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公开(公告)号:KR1019940010225A
公开(公告)日:1994-05-24
申请号:KR1019930020311
申请日:1993-10-02
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor: 아키모토마사미
IPC: H01L21/304
Abstract: 반도체 웨이퍼의 이면을 세정하는 장치는, 주면이 상향이면서 또한 실질적으로 수평으로 되도록 웨이퍼를 끼워 지지하여 유지하기 위한 1쌍의 홀더를 구비한다. 홀더는 수평방향에 있어서 상대적으로 접근, 이반이동가능함과 함께, 승강가능하도록 되어 있다. 홀더에 유지된 상태의 웨이퍼의 이면에는 회전브러쉬가 접촉한다. 회전브러쉬는. 그 자신의 축주위에서 자전구동함과 함께, 웨이퍼의 실질적인 중심을 축으로 공전구동된다. 회전브러쉬의 샤프트에는 플렉시블관이 접속되고, 플렉시블관을 통하여 세정수인 순수한 물과, 200℃정도로 가열된 건조용의 질소가스가 선택적으로 웨이퍼의 이면에 공급된다. 또한, 웨이퍼의 주면에는, 웨이퍼의 이면으로부터의 비상물이, 주면에 이르는 것을 방지하는 배리어 가스로서 청정한 질소가스가 공급된다.
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公开(公告)号:KR1019930020596A
公开(公告)日:1993-10-20
申请号:KR1019930003225
申请日:1993-03-04
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 복수의 웨이퍼를 세정하는 세정장치에 사용되는 처리조이다. 처리조는, 세정액공급원과, 순환펌프와, 필터와, 입구를 바닥부에 가지는 주조와, 복수의 웨이퍼를 주조의 중앙영역에 유지하는 보우트와, 입구와 기판의 사이에 형성된 정류어셈블리를 구비하고 있다. 정류어셈블리는, 상기 입구로부터의 세정액을 수평방향으로 분산시키는 분산판과, 입구로 부터 유입된 세정액을 실질적으로 층류로 하고, 층류화한 세정액을 주조의 중앙영역으로 유도하는 유도유로를 가진다. 유도유로는, 분산판 및 측면판의 상호간극, 또는 분산판의 다수의 구멍에 의하여 형성된다. 이와같은 유도유로에 의하여 웨이퍼의 상호간 공간에 세정액의 대부분을 저극적으로 통하여 흐르게 한다. 또한, 정류어셈블리는, 웨이퍼의 주변 영역에 흐르는 세정액의 양을 억제하기위한 유량억제부를 가진다.
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公开(公告)号:KR1019930018700A
公开(公告)日:1993-09-22
申请号:KR1019930001597
申请日:1993-02-05
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 웨이퍼에 레지스트를 도포·현상하는 장치는, 웨이퍼를 수용하는 여러개의 캐리어 및 받아 건내는 대가 배설된 캐리어 스테이숀과, 여러 개의 처리 유니트를 가지는 처리부와, 상기 캐리어 스테이숀과 처리부 사이에서 배설된 반송 로보트를 구비한다. 상기 로보트는 상기 캐리어와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 1개의 판형상 아암과, 상기 처리 유니트와 상기 받아 건내는 대 사이에서 웨이퍼를 반송하는 2개의 말굽형 포크를 구비한다. 상기 로보트는, 아암 및 포크를 상기 캐리어, 처리 유니트, 및 받아 건내는 대와 대향시키도록 반송로를 따라서 이동가능하게 되어 있다.
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公开(公告)号:KR1019930005156A
公开(公告)日:1993-03-23
申请号:KR1019920015418
申请日:1992-08-26
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR1019920022412A
公开(公告)日:1992-12-19
申请号:KR1019920007937
申请日:1992-05-08
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/304
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR1019920020657A
公开(公告)日:1992-11-21
申请号:KR1019920006612
申请日:1992-04-20
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/68
Abstract: 내용 없음
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公开(公告)号:KR1019920010781A
公开(公告)日:1992-06-27
申请号:KR1019910020980
申请日:1991-11-22
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
Inventor: 가미가와유우지
IPC: H01L21/304
Abstract: 내용 없음
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公开(公告)号:KR1019910003772A
公开(公告)日:1991-02-28
申请号:KR1019900010255
申请日:1990-07-06
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/47
Abstract: 내용 없음.
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公开(公告)号:KR1019910001952A
公开(公告)日:1991-01-31
申请号:KR1019900008898
申请日:1990-06-16
Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 , 도오교오에레구토론큐우슈우가부시끼가이샤
IPC: H01L21/20
Abstract: 내용 없음
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