表面处理设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102844464A

    公开(公告)日:2012-12-26

    申请号:CN201180016312.6

    申请日:2011-03-17

    Abstract: 为了减小在表面处理设备中当表面处理材料流体沿着衬底的表面流动以排出时由于使用过的流体与出口通道的内壁碰撞而引起的紊流。表面处理设备(10)是其中盘状试料保持台(14)设置在构成圆筒状圆周壁的外壳(12)内的设备。设置在外壳(12)的上部中的圆筒状部分(22)构成材料流体供应通道,并且设置在外壳(12)中试料保持台(14)的横向侧上并随着气远离圆筒状部分(22)而扩展成形的通道构成流体排出通道(24)。流体排出通道(24)采用抛物线曲线等,其中,试料保持台(14)的最外圆周的上端的位置定义为焦点位置,并且与焦点位置对称的出口的上端的位置定义为基准位置。

    开关元件及其制造方法
    10.
    发明公开

    公开(公告)号:CN109755294A

    公开(公告)日:2019-05-14

    申请号:CN201811309013.1

    申请日:2018-11-05

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制电场集中并且导通电阻较低的开关元件及其制造方法。一种开关元件的制造方法,其具有:在半导体基板的上表面上形成平行地延伸的多个沟槽的工序;将具有遮挡部和开口部的掩膜,以所述遮挡部和所述开口部沿着各所述沟槽的长边方向被反复地配置在各所述沟槽上的方式而形成的工序;通过经由所述掩膜而向各所述沟槽的底面注入p型杂质,从而形成多个底部p型区域的工序。

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