公开(公告)号：KR1020070074494A

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：KR1020070001565

申请日：2007-01-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  이이다나루아키 ,  이나도미히로아키

IPC: H01L21/027

CPC classification number: F27B17/0025 ,  F27B5/04 ,  F27D5/0037 ,  F27D15/02 ,  H01L21/67109 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67784 ,  Y10S414/139 ,  G03F7/168

Abstract: A heating apparatus and a method are provided to reduce the size of the heating apparatus itself by floating a substrate and transferring the floated substrate between a cooling plate and a heating plate. A heating apparatus includes a heating chamber(4) for heating a substrate in a process chamber, a heating plate(6) in the heating chamber, a cooling plate(3) adjacent to an opening side of the heating chamber in the process chamber, a gas projecting hole, a pressing member, and a driving mechanism. The gas projecting hole(6a) is formed at the cooling plate and the heating plate along a substrate moving path. The gas projecting hole is capable of floating the substrate. The pressing member(5) is used for pressing a front side or a rear side of the floated substrate. The driving mechanism is used for controlling the motion of the pressing member.

Abstract translation: 提供一种加热装置和方法，通过漂浮基板并将浮动的基板转移到冷却板和加热板之间来减小加热装置本身的尺寸。 加热装置包括用于加热处理室中的基板的加热室（4），加热室中的加热板（6），与处理室中的加热室的开口侧相邻的冷却板（3） 气体突出孔，按压构件和驱动机构。 气体突出孔6a沿着基板移动路径形成在冷却板和加热板上。 气体突出孔能够漂浮基板。 按压构件（5）用于按压浮动基板的前侧或后侧。 驱动机构用于控制按压部件的运动。

公开(公告)号：KR1020070026198A

公开(公告)日：2007-03-08

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748 ,  G03F7/168 ,  G03F7/70733

Abstract: A heating apparatus and a coating developing apparatus are provided to reduce the particles attached to a substrate by decreasing an overhead time. A heating apparatus includes a process chamber, a heating chamber, a heating plate, a cooling plate, and a transfer unit. The heating chamber(4) is installed in the process chamber. The heating chamber is formed like a flat type structure. The heating chamber has an opening portion capable of loading and unloading a substrate. The heating plate is arranged in the heating chamber. The cooling plate(3) is installed in the process chamber adjacent to the opening portion of the heating chamber in order to cool the substrate. The transfer unit(5) is installed in the process chamber in order to transfer the substrate between an upper side of the cooling plate and the inside of the heating chamber.

Abstract translation: 提供加热装置和涂覆显影装置，通过减少开销时间来减少附着在基板上的颗粒。 加热装置包括处理室，加热室，加热板，冷却板和转印单元。 加热室（4）安装在处理室中。 加热室形成为平坦型结构。 加热室具有能够装载和卸载基板的开口部分。 加热板配置在加热室内。 为了冷却基板，将冷却板（3）安装在与加热室的开口部相邻的处理室中。 传送单元（5）安装在处理室中，以便在冷却板的上侧和加热室的内侧之间传送基板。

公开(公告)号：KR1020060103125A

公开(公告)日：2006-09-28

申请号：KR1020060025822

申请日：2006-03-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 마츠오카노부아키 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/677 ,  H01L21/68

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67225 ,  Y10T29/49004 ,  Y10T29/49126 ,  Y10T29/49155 ,  Y10T29/53174 ,  Y10T29/53187 ,  Y10T29/532 ,  H01L21/67196 ,  H01L21/67276 ,  H01L21/67739 ,  H01L21/67745

Abstract: 본 발명은 도포·현상장치 및 도포·현상방법에 관한 것으로서 도포막 형성용의 블럭과 현상 처리용의 블럭을 적층 함과 동시에 각 처리 블럭마다 블럭용의 반송 수단과의 사이에 기판의 수수를 행하기 위한 수수 스테이지를 캐리어블럭 측에 설치해 선반 형상의 수수 스테이지군을 구성하고 이들 수수 스테이지군의 수수 스테이지의 사이에 기판을 반송하는 상하 반송 수단을 설치한다. 그리고 캐리어 블럭의 상부의 빈공간에 기판 검사 유니트를 배치함과 동시에 상하 반송 수단을 개재시켜 직접 혹은 수수 스테이지군중의 수수 스테이지를 개재시켜 해당 기판 검사 유니트에 반송한다. 또 기판 검사 유니트는 수수 스테이지군중에 배치해도 좋은 기판 검사 유니트를 조립에 있어서 설치 스페이스에 대해서 불리하지 않은 구조 예를 들면 도포·현상 장치 본체의 옆으로부터 튀어나오지 않는 구조를 갖춘 도포·현상 장치의 기술을 제공한다.

公开(公告)号：KR1020000035194A

公开(公告)日：2000-06-26

申请号：KR1019990048323

申请日：1999-11-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  나가시마신지

IPC: B05C9/08

CPC classification number: B05D7/52 ,  B05C11/08 ,  B05D1/005 ,  B05D3/0254 ,  B05D3/0486

Abstract: PURPOSE: An apparatus for forming a coated layer is provided, such as an insulating layer by sol-gel method, silk method, speed film method, or fox method. CONSTITUTION: The apparatus comprises a process part (1) which performs a series of processes for forming the coated layer on a substrate; and a common transferring device (18) which transfers the substrate in the process part when the insulating coated layer is formed by sol-gel method, wherein the process part comprises a cooling unit (24, 26) which cools a substrate; a coating unit (12, 13) which coats the coating solution containing the first solvent on the substrate to forming a coated layer; an aging unit (21) which converts sol among the coated layer into gel; a solvent exchange unit (11) which contacts the second solvent whose composition is different from the first solvent to the coated layer to exchange the first solvent of the coated layer with the second solvent; a curing unit (20) which heats the substrate under the low oxygen atmosphere and cools it to cure the coated layer; and a heating unit which heats the coated layer.

Abstract translation: 目的：提供一种用于形成涂层的装置，例如通过溶胶 - 凝胶法，丝绸法，速度膜法或狐狸法的绝缘层。 构成：该装置包括一个处理部分（1），该处理部分执行一系列在衬底上形成涂层的工艺; 以及当通过溶胶 - 凝胶法形成绝缘涂层时，传送处理部分中的基板的公共转移装置（18），其中处理部分包括冷却基板的冷却单元（24,26） 涂布单元（12,13），其在所述基板上涂覆含有所述第一溶剂的涂布溶液以形成涂层; 将涂层中的溶胶转化为凝胶的老化单元（21） 与第二溶剂接触的溶剂交换单元（11），其组成不同于第一溶剂至涂层，以与第二溶剂交换涂层的第一溶剂; 固化单元（20），其在低氧气氛下加热基底并冷却以固化涂层; 以及加热涂层的加热单元。

公开(公告)号：KR101877428B1

公开(公告)日：2018-07-11

申请号：KR1020110141910

申请日：2011-12-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  가나가와코우조우 ,  야마오카테루타카

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/677

Abstract: 서로구획되고적층된기판반송영역에서기류의체류를방지하고, 또한각 반송영역의메인터넌스작업을용이하게행할수 있는기판처리장치를제공하는것이다. 적층된제 1 기판반송영역및 제 2 기판반송영역을구획하는구획위치에설치되고, 내부에기체확산실을구비하는구획판과, 기판반송영역의폭 방향중앙부로부터주연부에걸친위치에서, 상기구획판에상기기체확산실에연통되는청정기체공급구로기체를공급하는기체공급로와, 상기기체공급로에설치되고, 상기청정기체공급구로공급하는기체를청정화하기위한필터와, 구획판의하면에형성되고, 기체확산실에서확산된기체를기판반송영역으로토출시키기위한다수의토출구를구비하고, 구획판은, 메인터넌스시에제 2 기판반송영역으로부터제 1 기판반송영역을들여다볼수 있는개방상태로하기위하여, 상기구획위치로부터퇴피시킬수 있도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR101690223B1

公开(公告)日：2017-01-09

申请号：KR1020120025434

申请日：2012-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  에노키다수구루 ,  이이다나루아키 ,  가지와라히데키

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  B25J15/06

CPC classification number: H01L21/6838

Abstract: 부품점수가적고간소한구조임에도불구하고, 기판에휨 또는뒤틀림이있어도안정적으로진공흡착하여보지(保持)할수 있는기판보지장치를제공하는것이다. 흡인통로(31)를가지는반송암 본체(30)와, 기판을진공흡착하여보지하는흡착면(41)과흡인구(42)를가지는흡착부(44)와, 흡인구와연통하는흡인홀(45)이형성되는원통형상의장착부(43)를구비하는패드본체(40)와, 패드본체의장착부가이동가능하게삽입가능한삽입홀(51)과, 흡인홀과흡인통로에연통하는연통로(54)가형성되고, 반송암 본체(30)에대하여고정되는패드보지부재(50)와, 패드본체의장착부에형성되는원호형상의외주홈(46)과패드보지부재의삽입홀에형성되는원호형상의내주홈(55)의사이에개재되고, 탄성변형가능한원형단면의 O링(60)을구비한다.

Abstract translation: 一种基板保持装置，包括：具有吸入路径的传送臂主体; 包括具有吸入面的吸引部和通过真空吸附保持基板的吸入口的垫体，以及形成有与吸入口连通的吸入孔的圆筒状的安装部， 衬垫保持构件，其具有插入孔，所述垫体的安装部可松动地插入该插入孔中;以及连通路，其与所述吸入孔和所述吸入路连通，并固定到所述传送臂体; 以及形成在所述垫主体的安装部分中的弧形外周槽和形成在所述垫的插入孔中的弧形的内周槽之间的具有圆形横截面的可弹性变形的环形气密保持构件 控股成员

公开(公告)号：KR101258781B1

公开(公告)日：2013-04-29

申请号：KR1020110106340

申请日：2011-10-18

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  하야시신이치 ,  하야시다야스시 ,  마츠오카노부아키 ,  키무라요시오 ,  우에다이세이 ,  이토히카루

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/00 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184 ,  H01L21/6719

Abstract: 본 발명은 도포 현상장치 및 그 방법에 관한 것으로서 처리 블럭 (S2)에 도포막 형성용의 단위 블럭인 TCT층 (B3) ; COT층 (B4); BCT층 (B5)와 현상 처리용의 단위 블럭인 DEV층 (B1; B2)를 서로 적층하여 설치한다. 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 경우에 있어서도 TCT층 (B3); COT층 (B4) ; BCT층 (B5) 중 사용하는 단위 블럭을 선택함으로써 대응할 수 있고 이 때 반송 프로그램의 복잡화를 억제하여 소프트웨어의 간이화를 도모할 수 있다.
레지스트막 형성용의 단위 블럭과 반사 방지막 형성용의 단위 블럭을 적층해 설치하는 것으로 레지스트막의 상하에 반사 방지막을 형성하는 것에 있어 공간절약화를 도모하는 것과 또 반사 방지막을 형성하는 경우 하지 않는 경우의 어느 것에도 대응하는 것이 가능하고 이 때 소프트웨어의 간이화를 도모하는 기술을 제공한다.

Abstract translation: 本发明涉及一种涂布显影装置及其方法，其包括作为用于在处理块（S2）上形成涂膜的单位块的TCT层（B3）; COT层B4; 作为用于显影处理的单位块的BCT层B5和DEV层B1（B2）彼此堆叠。 在TCT层B3中也包括形成防反射膜的情况和未形成防反射膜的情况; COT层B4; 通过选择在BCT层（B5）中使用的单位块响应，并且抑制传输程序的复杂性时，它能够实现软件的简化。

公开(公告)号：KR2020130001222U

公开(公告)日：2013-02-25

申请号：KR2020120006034

申请日：2012-07-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이치 ,  오오조노아키라 ,  가나가와고우조우

IPC: B01D46/52 ,  B01D46/42 ,  H01L21/677

CPC classification number: B01D46/522 ,  B01D46/4227 ,  H01L21/67739

Abstract: 본 고안은, 도포 처리를 행하는 복수 개의 처리 유닛에 청정한 기체를 균일하게 유하시킬 수 있는 공통의 필터 엘리먼트를 포함하는 공기 청정용 필터 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
기판에 액 처리를 실시하는 액 처리컵을 복수 개 구비하는 액 처리 유닛의 상부로부터 아래쪽에 위치하는 적어도 상기 복수 개의 처리컵의 면에 대하여 균일한 기류를 유하시키기 위한 필터 엘리먼트를 포함하는 공기 청정용 필터 장치로서, 여과 기재를 플리츠 가공하고, 보형 부재에 의해 플리츠 형상이 유지되는 필터 엘리먼트(10)와, 적어도 상기 여과 기재의 상면의 여과전 기체가 통과하는 여과 영역에 피착되는 합성수지제의 부직포 시트(52)와, 부직포 시트의 상측을 눌러 고정하는 라스망 부재(53)를 구비한다.

公开(公告)号：KR101092065B1

公开(公告)日：2011-12-12

申请号：KR1020060050415

申请日：2006-06-05

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시다야스시 ,  하야시신이치 ,  하라요시타카

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/67276 ,  H01L21/67288 ,  Y10S414/135

Abstract: 본발명은기판처리시스템및 기판처리방법에관한것으로서복수의기판(W)에대해복수의공정에걸쳐서매엽식으로처리를실시함과동시에연속하는처리공정에있어서각각의처리를실시하는모듈을복수구비하는기판처리시스템으로서반송원의모듈로부터반송처의모듈에상기기판(W)을반송하는기판반송수단(A4)과반송원과반송처의모듈할당방법을결정한적어도 2개의반송모드의어느쪽인가에근거를두어상기기판반송수단(A4)을제어하는제어수단(6)을구비하고상기제어수단(6)은상기기판의처리공정중에 있어서상기반송모드의변경명령을수취하면실행중의반송모드로부터다른반송모드로절환하고절환한반송모드에근거해상기기판반송수단(A4)에기판을반송시켜복수의기판에대해복수의공정에걸쳐서매엽식으로처리를실시함과동시에연속하는처리공정에있어서각각의처리를실시하는모듈을복수구비하는기판처리시스템에있어서, 기판에불량한곳이생겼을때에그 원인이되는어려움을가지는처리장치를용이하게특정할수 있고또한기판의처리매수가많은경우에수율의저하를억제할수 있는기판처리시스템및 기판처리방법의기술을제공한다.

公开(公告)号：KR101088541B1

公开(公告)日：2011-12-05

申请号：KR1020060083557

申请日：2006-08-31

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠오카테츠오 ,  아키모토마사미 ,  키타노타카히로 ,  키무라요시오 ,  하야시신이치 ,  이토우히카루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: C30B33/02 ,  C30B35/00 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67748

Abstract: 본 발명은 가열장치 및 도포, 현상장치에 관한 것으로서 가열 장치 (2)는 프레임체 (20)과 프레임체 (20)내에 설치되어 기판인 웨이퍼 (W)를 가열 처리함과 동시에 한쪽측이 웨이퍼 (W)를 반입출 하기 위해서 개구하는 편평한 가열실 (4)와 상기 웨이퍼 (W)를 윗쪽측 및 아래쪽측으로부터 가열하도록 상기 가열실 (4)에 설치된 열판 (44,45)를 구비하고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 가열실 (4)의 개구 측에 인접하도록 열판 (44,45)로 가열된 웨이퍼 (W)를 냉각하기 위한 냉각 플레이트 (3)이 설치되고 있다. 상기 프레임체 (20)내에 상기 웨이퍼 (W)를 냉각 플레이트 (3)의 윗쪽측의 위치와 가열실 (4)의 내부의 사이에 반송하고 상기 가열실 (4)내에서 웨이퍼 (W)를 보지한 상태로 기판의 가열 처리를 행하기 위한 반송 수단이 설치되고 있는 기술을 제공한다.