정액을 뿌리는 제트노즐과, 웨이퍼 상면에 회전브러시로 세정하는 회전 브러시와, 웨이퍼 하면의 질소가스 또는 순수한 물을 내뿜는 유체 취출기구와, 상호간 공간을 배기하는 배기기구를 가지며, 유체 취출기구의 유체통로 및 배기기구의 배기통로가 모터의 회전구동축의 안에 형성되고, 상호간 공간에 열결되어 통하도록 되어 있다.