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公开(公告)号：KR100223023B1
公开(公告)日：1999-10-01
申请号：KR1019960034589
申请日：1996-08-21
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F1/22 , G03F7/707 , G03F7/70866 , G21K5/08
Abstract: 본 발명은 마스크(mask) 패턴(pattern)에 X-선을 노광(exposure)시켜 그 마스크 패턴에 해당하는 형상(image)을 웨이퍼(wafer) 위에 전사(transfer)할 때 사용하는 X-선 마스크(X-ray mask)에 관한 것이다.
즉, 마스크 기판(mask substrate)과 지지 링(support ring)과의 열팽창 계수(coefficient of thermal expansion) 차이에 의한 마스크의 열적 변형(thermal distortion)을 근본적으로 제거하고, 외부의 기계적 스트레스(mechanical stress)에 대한 지지링의 저항(resistance) 능력을 향상시키기 위해 지지링의 이면(the other side)에 마스크 기판과 동일한 재료로 구성되고, 마스크 기판과 동일한 공정 과정을 거친 변형 방지용 보조기판(supporting substrate to protect distortion)을 추가로 부착하여 구성한 X-선 마스크에 관한 것이다.-
公开(公告)号：KR100170476B1
公开(公告)日：1999-05-01
申请号：KR1019950052657
申请日：1995-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B27/00
Abstract: 본 발명은 모아레 무늬를 이용한 광학계 성능 측정장치 및 측정방법에 관한 것이다.
본 발명의 광학계 성능 측정장치는 기준격자(1)와, 시편격자(2)와, 조명광원(3)과, 광검출기(5)와, 로타리 스테이지(6)를 포함한다.
아울러, 본 발명의 광학계 성능 측정방법은, 광학계의 상 위치에 기준격자(1)을 광축에 수직되게 위치시키는 단계; 시편격자(2)를 광학계(4)의 물체위치에 위치시키는 단계; 조명광원(3)을 비추어 시편격자(2)가 광학계(4)에 의해 상 위치에 결상되게 하여 결상된 시편격자(2)의 상과 기준격자(1)에 의해 모아레무늬를 생성하는 단계; 상기한 모아레무늬의 강도분포를 광검출기(5)를 이용하여 측정하는 단계; 기준격자(1)가 놓인 로타리 스테이지(6)를 이동하면서 각 지점에서의 모아레무늬의 밝은 부분 강도와 어두운 부분의 강도를 측정하여 모아레무늬에 대한 강도분포의 차이가 최대인 지점을 찾는 단계를 포함한다.-
公开(公告)号：KR1019990025513A
公开(公告)日：1999-04-06
申请号：KR1019970047178
申请日：1997-09-12
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: G02B27/00
Abstract: 본 발명은 광학계의 광축 틀어짐 검지 장치에 관한 것으로, 조립된 광학계 및 광학계를 구성하는 각 광학부품의 광축이 전체 광학계의 기준 광축에 대해 어느 정도 틀어져 있는지 그 틀어진 정도를 간편하고 정확하게 측정하는 장치에 관한 것이다.
종래의 광학계 광축 틀어짐 검지 방법으로는 광학계를 구성하는 부품의 수가 많을 경우 각 광학부품들이 얼마만한 광축 틀어짐을 발생시키는지 구분하기 어렵고 단지 오차가 있다는 것만을 알 수 있을 뿐아니라 상당량의 누적오차가 발생하는 단점이 있다.
따라서 본 발명에서는 입사된 광선과 같은 경로로 반사시킬 수 있는 코너 큐브 프리즘을 사용하여 돌아오는 광선의 위치 이동량을 정밀히 측정할 수 있는 광학계 광축 틀어짐 검지 장치를 제시한다.-
公开(公告)号：KR100170483B1
公开(公告)日：1999-03-30
申请号：KR1019950050526
申请日：1995-12-15
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/321
Abstract: 본 발명은 플레이튼에 슬러리 공급장치가 내설된 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.
본 발명의 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치는 웨이퍼(2)를 장착하기 위한 웨이퍼 캐리어(1)와, 상단에 복수개의 슬러리 공급구(5)가 형성된 연마 패드(4)가 장착되고, 웨이퍼(2)의 연마시 웨이퍼(2)의 일부가 플레이튼(3)의 외부로 노출되도록 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와 비동축상으로 플레이튼 회전축(13) 상에 부설되며, 복수개의 슬러리 공급구(5)가 관통형성되고, 하부에는 원통상으로 슬러리(12)가 충진되는 슬러리 탱크(9)가 연설되며, 전기한 슬러리 탱크(9) 하단의 플레이튼 회전축(13) 내부에는 슬러리 탱크(9) 내의 슬러리(12)를 전기한 슬러리 공급구(5)를 통해 연마 패드(4) 상에 공급하기 위한 피스톤(10)이 내설되어, 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와의 회전에 의해 웨이퍼(2)를 연마하는 플레이튼(3)이 포함되어 구성된 것을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR100170594B1
公开(公告)日：1999-03-20
申请号：KR1019960017848
申请日：1996-05-25
Applicant: 한국전자통신연구원
CPC classification number: G03F7/70691 , G21K1/10
Abstract: 본 발명은 마스크용 글래스 링 구조에 관한 것으로서, 종래 글래스 링 구조를 개선한 것이다.
즉, 본 발명은 종래의 글래스 링의 기능 및 역할을 크게 저하시키지 않으면서도 글래스 링과 실리콘 웨이퍼 뒷면과의 접촉면적을 적절히 축소 조절하여, 멤브레인의 편평도 및 OPD(Out-of-Plane Distortion)/IPD(In-Plane Distortion) 특성을 크게 개선시킬 수 있도록 한 것이다.
그 글래스 링의 구조는 실리콘 웨이퍼 뒷면과 접착부위 면적을 달리하기 위하여 실리콘 웨이퍼 외경 보다 작은 임의의 크기의 외경 및 이에 상응하는 임의의 내경 크기를 갖고서 마스크를 지지하도록 구성된 것이다.
또 다른 글래스 링의 구조는 여러 구조물 또는 여러 조각으로 구성할 수가 있고, 또한 글래스 링 표면에 글래스 링과 웨이퍼 뒷면과의 접촉면적을 고의로 축소하기 위해 소정 형태의 돌기들을 형성할 수 있는 구조로 된 것이다.-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR1019980050456A
公开(公告)日：1998-09-15
申请号：KR1019960069279
申请日：1996-12-20
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/66
Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치 및 측정방법
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
간섭계 전체의 크기에 대해서 소형화 및 구조의 단순화가 가능하며, 웨이퍼의 표면의 넓은 측정 영역에 걸쳐 높은 정밀도로 초점을 측정 및 웨이퍼의 수직 방향의 미소 이동 거리를 측정할 수 있는 반도체 레이저 간섭계를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하고자 함.
3. 발명이 해결 방법의 요지
레이저 광을 발생하는 반도체 레이저(101); 상기 반도체 레이저에서 방출된 광을 단면이 원형인 평면파로 변환시키는 광 정형수단(103);상기 광 정형수단을 통과한 광이 상기 레이저로의 귀환을 차단하는 광분리수단(104); 상기 광분리수단으로부터 입사된 광의 편광 직교 성분에 따라 반사 또는 투과시키는 편광 빔스플릿터(105); 상기 편광 빔스플릿터를 투과한 광을 소정 주파수만큼 변조하는 음향광학변조수단(107); 상기 음향광학변조수단를 소정 주파수로 구동하는 신호발생수단(109); 상기 편광 빔스플릿터를 통과하여 상기 음향광학변조수단에서 변조된 광 및 상기 편광 빔스플릿터에서 반사된 광을 검출하는 광검출수단(110); 및 상기 광검출수단(110)의 신호와 상기 신호발생수단(109)의 신호가 입력되어 비교되는 위상비교수단(113)을 포함하여 이루어진 반도체 레이저를 이용한 웨이퍼 자동 초점 측정장치를 제공하며, 상기 장치를 이용한 측정방법에 있어서,반도체 레이저로부터 방출된 레이저 광을 원형 단면의 평면파로 바꾸는 광정형 단계;상기 평면파 레이저 광을 기준 거울로 반사시키고, 상기 음향광학소자로 투과시키는 빔스플릿터 단계; 상기 투과된 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 소정 주파수로 변조하는 제1변조단계; 일차 변조된 레이저 광을 웨이퍼에 조사하는 단계; 웨이퍼에 조사된 후, 반사되어 되돌아온 레이저 광을 상기 음향광학소자를 통해 다시 변조하는 제2변조단계; 상기 기준 거울에 반사되어 돌아온 기준 신호광과 상기 제2변조단계를 통해 돌아온 신호광을 검출하는 광검출 단계; 및 상기 광검출 단계에서 검출된 신호와 음향광학소자를 구동하는 신호 발생기의 신호의 위상을 상호 비교하는 단계를 포함하여 이루어진 초점 측정방법을 제공함.
4. 발명의 중요한 용도
반도체 노광장비에 적용되어, 웨이퍼 초점 신호의 측정 정밀도를 향상시키고 넓은 측정 범위에서도 동작이 가능하며, 간단한 구조를 가지며, 소형화된 자동 초점장치를 간단하게 구성할 수 있는 효과가 있다.-
公开(公告)号：KR1019980020555A
公开(公告)日：1998-06-25
申请号：KR1019960039064
申请日：1996-09-10
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/205
Abstract: 본 발명은 스퍼터링 공정을 이용한 진공 소자의 구조 및 제조 방법에 관한 것으로, 등방성 및 이방성 식각법으로 실리콘 필라를 형성하여 방출 전극을 형성하고 게이트 절연막을 형성한 후 게이트 전극을 스퍼터링법을 이용하여 형성함으로써 게이트 전극이 방출 전극에 쉽게 인접할 수 있게 형성되고, 방출 전극과 게이트 전극간의 거리를 쉽게 조절할 수 있을 뿐 아니라 게이트 전극과 방출 전극간의 간격을 조절하면 원하는 저전압의 구동을 실현할 수 있고, 반도체 공정을 이용하므로 균일하고 안정된 진공소자를 제작할 수 있는 진공 소자의 구조 및 제조방법이 개시된다.
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公开(公告)号：KR100138853B1
公开(公告)日：1998-06-01
申请号：KR1019940028804
申请日：1994-11-03
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/265 , H01L21/31
Abstract: 본 발명은 반도체 초고집적회로(ULSI)의 제조공정에서 금속층간 절연막(IMD; inter metal dielelectric)으로 SOG(spin-on glass)를 사용하는 반도체 장치의 제조방법에 관한 것으로서, 특히 플라즈마 방법을 이용하여 양질의 SOG 박막을 형성시킬 수 있는 경화(curing) 방법에 관한 것이다.
본 발명은 절연막으로 SOG(Spin-On Glass)를 사용하는 반도체 장치의 제조방법에 있어서, SOG의 경화처리(curing)를 플라즈마 방법, 또는 기존의 열처리 방법과 병하여 수행함으로써, SOG막 내에 잔류하는 Si-OH 결합 및 휘발성 유기물과 H
2 O를 제거한다.-
公开(公告)号：KR100135039B1
公开(公告)日：1998-04-20
申请号：KR1019940019491
申请日：1994-08-08
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/027
Abstract: T자형 게이트를 갖는 전계효과트랜지스터(field effect transistor)의 게이트 전극을 형성하기 위한 본 발명의 포토마스크는 투명한 석영층과, 이 투명한 석영층의 한 표면 위에 형성되어서 T-게이트의 다리 부위의 패턴닝을 위한 주 패턴과, 주 패턴 주위에 배치되어서 T-게이트의 머리 부위의 선폭 변화를 조절하기 위한 한개 이상의 보조 패턴을 포함하는, 주 패턴과 보조 패턴은 불투명막으로 형성되는, 하부의 마스크층(1)과; 하부의 마스크층(1)의 다른 한 표면 위에 형성되고, 투명한 막으로 규칙적으로 형성되는 복수의 위상 격자(phase grating) 패턴들을 갖는 상부의 마스크층(2)으로 구성된다.
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公开(公告)号：KR1019970052966A
公开(公告)日：1997-07-29
申请号：KR1019950050526
申请日：1995-12-15
Applicant: 한국전자통신연구원
IPC: H01L21/321
Abstract: 본 발명은 플레이튼에 슬러리 공급장치가 내설된 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치에 관한 것이다.
본 발명의 화학적 기계적 웨이퍼 연마장치는 웨이퍼(2)를 장착하기 위한 웨이퍼 캐리어(1)와, 상단에 복수개의 슬러리 공급구(5)가 형성된 연마 패드(4)가 장착되고, 웨이퍼(2)의 연마시 웨이퍼(2)의 일부가 플레이튼(3)의 외부로 노출되도록 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와 비동축상으로 플레이튼 회전축(13) 상에 부설되며, 복수개의 슬러리 공급구(5)가 관통형성되고, 하부에는 원통상으로 슬러리(12)가 충진되는 슬러리 탱크(9)가 연설되며, 전기한 슬러리 탱크(9) 하단의 플레이튼 회전축(13) 내부에는 슬러리 탱크(9) 내의 슬러리(12)를 전기한 슬러리 공급구(5)를 통해 연마 패드(4) 상에 공급하기 위한 피스톤(10)이 내설되어, 상기한 웨이퍼 캐리어(1)와의 회전에 의해 웨이퍼(2)를 연마하는 플레이튼(3)이 포함되어 구성된 것을 특징으로 한다.
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