Abstract:
Verfahren zur Herstellung eines Subträgers, bei dem – ein elektrisch leitfähig dotierter Wafer (1) aus Halbleitermaterial an einer Oberseite mit voneinander getrennten Gräben (2) versehen wird, – ein elektrisch isolierendes Material in die Gräben (2) eingebracht wird und – der Wafer (1) gedünnt wird, sodass aus dem Halbleitermaterial Leiterblöcke (3, 33) und aus dem elektrisch isolierenden Material Isolatorblöcke (4, 34) gebildet werden, wobei die Leiterblöcke (3, 33) durch die Isolatorblöcke (4, 34) voneinander getrennt sind, wobei – in einer Abfolge von Leiterblöcken (3) und Isolatorblöcken (4) jeder zweite Isolatorblock (4) entfernt wird, sodass Elemente gebildet werden, die jeweils zwei von einem Isolatorblock (34) voneinander getrennte Leiterblöcke (33) umfassen.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement angegeben, mit einem Träger (3), der einen ersten (1) und einen zweiten Anschlussbereich (2) aufweist, sowie mit einem strahlungsemittierenden Halbleiterchip (4), der eine Grundfläche (5) und eine der Grundfläche gegenüberliegende Strahlungsaustrittsfläche (6) aufweist, wobei der Halbleiterchip (4) mit der Grundfläche (5) auf dem Träger (3) angeordnet ist. Ferner weist das optoelektronische Bauelement ein Gehäuse (10) mit einem unteren Gehäuseteil (8), das an Seitenflanken (14) des Halbleiterchips (4) angrenzt, und einem oberen Gehäuseteil (9), das einen Reflektor (15) für die vom Halbleiterchip (4) emittierte Strahlung (16) ausbildet, auf. Eine elektrische Anschlussschicht (7) ist von der Strahlungsaustrittsfläche (6) des Halbleiterchips (4) über einen Teil der Grenzfläche (19) zwischen dem unteren (8) und dem oberen Gehäuseteil (9) und durch das untere Gehäuseteil (8) hindurch zu dem ersten Anschlussbereich (1) auf dem Träger (3) geführt.
Abstract:
Es wird ein optoelektronisches Bauelement angegeben, das eine Schutzschicht (80) umfasst, die ein Material aufweist, das hydrophobe Gruppen enthält. Weiterhin wird ein Verfahren angegeben, mit dem ein optoelektronisches Bauelement hergestellt werden kann, und bei dem eine Schutzschicht (80), die hydrophobe Gruppen aufweist, aufgebracht wird.
Abstract:
The invention relates to an optoelectronic component having the following features: - at least one semiconductor body (1) provided for emitting electromagnetic radiation of a first wavelength range, - a heat sink (2) on which the semiconductor body (1) and a mirror (3) are disposed, and - a wavelength-converting layer (4) disposed to the side of the semiconductor body (1) on the mirror (3), said layer comprising a wavelength-conversion material (8) that is suitable to convert at least a portion of the radiation of the first wavelength range emitted by the semiconductor body (1) into radiation of a second wavelength range different from the first wavelength range. The invention further relates to a decoupling lens (14) for an optoelectronic component.
Abstract:
Oberflächenmontierbares, optoelektronisches Halbleiterbauteil (1) mit- einer Montagefläche (10) an einer Bauteilunterseite,- einem um eine Ausnehmung (9) umlaufenden Gehäusegrundkörper (4), der einen Teil der Montagefläche (10) bildet,- mindestens zwei elektrischen Anschlussstücken (2a, 2b) je mit einer Anschlussstückoberseite (21) und einer dieser gegenüberliegenden Anschlussstückunterseite (20), sodass die Anschlussstückunterseiten (20) je einen Teil der Montagefläche (10) bilden und die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) den Gehäusegrundkörper (4) lateral nicht überragen, wobei die Ausnehmung (9) bis zu den elektrischen Anschlussstücken (2a, 2b) reicht,- mindestens einem Strahlung emittierenden, optoelektronischen Halbleiterchip (3), der sich in der Ausnehmung (9) befindet, über die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) elektrisch kontaktiert ist und vollständig auf der Anschlussstückoberseite (20) des größeren der elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) direkt mittels Löten oder Kleben aufgebracht ist und eine Lichtdurchtrittsfläche (30) des Halbleiterchips (3) dieser Anschlussstückoberseite (21) abgewandt ist, und- mindestens einem Abschirmkörper (5), der sich zwischen dem Halbleiterchip (3) und dem Gehäusegrundkörper (4) befindet, wobei der Abschirmkörper (5) eine vom Halbleiterchip (2) emittierte Strahlung vom Gehäusegrundkörper (4) abschirmt, wobei- in Richtung parallel zu den Anschlussstückunterseiten (20) die elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) ringsum von dem Gehäusegrundkörper (4) umgeben sind, sodass eine Gehäusegrundfläche (40) des Gehäusegrundkörpers (4) zusammen mit den Anschlussstückunterseiten (20) die Montagefläche (10) bildet und die Anschlussstückunterseiten (20) mindestens 75 % der Montagefläche (10) bilden, und- der Abschirmkörper (5) als geschlossener Ring ausgestaltet ist und in Draufsicht auf die Lichtdurchtrittsfläche (30) gesehen über jedes der elektrischen Anschlussstücke (2a, 2b) verläuft.
Abstract:
Ein optoelektronisches Bauelement weist einen Trägerkörper (3) mit einem Anschlussbereich (5) auf. Auf dem Trägerkörper (3) ist ein Halbleiterchip (7) angeordnet. Auf der vom Trägerkörper (3) abgewandten Oberfläche (8) des Halbleiterchips (7) ist ein Kontaktbereich (10) aufgebracht. Der Anschlussbereich (5) ist mit dem Kontaktbereich (10) über eine freitragende Leitungsstruktur (13) elektrisch leitend verbunden. Es wird ein Verfahren zum Herstellen eines optoelektronischen Bauelements beschrieben.
Abstract:
Es wird ein Gehäuse (1) für ein optoelektronisches Bauelement (7) angegeben, mit - einem Gehäusegrundkörper (2), der eine Ausnehmung (4) aufweist, - einer Beschichtung (3), die zumindest im Bereich der Ausnehmung (4) zumindest stellenweise mit dem Gehäusegrundkörper (2) verbunden ist und in direktem Kontakt mit dem Gehäusegrundkörper (2) steht, wobei - der Gehäusegrundkörper (2) mit einem ersten Kunststoffmaterial gebildet ist, - die Beschichtung (3) mit einem zweiten Kunststoffmaterial gebildet ist, - das erste Kunststoffmaterial vom zweiten Kunststoffmaterial verschieden ist, und - das erste Kunststoffmaterial und das zweite Kunststoffmaterial sich hinsichtlich zumindest einer der folgenden Material-Eigenschaften voneinander unterscheiden: Temperaturbeständigkeit, Beständigkeit gegenüber elektromagnetischer Strahlung.
Abstract:
Es ist ein optoelektronisches Bauelement (10) vorgesehen, dass zumindest einen Halbleiterkörper (2) mit einer Strahlungsaustrittsseite (20) aufweist. Der Halbleiterkörper (2) ist mit einer der Strahlungsaustrittsseite (20) gegenüberliegenden Seite auf einem Substrat (1) angeordnet, wobei auf der Strahlungsaustrittsseite (20) zumindest ein elektrischer Anschlussbereich (22) angeordnet ist. Auf dem elektrischen Anschlussbereich (22) ist ein Metallisierungshügel (3) angeordnet. Ferner ist der Halbleiterkörper (2) zumindest teilweise mit einer Ioslationsschicht (4) versehen, wobei der Metallisierungshügel (3) die Isolationsschicht (4) überragt. Auf der Isolationsschicht (4) ist zur planaren Kontaktierung des Halbleiterkörpers (2) zumindest eine planare Leitstruktur (5) angeordnet, die mit dem elektrischen Anschlussbereich (22) über den Metallisierungshügel (3) elektrisch leitend verbunden ist. Weiter ist ein Verfahren zur Herstellung eines derartigen optoelektronischen Bauelements (10) vorgesehen.
Abstract:
Es wird ein Verfahren zur Herstellung eines optoelektronischen Halbleiterbauteils mit den folgenden Schritten angegeben: - Bereitstellen eines Trägers (1), - Anordnen zumindest eines optoelektronischen Halbleiterchips (2) an einer Oberseite (1a) des Trägers (1), - Umformen des zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchips (2) mit einem Formkörper (3), wobei der Formkörper (3) alle Seitenflächen (2c) des zumindest einen optoelektronischen Halbleiterchips (2) bedeckt und wobei die dem Träger (1) abgewandte Oberfläche an der Oberseite (2a) oder die dem Träger zugewandte Oberfläche an der Unterseite (2b) des zumindest einen Halbleiterchips (2) frei vom Formkörper (3) bleibt oder freigelegt wird, - Entfernen des Trägers (1).