Abstract:
Optoelektronisches Halbleiterbauelement (20) zur Emission mehrfarbiger Strahlung (R, G, B), mit - einer Vielzahl nebeneinander angeordneter aktiver Bereiche (10a, 10b, 10c), die als Mikro- oder Nanostäbe ausgebildet sind und zur Erzeugung einer elektromagnetischen Primärstrahlung (B) eingerichtet sind, wobei - einer ersten Gruppe der aktiven Bereiche (10a) in einer Abstrahlrichtung jeweils ein erstes Lumineszenzkonversionselement (21) nachfolgt, das zur Konvertierung der Primärstrahlung (B) in eine erste Sekundärstrahlung (R) geeignet ist, und - einer zweiten Gruppe der aktiven Bereiche (10b) in der Abstrahlrichtung jeweils ein zweites Lumineszenzkonversionselement (22) nachfolgt, das zur Konvertierung der Primärstrahlung (B) in eine zweite Sekundärstrahlung (G) geeignet ist, wobei die Primärstrahlung (B), die erste Sekundärstrahlung (R) und die zweite Sekundärstrahlung (G) verschiedene Farben aufweisen.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines Trägers mit einer Trägeroberfläche, wobei ein erster lateraler Abschnitt der Trägeroberfläche gegenüber einem zweiten lateralen Abschnitt der Trägeroberfläche erhaben ist, zum Anordnen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer ersten Oberfläche und einer zweiten Oberfläche auf der Trägeroberfläche, wobei die erste Oberfläche der Trägeroberfläche zugewandt wird, und zum Ausbilden eines Formkörpers mit einer der Trägeroberfläche zugewandten Oberseite und einer der Oberseite gegenüberliegenden Unterseite, wobei der Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird.
Abstract:
Ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements umfasst Schritte zum Bereitstellen eines optoelektronischen Halbleiterchips mit einer ersten Oberfläche, zum Aufbringen einer Opferschicht auf der ersten Oberfläche, zum Ausbilden eines Formkörpers, wobei der optoelektronische Halbleiterchip zumindest teilweise in den Formkörper eingebettet wird, und zum Entfernen der Opferschicht.
Abstract:
Es wird eine optoelektronische Vorrichtung angegeben mit - einem Sender (1), der dazu eingerichtet ist, elektromagnetische Strahlung (2) zu emittieren und mit einer Eingangsspannung (UI) betrieben zu werden, - einem Empfänger (3), der dazu eingerichtet ist, die elektromagnetische Strahlung (2) zu empfangen und eine Ausgangsspannung (UO) zu liefern, wobei - der Sender (1) einen Kantenemitter (10) umfasst, und - der Empfänger (3) zumindest eine Fotodiode (30) umfasst.
Abstract:
An optoelectronic component (1) is described comprising - at least one semiconductor body (2) including a first semiconductor region (3), a second semiconductor region (5) and an active region (4) therebetween, - a cover element (6), which laterally surrounds the at least one semiconductor body (2) and has at least one patterned side surface (6A) facing away from the at least one semiconductor body (2), - a reflection element (7), which at least partly covers the at least one patterned side surface (6A), wherein the active region (4) is at least partly laterally surrounded by the first semiconductor region (3). Moreover, a component unit (19) comprising at least two optoelectronic components (1) and a method for producing a plurality of optoelectronic components (1) or at least one component unit (19) are described.
Abstract:
Es wird ein Bauelement (10) mit einem Träger (1), einem auf dem Träger angeordneten Halbleiterkörper (2), einer zumindest bereichsweise zwischen dem Träger und dem Halbleiterkörper angeordneten Zwischenschicht (3, 31, 32) und einer ersten Kontaktstruktur (41) angegeben, bei dem der Halbleiterkörper eine erste Halbleiterschicht (21), eine zweite Halbleiterschicht (22) und eine aktive Zone (23) aufweist, die in vertikaler Richtung zwischen den Halbleiterschichten (21, 22) angeordnet und zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung eingerichtet ist. Die aktive Zone weist entlang lateraler Richtungen lokal deaktivierte Bereiche (23D, 23E) auf, die nicht zur Erzeugung elektromagnetischer Strahlung eingerichtet sind. Der Halbleiterkörper weist eine Öffnung (2R) auf, die sich durch die zweite Halbleiterschicht und die aktive Zone hindurch zur ersten Halbleiterschicht hin erstreckt, wobei die Öffnung verschieden von den deaktivierten Bereichen der aktiven Zone ist und teilweise mit einem Material der Zwischenschicht aufgefüllt ist. Zudem ist die erste Kontaktstruktur zur elektrischen Kontaktierung der ersten Halbleiterschicht eingerichtet und überlappt in Draufsicht mit der Öffnung. Des Weiteren wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Bauelements angegeben.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement mit mindestens einem Halbleiterelement mit einer aktiven Zone vorgeschlagen, die zur 5 Erzeugung von Licht ausgebildet ist. das Bauelement umfasst einen dielektrischen Filter, der oberhalb einer ersten Hauptoberfläche des mindestens einen Halbleiterelements angeordnet ist und derart ausgebildet ist, dass er nur Licht in vorgebebenen Richtungen transmittiert, und ein reflektierendes Material, das an mindestens einer Seitenfläche des mindestens einen Halbleiterelements und an mindestens einer Seitenfläche des dielektrischen Filters angeordnet ist.
Abstract:
In mindestens einer Ausführungsform umfasst der optoelektronische Halbleiterchip (100) eine halbleitende Rekombinationsschicht (1) zur Erzeugung von elektromagnetischer Strahlung durch Ladungsträgerrekombination, eine Mehrzahl von ersten Kontaktelementen (31) auf einer ersten Seite (11) der Rekombinationsschicht, zumindest ein zweites Kontaktelement (32) auf der ersten Seite der Rekombinationsschicht, eine Mehrzahl halbleitender erster Anschlussbereiche (21) und zumindest einen halbleitenden zweiten Anschlussbereich (22). Die ersten Anschlussbereiche sind jeweils zwischen einem ersten Kontaktelement und der ersten Seite der Rekombinationsschicht angeordnet. Der zweite Anschlussbereich ist zwischen dem zweiten Kontaktelement und der ersten Seite der Rekombinationsschicht angeordnet. Die ersten Anschlussbereiche weisen eine Dotierung erster Art auf und der zweite Anschlussbereich weist eine zur Dotierung erster Art komplementäre Dotierung zweiter Art auf. Die ersten Kontaktelemente sind einzeln und unabhängig voneinander elektrisch kontaktierbar.
Abstract:
In einer Ausführungsform dient das Verfahren zur Herstellung von Halbleiterlichtquellen (1) und umfasst die Schritte: A) Wachsen einer Vielzahl von Halbleitersäulen (3) an einer Aufwachsfläche (20) zumindest eines Aufwachssubstrats (2), wobei die Halbleitersäulen (3) zur Strahlungserzeugung eingerichtet sind, B) Einprägen der fertig gewachsenen Halbleitersäulen (3) in eine Prägematrix (4), sodass zumindest Seitenflächen (35) der Halbleitersäulen (3) unmittelbar von einem Material der Prägematrix (4) umschlossen werden, und C) Ablösen der Halbleitersäulen (3) von dem zumindest einen Aufwachssubstrat (2) nach dem Einprägen in die Prägematrix (4), wobei die Prägematrix (4) die Halbleitersäulen (3) beim Ablösen festhält.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement (1) angegeben, das einen Halbleiterkörper (10), einen ersten Bereich (101) eines ersten Leitungstyps, einen zweiten Bereich (102) eines zweiten Leitungstyps und einen aktiven Bereich (103) umfasst. Der aktive Bereich (103) ist zwischen dem ersten Bereich (101) und dem zweiten Bereich (102) angeordnet. Im ersten Bereich (101) des Halbleiterkörpers (10) befindet sich eine Aussparung (160), mit einem an die Aussparung (160) angrenzenden Kontaktbereich (170). Der aktive Bereich (103) ist zur Emission von elektromagnetischer Strahlung eingerichtet. Der Halbleiterkörper (10) besitzt eine erste Strahlungsaustrittsfläche (10A) an einer dem aktiven Bereich (103) abgewandten Hauptfläche des zweiten Bereich (102), und ein Teil der im Betrieb erzeugten elektromagnetischen Strahlung verlässt den Halbleiterkörper (10) durch diese erste Strahlungsaustrittsfläche (10A). Der Halbleiterkörper (10) weist eine erste elektrische Anschlussschicht (121) und eine zweite elektrische Anschlussschicht (122) auf, wobei die zweite elektrische Anschlussschicht (122) zumindest teilweise in der Aussparung (160) angeordnet ist. Der ersten Strahlungsaustrittsfläche (10A) ist ein strahlungsdurchlässiger Träger(140) nachgeordnet, der mittels einer strahlungsdurchlässigen, Verbindungsschicht (132) mit dem Halbleiterkörper (10) stoffschlüssig verbunden ist. Weiterhin wird ein Verfahren zur Herstellung des optoelektronischen Bauelements (1) angegeben.