公开(公告)号：KR101466421B1

公开(公告)日：2014-12-11

申请号：KR1020100006070

申请日：2010-01-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  데라다가즈오

IPC: H01L21/677 ,  B65G49/07 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67057 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67346 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742

Abstract: 본발명은패턴붕괴의발생을억제하고, 간소한구성을갖는기판반송장치등을제공한다. 기판반송장치의반송트레이(50)는기판을유지하는바닥판(511, 521)과, 그주위에설치된둘레측벽(512, 522)으로구성되며, 바닥판(511, 521)에는기판의전달상대인승강부재가통과하기위한개구부(53)가설치되어있다. 또한반송트레이(50)에는, 개구부(53) 내의승강부재를반송트레이(50)의외측으로통과시키는공간(54)이일시적으로형성되고, 기판의반송시에는반송트레이(50) 내에액체가저류(貯留)되며, 기판의상면측이그 액체에접한상태로기판을반송한다.

公开(公告)号：KR1020140086885A

公开(公告)日：2014-07-08

申请号：KR1020130164205

申请日：2013-12-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017 ,  B05C11/1042

Abstract: The purpose of the present invention is to improve the temperature control performance of a temperature control solution when the temperature control solution is supplied onto the second surface of a substrate and a process solution is supplied to the first surface of the substrate in order to process the substrate. A substrate processing apparatus comprises a substrate maintaining part (10), a process solution nozzle (44) which supplies a process solution onto the first surface of a substrate (W) having a pattern, and a temperature control solution nozzle (54A) which supplies a temperature control solution as a mixed solution which includes DI water and an organic solvent which is well mixed with the DI water and has lower surface tension compared to that of the DI water, onto the second surface facing the first surface of the substrate.

Abstract translation: 本发明的目的是提高温度控制溶液在将温度控制溶液提供到基板的第二表面上时的温度控制性能，并将工艺溶液供应到基板的第一表面，以便处理 基质。 基板处理装置包括基板保持部（10），将处理液供给到具有图案的基板（W）的第一面上的处理液喷嘴（44）和供给 作为混合溶液的温度控制溶液，其包括DI水和与DI水充分混合并且与DI水相比具有较低表面张力的有机溶剂施加到面向基材的第一表面的第二表面上。

公开(公告)号：KR1020140070401A

公开(公告)日：2014-06-10

申请号：KR1020130143653

申请日：2013-11-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 미츠오카가즈유키 ,  유겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키 ,  이나도미히로아키

IPC: H01L21/304 ,  H01L21/67

CPC classification number: B23H7/02 ,  B23H1/00 ,  B23H9/006 ,  H01L21/67126 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/67772

Abstract: The purpose of the present invention is to provide a high-pressure container which can form a process space having high cleanliness. A high-pressure container for performing a process using high pressure fluid on a substrate forms a hollow part by processing one surface except the widest surface of a flat rectangular parallelepiped block (5) made of metal. A container body is formed by forming a rare metal plating (7) on the inner wall surface facing the hollow part. When the hollow part functions as a through hole, a cover for opening/closing the hollow part is installed on one surface of the through hole. A second block for sealing the hollow part is installed on the other surface.

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够形成具有高清洁度的工艺空间的高压容器。 用于在基板上进行使用高压流体的工序的高压容器通过加工由金属制成的扁平长方体块（5）的最宽表面以外的一个表面而形成中空部。 通过在面向中空部的内壁面上形成稀有金属电镀（7）而形成容器主体。 当中空部分用作通孔时，用于打开/关闭中空部分的盖安装在通孔的一个表面上。 用于密封中空部分的第二块安装在另一个表面上。

公开(公告)号：KR1020140011269A

公开(公告)日：2014-01-28

申请号：KR1020130082873

申请日：2013-07-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시히데카즈 ,  사토요헤이 ,  오쿠치히사히 ,  도미타히로시 ,  미츠오카가즈유키 ,  요우겐 ,  오노히로키 ,  오리이다케히코 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02101 ,  B08B7/0021 ,  H01L21/02041 ,  H01L21/02057 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67109

Abstract: The purpose of the present invention is to provide a substrate processing method etc. capable of suppressing the volatilization of a fluorine-containing organic solvent for dry prevention until a substrate is carried into a processing container, and the decomposition of the fluorine-containing organic solvent within the processing container. A substrate (W) in which the surface is covered by a first fluorine-containing organic solvent is carried into a processing container (31). A high pressure fluid made of a second fluorine-containing organic solvent in which the boiling point is lower than the first fluorine-containing organic solvent is provided to the processing container (31). A high pressure fluid condition of a compound of the first and second fluorine-containing organic solvents is formed within the processing container (31). The first fluorine-containing organic solvent which covers the surface of the substrate is removed. A dried substrate (W) is obtained by discharging the fluid within the processing container (31) as the state of the high pressure fluid or gas. [Reference numerals] (321) Feeding unit; (5) Control unit

Abstract translation: 本发明的目的是提供一种能够抑制用于干燥的含氟有机溶剂的挥发直到基材被运送到处理容器中的基板处理方法等，并且含氟有机溶剂的分解 在处理容器内。 表面被第一含氟有机溶剂覆盖的基板（W）被携带到处理容器（31）中。 将由沸点低于第一含氟有机溶剂的第二含氟有机溶剂制成的高压流体提供给处理容器（31）。 第一和第二含氟有机溶剂的化合物的高压流体状态形成在处理容器（31）内。 除去覆盖基材表面的第一含氟有机溶剂。 通过将处理容器（31）内的流体作为高压流体或气体的状态排出来获得干燥的基材（W）。 （附图标记）（321）进给单元; （5）控制单元

公开(公告)号：KR101229694B1

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：KR1020107022571

申请日：2009-02-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  도시마다카유키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304 ,  H05B3/40

CPC classification number: H05B3/0052 ,  H05B2203/021 ,  H05B2203/022

Abstract: 유체 가열기(20)는, 가열 대상의 유체가 흐르는 유로관(26)과, 유로관(26)을 가열하는 가열부(23)를 구비하고 있다. 유로관(26)의 내부에는, 하나 또는 복수의 충전재(30)가 마련되어 있다. 기판 처리 장치(60)는, 휘발성을 갖는 유기 용제의 액체를 공급하는 공급원(92)과, 공급원(92)에 의해 공급되는 유기 용제의 액체를 가열하여 유기 용제의 증기를 생성하는 상술한 유체 가열기(20)와, 기판(W)을 수용하고, 이 수용된 기판(W)의 건조를 행하는 챔버(65)이며, 유체 가열기(20)에 의해 생성된 유기 용제의 증기가 공급되는 챔버(65)를 구비하고 있다.

公开(公告)号：KR101124049B1

公开(公告)日：2012-03-26

申请号：KR1020077025994

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.

Abstract translation: 本发明是用于清洁和干燥基板的基板处理装置，例如一个半导体晶片，并通过浸渍在存储净的基板进行处理的液处理单元，干燥部，其得出的液体处理部的顶部干燥所述基材，所述液体处理和干燥 和处理部分之间的基板传送的基板传送装置，其中包括水蒸汽或雾和蒸气或纯流体供应的挥发性有机溶剂的雾的混合流体被供给到干燥部的装置和用于控制流体混合物的供给的控制部 它包括。

公开(公告)号：KR101019445B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037458

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728 ,  Y10S134/902

Abstract: 액 처리 장치는 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸며, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 적어도 기판의 표면에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵으로부터 외부로 배기 및 배액하는 배기·배액부와, 표면이 기판 표면과 대략 연속하도록 기판의 외측에 설치되고, 기판 유지부 및 회전 컵과 함께 회전하며, 기판 표면에 공급되어 기판으로부터 털어진 처리액을 그 표면을 통해 회전 컵으로부터 배기·배액부에 안내하는 안내 부재를 구비한다.

公开(公告)号：KR101019444B1

公开(公告)日：2011-03-07

申请号：KR1020070037375

申请日：2007-04-17

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아키모토마사미 ,  도시마다카유키 ,  가네코사토시 ,  마츠모토가즈히사 ,  이토노리히로 ,  난바히로미츠

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67051 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/68728

Abstract: 본 발명의 액 처리 장치는, 기판을 수평으로 유지하고, 기판과 함께 회전 가능한 기판 유지부와, 기판 유지부에 유지된 기판을 둘러싸고, 기판과 함께 회전 가능한 회전 컵과, 회전 컵 및 기판 유지부를 일체적으로 회전시키는 회전 기구와, 기판에 처리액을 공급하는 액 공급 기구와, 회전 컵의 배기 및 배액을 행하는 배기·배액부를 포함한다. 배기·배액부는 주로 기판으로부터 털어진 처리액을 받아들여 배액하는 환형을 이루는 배액 컵과, 배액 컵의 외측을 둘러싸도록 설치되며, 회전 컵 및 그 주위로부터의 주로 기체 성분을 받아들여 배기하는 배기 컵을 포함하며, 배액 컵으로부터의 배액과 배기 컵으로부터의 배기를 독립적으로 실행한다.

Abstract translation: 本发明的液体处理装置中，水平地保持基板，并旋转基板支架成为可能，通过所述衬底保持器，可旋转的旋转杯保持的基板周围，并与所述基板与所述基板部保持旋转杯以及基板一起一起 用于将处理液供应到基板的液体供应机构以及用于执行旋转杯的排出和排出的排出和分配部。 排气＆middot;排水单元和排水杯主要形成环形排水从衬底接受处理液二进制断，它被设置成围绕排液杯的外侧，旋转杯以及从周围排气排气接受一个主要气体组分 杯子与排水杯和排气杯分开分配。

公开(公告)号：KR1020100081925A

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：KR1020090130685

申请日：2009-12-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  데라다가즈오

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/02101

Abstract: PURPOSE: A supercritical processing apparatus, a substrate processing system, and a supercritical processing method are provided to improve throughput by rapidly raise the temperature of a processing fluid without on and off state of a heating unit. CONSTITUTION: A carrier(C) in which a plurality of wafers(W) is loaded is arranged on a carrier loading part(11). A transferring part(12) pulls a wafer from the carrier, and a conveying part(13) conveys the wafer into a liquid processing system. In the liquid processing system, the wafer is successively transferred through a liquid processing machine(2) and a supercritical processing apparatus(3).

Abstract translation: 目的：提供超临界处理装置，基板处理系统和超临界处理方法，通过在加热单元的开和关状态下快速提高处理流体的温度来提高生产量。 构成：其中装载有多个晶片（W）的载体（C）布置在载体装载部分（11）上。 转印部分（12）从载体上拉晶片，并且输送部分（13）将晶片输送到液体处理系统中。 在液体处理系统中，晶片依次通过液体处理机（2）和超临界处理装置（3）传送。

公开(公告)号：KR100588927B1

公开(公告)日：2006-06-09

申请号：KR1020010012577

申请日：2001-03-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 도시마다카유키 ,  오리이다케히코

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/322 ,  Y10S134/902

Abstract: 현상처리시에 현상액과 현상액보다 비중이 작은 용액이 교반되어 이루어지는 혼합액을 기판의 표면에 공급하여 일정시간 동안 방치한다. 혼합액이 하층은 현상액, 상층은 용액인 2층으로 분리된 뒤에, 현상이 기판의 표면 전체에서 일괄적으로 이루어진다. 이렇게 함으로써 기판 표면 내에서 현상시작의 시간 차이가 발생하지 않고 균일하게 현상할 수 있어 기판 표면 내의 레지스트 패턴막의 선폭 균일성을 향상시킬 수 있다.

Abstract translation: 在显影处理中搅拌显影液和比重小于显影液比重的溶液的混合液供给基板表面并放置预定时间。 混合溶液被分成两层，下层是显影剂，上层是溶液，然后在基板的整个表面上集中进行显影。 通过这样做，可以均匀地显影基板的表面而不引起显影开始与基板表面中的抗蚀剂图案膜的线宽的均匀性之间的时间差。