公开(公告)号：KR101667432B1

公开(公告)日：2016-10-18

申请号：KR1020110074338

申请日：2011-07-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하야시신이찌 ,  도오끼유우이찌 ,  미야따아끼라 ,  야마모또유우이찌 ,  요시하라고오스께 ,  마쯔오까노부아끼 ,  에노끼다스구루

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/68

CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745

Abstract: 본발명의과제는도포, 현상장치의처리량의저하를억제하는동시에장치의설치면적을억제할수 있는기술을제공하는것이다. 액처리계의단위블록군과, 이단위블록군의캐리어블록측에배치된제1 가열계의블록과, 상기액처리계의단위블록군의인터페이스블록측에배치된제2 가열계의블록을구비하도록처리블록을구성하여, 액처리계의단위블록군은반사방지막및 레지스트막을형성하는전단처리용단위블록을이중화한것과, 상층막을형성하여, 노광전에세정을행하는후단처리용단위블록을이중화한것과, 현상처리를행하는단위블록을포함하도록구성하여, 제1 가열계의블록은레지스트도포후 및현상후의기판을가열하고, 제2 가열계의블록은노광후 현상전, 반사방지막형성후 및상층막형성후의각 기판을가열한다.

公开(公告)号：KR101454037B1

公开(公告)日：2014-10-27

申请号：KR1020090026165

申请日：2009-03-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  요시하라겐따로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  H01L21/6715

Abstract: 본 발명은, 기판에 레지스트액을 토출하는 도포 노즐에, 레지스트액을 공급하는 레지스트액 공급 장치이며, 내부에 레지스트액을 저류하는 레지스트액 공급원과 상기 레지스트액 공급원으로부터 상기 도포 노즐로 레지스트액을 공급하기 위한 공급관과, 상기 공급관에 있어서의 상기 레지스트액 공급원측에 설치되고, 상기 공급관 중의 레지스트액을 상온보다도 높은 소정의 온도로 가열하는 가열 수단과, 상기 공급관에 있어서의 상기 도포 노즐측에 설치되고, 상기 공급관 중의 레지스트액을 상온까지 냉각하는 냉각 수단을 갖는다.
레지스트액 공급 장치, 공급관, 히터, 온도 조절기, 웨이퍼

公开(公告)号：KR101444974B1

公开(公告)日：2014-09-26

申请号：KR1020097019105

申请日：2008-02-28

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  이세끼도모히로 ,  다까야나기고오지

IPC: B05D1/40 ,  G03F7/16 ,  H01L21/027

CPC classification number: H01L21/02104 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  H01L21/02282 ,  H01L21/6715

Abstract: 도포 공정에 있어서, 고속으로 기판을 회전시키고, 그 상태로 기판의 중심부에 제1 노즐로부터 레지스트액을 토출하여, 기판 상에 레지스트액을 도포한다. 계속해서, 평탄화 공정에 있어서, 기판의 회전을 감속하여, 저속으로 기판을 회전시켜, 기판 상의 레지스트액을 평탄화한다. 이때 도포 공정에 있어서의 제1 노즐에 의한 레지스트액의 토출은 평탄화 공정의 도중까지 계속해서 행하고, 그 평탄화 공정에 있어서 레지스트액의 토출을 종료시킬 때에는, 제1 노즐을 이동시켜 레지스트액의 토출 위치를 기판의 중심부로부터 이동시킨다. 본 발명에 따르면, 기판 면내에 균일하게 레지스트액을 도포할 수 있다.
도포 처리 장치, 레지스트액, 스핀 척, 노즐, 웨이퍼

公开(公告)号：KR1020120121361A

公开(公告)日：2012-11-05

申请号：KR1020120043163

申请日：2012-04-25

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  다까야나기고오지 ,  하따께야마신이찌 ,  가와까미고오헤이

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0337 ,  B05C11/023 ,  B05D1/005 ,  G03F7/162 ,  G06F19/00 ,  H01L21/0271 ,  H01L21/6715 ,  H01L51/0003 ,  H01L2224/03418 ,  H01L21/0273 ,  B05C9/14 ,  B05C11/1005 ,  B05D3/02 ,  B05D5/04

Abstract: PURPOSE: A coating treatment apparatus, a coating developing treatment system, and a storage medium in which a program is recorded for implementing a coating treatment method are provided to reduce film thickness deviation within a surface of a substrate by forming a coating film using spin coating. CONSTITUTION: A substrate retention support(31) supports a substrate. A rotating unit(32) rotates the substrate. A supply part(43) supplies a coating solution on the surface of the substrate. A air current control board(63) is installed at a predetermined upper position of the substrate. The air current control board locally changes air currents above the substrate.

Abstract translation: 目的：提供一种涂布处理装置，涂布显影处理系统和存储介质，其中记录用于实施涂布处理方法的程序，以通过使用旋涂形成涂膜来减小基板表面内的膜厚偏差 。 构成：衬底保持支撑件（31）支撑衬底。 旋转单元（32）旋转衬底。 供给部（43）在基板的表面供给涂布液。 气流控制板（63）安装在基板的预定的上部位置。 气流控制板局部地改变衬底上方的气流。

公开(公告)号：KR101176292B1

公开(公告)日：2012-08-22

申请号：KR1020100080114

申请日：2010-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  야마모또유우스께

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: 본발명의과제는기판상에공급되는레지스트액중의이물질을저감시켜, 레지스트패턴의결함을저감시키는것이다. 레지스트액공급장치(200)는레지스트액을저류하는레지스트액공급원(201)을갖고있다. 레지스트액공급원(201)은공급관(202)을통해도포노즐(142)에접속되어있다. 레지스트액공급원(201)의하류측에는공급관(202) 내의레지스트액을가열하는히터(205)가설치되어있다. 히터(205)는레지스트액을 23℃내지 50℃로가열할수 있다. 히터(205)의하류측에는레지스트액중의이물질을제거하는필터(207)가설치되어있다. 필터(207)의하류측에는공급관(202) 내의레지스트액을냉각하는온도조절배관(211)이설치되어있다. 온도조절배관(211)은레지스트액을 23℃로냉각할수 있다.

公开(公告)号：KR1020120059413A

公开(公告)日：2012-06-08

申请号：KR1020110125773

申请日：2011-11-29

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 아리마히로시 ,  요시하라고오스께 ,  요시다유우이찌 ,  곤도오요시히로

IPC: G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

CPC classification number: G03F7/3021 ,  G03F7/0025 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/3057 ,  H01L21/6715

Abstract: PURPOSE: A developing apparatus, a developing method, and memory media are provided to increase the reactivity of developing liquid and resist in a specific region of a substrate. CONSTITUTION: A developing apparatus includes a substrate loading and supporting part(11), a developing liquid supplying part, a radiation light irradiating part, and a washing liquid supplying part(71). Resist is applied on the surface of the substrate loading and supporting part. The substrate loading and supporting part horizontally loads and supports a substrate after exposure. The developing liquid supplying part supplies developing liquid to the surface of the substrate. The developing liquid supplying part develops the resist. The developing liquid on the specific region of the substrate is heated to improve the reactivity of the developing liquid to the resist by irradiating radiation light with a substrate material wavelength absorbing region. The washing liquid supplying part supplies washing liquid to the surface of the substrate to eliminate the developing liquid.

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质，以增加显影液和基板的特定区域中的抗蚀剂的反应性。 构成：显影装置包括基板装载和支撑部分（11），显影液体供应部分，辐射光照射部分和洗涤液体供应部分（71）。 抗蚀剂施加在基板装载和支撑部件的表面上。 衬底加载和支撑部分在曝光后水平地负载并支撑衬底。 显影液供给部将显影液供给到基板的表面。 显影液供给部显影抗蚀剂。 通过用基板材料波长吸收区域照射辐射光，加热基板的特定区域上的显影液，以提高显影液对抗蚀剂的反应性。 洗涤液供给部将清洗液供给到基板的表面，以除去显影液。

公开(公告)号：KR101069455B1

公开(公告)日：2011-09-30

申请号：KR1020070024364

申请日：2007-03-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모또다로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/6708

Abstract: 본 발명의 과제는 보호막 제거 장치로부터 배출되는 약액의 회수율의 향상을 도모하는 것이다.
상기 장치에 있어서, 약액을 회수하기 위해 기판이 놓이는 분위기에 연통하는 회수로와, 이 회수로의 출구 단부에 설치된 중간 탱크와, 이 중간 탱크 내에 상기 약액보다도 비중이 작아지고 또한 상기 약액과 분리하는 휘발 방지액을 미리 공급하기 위한 수단과, 상기 중간 탱크에 입구 단부가 설치되고 밸브를 구비한 송액로와, 이 송액로의 출구 단부에 설치된 회수 탱크와, 상기 중간 탱크의 액량을 감시하는 액량 감시 수단과, 액량의 감시 결과를 기초로 하여 상기 중간 탱크 내의 액량이 미리 설정된 설정량이 되었다고 판단하였을 때에 상기 송액로의 밸브를 개방하고 상기 중간 탱크 내의 약액을 회수 탱크에 공급하기 위한 제어 수단을 구비한 구성으로 한다.
회수로, 송액로, 액량 감시 수단, 중간 탱크, 회수 탱크

公开(公告)号：KR1020110044707A

公开(公告)日：2011-04-29

申请号：KR1020100103185

申请日：2010-10-22

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  이세끼도모히로 ,  요시다유우이찌 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/3021 ,  H01L21/0274 ,  G03F7/32 ,  G03F7/70341

Abstract: PURPOSE: A developing device, developing method, and storage medium are provided to uniformly develop the entire substrate, thereby reducing defects during developing. CONSTITUTION: A substrate supporting unit(11) horizontally supports a substrate(W). A rotation device(13) rotates the substrate supporting unit around a vertical axis. A diffusion assisting solution nozzle supplies a diffusion assisting solution to the substrate to assist the diffusion of a developing solution. A developing solution nozzle(30) supplies the developing solution to the substrate. The developing solution nozzle is connected to a developing solution supply source(31) or a developing solution supply system(32) through a developing solution supply pipe(30a).

Abstract translation: 目的：提供显影装置，显影方法和存储介质以均匀地显影整个基板，从而减少显影过程中的缺陷。 构成：基板支撑单元（11）水平地支撑基板（W）。 旋转装置（13）使基板支撑单元绕垂直轴旋转。 扩散辅助溶液喷嘴向扩散辅助溶液提供辅助溶液以帮助显影液的扩散。 显影溶液喷嘴（30）将显影液供应到基底。 显影液喷嘴通过显影液供给管（30a）与显影液供给源（31）或显影液供给系统（32）连接。

公开(公告)号：KR1020110019711A

公开(公告)日：2011-02-28

申请号：KR1020100080114

申请日：2010-08-19

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라고오스께 ,  야마모또유우스께

IPC: G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  G03F7/162 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67184

Abstract: PURPOSE: An apparatus for supplying resist liquid is provided to reduce default of a resist pattern and foreign materials such as resist gel. CONSTITUTION: An apparatus(200) for supplying resist liquid comprises: a resist liquid supply source(201) which flows under resist liquid; a supply tube(202) for supplying the resist liquid with a coating nozzle(142); a filter(207) for removing foreign materials from the resist liquid; and a heater(205) for heating the resist liquid inside the supply tube at certain temperature higher than room temperature. The resist liquid contains fluorine resins.

Abstract translation: 目的：提供一种用于提供抗蚀剂液体的设备，以减少抗蚀剂图案和异物如抗蚀剂凝胶的缺陷。 构成：用于供应抗蚀剂液体的装置（200）包括：在抗蚀剂液体下流动的抗蚀剂液体供给源（201）; 供应管（202），用于向所述抗蚀剂液体供应涂覆喷嘴（142）; 用于从所述抗蚀剂液体除去异物的过滤器（207） 以及用于在高于室温的一定温度下加热供给管内的抗蚀剂液体的加热器（205）。 抗蚀剂液体含有氟树脂。

公开(公告)号：KR1020090131257A

公开(公告)日：2009-12-28

申请号：KR1020090053141

申请日：2009-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다께구찌히로후미 ,  야마모또다로오 ,  요시하라고오스께

IPC: H01L21/027

CPC classification number: G03F7/162 ,  G03F7/3021 ,  G03F7/3042 ,  G03F7/422 ,  H01L21/687

Abstract: PURPOSE: A developing process method and a developing process apparatus are provided to efficiently form a developer film by improving a wetting property of a resist film on a hydrophobic substrate. CONSTITUTION: A substrate holding unit(40) horizontally holds a substrate, and is a spin chuck. A rotary unit(42) rotates the substrate inside a horizontal plane. A first nozzle(52) supplies a developer to a surface of the substrate rotated by the rotary unit. A second nozzle(53) supplies a second liquid to a surface of the substrate. A control unit(60) controls the rotary unit, the first nozzle, and the second nozzle, and performs a pre-wetting process for diffusing the developer into a rotary direction of the substrate before a developing process.

Abstract translation: 目的：提供显影处理方法和显影处理装置，以通过改善疏水性基板上的抗蚀剂膜的润湿性来有效地形成显影剂膜。 构成：基板保持单元（40）水平地保持基板，并且是旋转卡盘。 旋转单元（42）使基板在水平面内旋转。 第一喷嘴（52）将显影剂供给到由旋转单元旋转的基板的表面。 第二喷嘴（53）将第二液体供应到基板的表面。 控制单元（60）控制旋转单元，第一喷嘴和第二喷嘴，并且在显影过程之前执行用于将显影剂扩散到基板的旋转方向的预润湿工艺。