公开(公告)号：KR1020140029555A

公开(公告)日：2014-03-10

申请号：KR1020147004500

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794 ,  H01L21/0273

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020130086557A

公开(公告)日：2013-08-02

申请号：KR1020130007322

申请日：2013-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  요시다유이치 ,  오카다소이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67 ,  G03F7/162 ,  H01L21/02107 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/0273 ,  B05C11/08

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus, a liquid processing method, and a storage medium are provided to prevent the rise of particle concentration by regularly cleaning a distillation tank. CONSTITUTION: An evaporating unit obtains steam by evaporating processing liquid from a processing liquid supply source. A cooling unit cools and liquefies the steam of the processing liquid from the evaporating unit. A storage tank stores the processing liquid obtained by the cooling unit. A feeding unit sends the processing liquid from the storage tank to a processing liquid nozzle. A resist nozzle (30) supplies resist solutions to the substrate. [Reference numerals] (100) Control unit; (32) Resist solution; (42) Chemical solution; (AA) Drain; (BB) Exhaust

Abstract translation: 目的：提供液体处理装置，液体处理方法和存储介质，以通过定期清洁蒸馏罐来防止颗粒浓度的升高。 构成：蒸发单元通过从处理液体供给源蒸发处理液来获得蒸汽。 冷却单元冷却并液化来自蒸发单元的处理液体的蒸汽。 存储罐存储由冷却单元获得的处理液。 进料单元将处理液体从储罐发送到处理液喷嘴。 抗蚀剂喷嘴（30）将抗蚀剂溶液供应到基底。 （附图标记）（100）控制单元; （32）抗溶液; （42）化学溶液; （AA）排水; （BB）排气

公开(公告)号：KR1020100103377A

公开(公告)日：2010-09-27

申请号：KR1020100020826

申请日：2010-03-09

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아리마히로시 ,  요시다유이치 ,  야마모토다로 ,  요시하라고우스케

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/6715 ,  G03F7/16 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051

Abstract: 본발명은현상액을기판에균일성높게공급하여수율의저하를억제할수 있는현상장치를제공하는것을목적으로한다. 표면에레지스트가도포되고, 노광된후의기판을수평으로유지하는기판유지부와, 상기기판에대한현상액의습윤성을높이기위한표면처리액을무화시키는표면처리액무화수단과, 무화된상기표면처리액을상기기판에분무하는제1 분무노즐과, 상기표면처리액이분무된기판에현상액을토출하여현상을행하기위한현상액토출노즐을구비하도록현상장치를구성한다. 무화된표면처리액은액상상태의표면처리액에비하여기판에대한표면장력이낮으므로, 기판상에서응집되는것이억제되어, 용이하게기판전체에공급할수 있어기판의습윤성을높일수 있다. 그결과로, 현상액을균일성높게기판에공급할수 있어수율의저하를억제할수 있다.

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以通过将显影溶液均匀地涂覆在基板上来抑制显影缺陷的产生。 构成：用曝光操作处理的基板（W）由基板保持单元水平地保持。 表面处理溶液雾化单元（40）使表面处理溶液雾化，以增加显影液相对于基材的润湿性。 第一喷射喷嘴（41）将雾化的表面处理溶液喷射到基底上。 开发溶液雾化单元使显影液雾化。 第二喷嘴（51）相对于基板喷射雾化的显影液。

公开(公告)号：KR102006059B1

公开(公告)日：2019-07-31

申请号：KR1020167025698

申请日：2014-02-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 바셋데렉더블유. ,  프린츠월리스피. ,  후게조슈아에스. ,  이치노가츠노리 ,  데라시타유이치 ,  요시하라고우스케

IPC: H01L21/67 ,  B05D1/00 ,  G03F7/16

公开(公告)号：KR101872056B1

公开(公告)日：2018-06-27

申请号：KR1020140130245

申请日：2014-09-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 데라시타유이치 ,  요시하라고우스케 ,  다카야나기고지 ,  후루쇼도시노부 ,  사사다카시

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/02 ,  H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67017

Abstract: 처리액을쓸데없이소비하지않고서, 처리액중의파티클의증가를효율적으로억제하는것을목적으로한다. 피처리체를처리하기위한처리액을공급하는처리액공급원과, 상기처리액공급원에공급로를통해접속되며, 상기처리액을피처리체에토출하는토출부와, 상기공급로에설치되며, 처리액중의이물을제거하기위한필터장치와, 상기공급로에있어서의필터장치의일차측및 이차측에각각설치된공급펌프및 토출펌프와, 상기처리액공급원으로부터공급된처리액을, 상기공급펌프및 토출펌프중 적어도한쪽을이용해서감압하여탈기하고, 계속해서탈기된처리액을상기공급펌프및 토출펌프를이용하여상기필터장치의일차측으로부터이 필터장치를통해이차측으로통과시키도록제어신호를출력하는제어부를구비하도록장치를구성한다.

公开(公告)号：KR101771275B1

公开(公告)日：2017-08-24

申请号：KR1020130007322

申请日：2013-01-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  요시다유이치 ,  오카다소이치로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/67 ,  G03F7/162 ,  H01L21/02107 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

Abstract: 본발명은기판에대하여처리액에의해처리함에있어서, 기판위에처리액으로부터반입되는이물의양을억제하는것을목적으로한다. 레지스트액을스핀척(20) 위의웨이퍼(W) 위에전개하기쉽게하기위해, PGMEA 등의용제를미리웨이퍼(W) 위에도포한다. 도포하기전에, 용제공급원(42)으로부터제공한용제를일단증류탱크(51)에저장한후에, 용제를가열부(53)로가열하여용제를기화시키고, 기화한용제를냉각기(60)로냉각함으로써증류에의한정제를행하여, 용제중의파티클을제거한다. 정제한용제는저류탱크(71)에일단저류한후에, 용제공급로(74)로부터스핀척(20) 위의용제노즐(40)에공급한다. 그리고용제노즐(40)로부터웨이퍼(W)에, 용제를토출하여, 용제를웨이퍼(W)에도포한다. 또한, 증류탱크(51)를정기적으로세정함으로써, 용제중의파티클농도의상승을억제한다.

Abstract translation: 本发明的目的是当用处理液处理基板时，抑制从处理液携带到基板上的水量。 为了促进旋转卡盘20上的晶圆W上的抗蚀剂溶液的显影，预先在晶圆W上涂布PGMEA等溶剂。 首先将从溶剂供应源42供应的溶剂储存在蒸馏罐51中，然后通过加热单元53加热溶剂以蒸发溶剂，并且蒸发的溶剂通过冷却器60冷却 进行蒸馏纯化以除去溶剂中的颗粒。 净化后的溶剂暂时储存在储液罐71中，然后从溶剂供应路径74供应到旋转卡盘20上的溶剂喷嘴40。 然后，溶剂从溶剂喷嘴40排出到晶片W，溶剂也包含在晶片W上。 此外，通过定期清洗蒸馏槽51，抑制了溶剂中颗粒浓度的增加。

公开(公告)号：KR101453576B1

公开(公告)日：2014-10-21

申请号：KR1020090042536

申请日：2009-05-15

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  이치노가츠노리 ,  이세키도모히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162

Abstract: 본 발명은, 기판 상에 유기 용제를 포함하는 도포액을 도포하는 도포 처리 방법으로서, 기판의 중심부에 제1 표면 장력을 갖는 처리액을 공급하는 제1 공정과, 제1 공정에서 공급된 처리액의 중심부에, 제1 표면 장력보다 낮은 제2 표면 장력을 갖는 도포액의 용제를 공급하는 제2 공정과, 기판을 회전시키면서, 제2 공정에서 공급된 용제의 중심부에 도포액을 공급하고, 처리액과 용제를 기판 상에 확산시켜 도포액을 기판 상의 전체면에 확산시키는 제3 공정을 포함한다.

公开(公告)号：KR1020130057984A

公开(公告)日：2013-06-03

申请号：KR1020127027167

申请日：2011-03-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후루쇼도시노부 ,  오오쿠보다카히로 ,  요시하라고우스케 ,  야마모토유스케 ,  호닉슈테펜

IPC: H01L21/027 ,  B05C11/10 ,  B01D35/26

CPC classification number: B05D1/02 ,  B01D29/56 ,  B01D35/02 ,  B05C9/06 ,  B05C11/10 ,  F17D1/00 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715 ,  H01L21/67173 ,  H01L21/67178 ,  Y10T137/794 ,  B01D35/26 ,  B05C11/1002 ,  H01L21/0274

Abstract: 본 발명의 약액 공급 시스템은, 약액을 저류하는 제1 용기 및 제2 용기와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제1 배관에 설치되고, 제1 용기에 저류된 약액을 제2 용기로 흘려보내는 제1 펌프와, 제1 배관에 설치되고, 제1 용기로부터 제2 용기를 향하여 제1 배관 내를 흐르는 약액을 여과하는 제1 필터와, 제1 용기와 제2 용기를 연결하는 제2 배관과, 제2 배관에 설치되고, 제2 용기에 저류된 약액을 제1 용기로 흘려보내는 제2 펌프를 구비한다.

公开(公告)号：KR1020130049732A

公开(公告)日：2013-05-14

申请号：KR1020120122979

申请日：2012-11-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고우스케 ,  후루쇼도시노부

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0022 ,  G03F7/16 ,  Y10T137/794 ,  H01L21/0273

Abstract: PURPOSE: A processing liquid supplying method, a computer storage medium, and a processing liquid supplying apparatus are provided to reduce a defect of a substrate by preventing inner foreign materials. CONSTITUTION: A resist liquid supplying source supplies resist liquid. A supply tube supplies the resist liquid from the resist liquid supplying source to a spray nozzle. A pump(104) circulates the resist liquid. A filter(105) collects and separates foreign materials from the resist liquid. A trap(106) blocks the circulation of the resist liquid.

Abstract translation: 目的：提供处理液供给方法，计算机存储介质和处理液供给装置，以通过防止内部异物来减少基板的缺陷。 构成：抗蚀剂液体供应源提供抗蚀剂液体。 供应管将抗蚀剂液体从抗蚀剂液体供应源提供给喷嘴。 泵（104）使抗蚀剂液体循环。 过滤器（105）收集并分离异物与抗蚀剂液体。 捕集器（106）阻挡抗蚀剂液体的循环。

公开(公告)号：KR1020130000340A

公开(公告)日：2013-01-02

申请号：KR1020120066003

申请日：2012-06-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 가와노히사시 ,  우에무라료우이치 ,  요시하라고우스케 ,  가사이시게루 ,  다노우치게이지 ,  무라마츠마코토 ,  이와시타미츠아키 ,  요네다마사타케 ,  오오야가즈히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H05B3/0033 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/3247

Abstract: PURPOSE: A heating treatment apparatus and a heat treating method are provided to rapidly heat a substrate by using a light emitting diode as a heating source. CONSTITUTION: A substrate(W) is horizontally supported. The substrate is heated by a heating source using a light emitting diode. Radiation light having the light emitting diode is irradiated on a substrate material. An arrangement plate(2) faces the heating source while the light emitting diode is in off state. A cooling part cools the substrate by using the arrangement plate. [Reference numerals] (a) Incoming; (A3,A2,A1) Cooling water OFF; (b) Transmitting; (BB) Cooling water ON; (c) Heating; (C1,C2,C3,C4) Elevating pin; (d) Cooling; (D1,D2) Arrangement plate; (E1,E2,E3,E4) LED module; (FF) Cooling water

Abstract translation: 目的：提供一种加热处理装置和热处理方法，通过使用发光二极管作为加热源来快速加热基板。 构成：水平支撑衬底（W）。 基板通过使用发光二极管的加热源加热。 具有发光二极管的放射线照射在基板材料上。 当发光二极管处于关闭状态时，布置板（2）面向加热源。 冷却部使用排列板冷却基板。 （附图标记）（a）传入; （A3，A2，A1）冷却水关闭; （b）传送; （BB）冷却水打开; （c）加热; （C1，C2，C3，C4）升降销; （d）冷却; （D1，D2）排列板; （E1，E2，E3，E4）LED模块; （FF）冷却水