デバイス実装構造およびデバイス実装方法
    74.
    发明申请
    デバイス実装構造およびデバイス実装方法 审中-公开
    器件安装结构和器件安装方法

    公开(公告)号:WO2011048858A1

    公开(公告)日:2011-04-28

    申请号:PCT/JP2010/063011

    申请日:2010-08-02

    Abstract:  基板と、この基板の一方の主面である第1主面から他方の主面である第2主面に向けて前記基板を貫通する複数の貫通孔の内部に形成された複数の貫通配線とを有する貫通配線基板と;複数の電極を有してかつ、これら電極が前記第1主面に対向するように配置された第1のデバイスと;この第1のデバイスの各電極の配置とは配置が異なる複数の電極を有してかつ、これら電極が前記第2主面に対向するように配置された第2のデバイスと;を備えたデバイス実装構造であって、前記各貫通配線は、前記第1主面の、前記第1のデバイスの電極に対応する位置に設けられた第1の導通部と、前記第2主面の、前記第2のデバイスの電極に対応する位置に設けられた第2の導通部とを有し、前記第1のデバイスの各電極は、前記第1の導通部に電気的に接続され、前記第2のデバイスの各電極は、前記第2の導通部に電気的に接続されており、前記各貫通配線は、前記第1主面及び前記第2主面のうちの少なくとも一方から垂直に延びる直線部を有する。

    Abstract translation: 本发明公开了一种器件安装结构,其具备:贯通布线基板,其包括基板和形成在多个通孔内的多根贯通孔,所述多个贯通孔从作为所述基板的一个主面的第一主面穿过所述基板 到第二主表面,其是另一个主表面; 第一装置,其具有与上述第一主表面相对设置的多个电极; 以及第二装置,其具有与第一装置上的电极不同的布置的多个电极,并且设置成与上述第二主表面相对。 每个贯通线具有第一导电部分,设置在与第一器件上的电极对应的第一主表面上的位置处,以及第二导电部分,设置在第二主表面上对应于电极上的位置上 第二个设备。 第一器件上的每个电极电连接到第一导电部分,并且第二器件上的每个电极电连接到第二导电部分。 每个通丝还具有从第一主表面,第二主表面或两者垂直延伸的直线部分。

    METHODS FOR MAKING VERTICAL ELECTRICAL FEED THROUGH STRUCTURES
    78.
    发明申请
    METHODS FOR MAKING VERTICAL ELECTRICAL FEED THROUGH STRUCTURES 审中-公开
    通过结构制作垂直电气进给的方法

    公开(公告)号:WO2005055369A3

    公开(公告)日:2005-11-24

    申请号:PCT/US2004039394

    申请日:2004-11-22

    Abstract: Methods are provide for making vertical feed through electrical connections structure in a substrate or tile. The vertical feed through (Fig. 2, 10) can be configured to make plated through holes usable for inserting and attaching connector probes ( Fig. 2, 12). Probes may be attached to the plated through holes or attachment wells to create resilient spring contacts to form a wafer probe card assembly. A twisted tube plated through hole structure (Fig. 9D, 74) is formed by supporting twisted sacrificial wire coated with the plating material in a substrate (Fig. 9D, 79), and later etching away the wires (Fig. 9A, 74).

    Abstract translation: 提供了通过基板或瓦片中的电连接结构进行垂直馈送的方法。 垂直馈送(图2,10)可以被配置为制造可用于插入和连接连接器探头的电镀通孔(图2,12)。 探针可以附着到电镀通孔或连接孔,以产生弹性弹簧触点,以形成晶片探针卡组件。 通过将涂覆有电镀材料的扭转牺牲线支撑在基板(图9D,79)中,并且随后蚀刻掉导线(图9A,74),形成通过电镀的通孔结构(图9D,74) 。

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