公开(公告)号：KR1019980018559A

公开(公告)日：1998-06-05

申请号：KR1019970038124

申请日：1997-08-11

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  야마사카미야코 ,  가미카와유지

IPC: H01L21/02

Abstract: 반도체 웨이퍼와 LCD 유리기판 등의 피처리체의 액처리에 있어서, 약액공급노즐에 잔류하는 약액의 제거, 린스성능 및 처리량(through-put)의 향상을 나타내기 위해, 처리액 공급수단을 제트 노즐관(40)에서 형성하고, 제트 노즐관(40)의 저면(40c)을 약액의 공급측에서 선단을 향하게 아래쪽 균배로 기울어지게 하고, 선단측에 배액공(40d) 및 배수밸브(54)을 통해서 배수관(55)을 접속한다. 제트 노즐관(40)의 노즐공(40b)에서 약액을 공급해서 반도체 웨이퍼 W에 약액을 접촉시켜서 처리를 행한 후, 이 제트 노즐관(40)에 순수 또는 N
2 가스 등의 약액 제거용 기체를 공급해서 제트 노즐관(40)에 잔류하는 약액을 제거하고, 순수를 반도체 웨이퍼 W에 접촉시켜서 세정처리를 행한다.

公开(公告)号：KR1019970052713A

公开(公告)日：1997-07-29

申请号：KR1019960062257

申请日：1996-12-06

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 신도나오키 ,  가미카와유지 ,  모쿠오쇼리 ,  구마가이요시오

IPC: H01L21/304

Abstract: 1. 청구범위에 기재된 발명이 속한 기술분야
반도체 웨이퍼난 LCD용 유리기판과 같은 기판을 세정하고 건조하는 기판세정 건조장치, 기판세정방법 및 기판세정장치
2. 발명이 해결하려고 하는 기술적 과제
기판에서의 파티클의 부착을 방지하고, 건조얼룩을 억제할 수가 있는 고 생산성으로 소형의 기판세정 건조방법 및 기판세정 건조장치를 제공하고, 공장측의 배출액 라인을 효율좋게 운용할 수가 있고, 처리조내의 처리액을 일정한 상태로 유지할 수가 있는 기판세정방법 및 기판세정장치를 제공하고자 하는 것이다.
3.발명의 해결방법의 요지
본 발명의 기판세정 건조장치는, 복수의 웨이퍼를 유지하는 보오트를 수용할 수 있는 처리부와, 이 처리부의 바닥부에 형성되어 세정처리액을 처리부내 도입한 세정처리액을 처리부내로부터 배출하기 위한 공급배출구와, 복수 종류의 세정액중으로부터 적어도 1종류의 세정액을 선택하여 공급배출구를 통하여 처리부내에 공급하는 처리액 공급기구와, 건조용 증기를 생성하기 위한 히터를 구비한 건조용 증기생성부와, 이 건조용 증기생성부와 처리부에 각각 연이어 통하고 건조용 증기를 처리부내로 안내하는 건조용 증기공급로와, 처리부의 하부에 설치되어 처리부내로부터 세정처리액을 신속하게 배출하기 위한 개구를 갖는 강제 배출액기구와, 이 개구는 개폐가능한 것과, 처리부내의 세정처리액의 비례저항값을 검출하는 비례저항 검출계와, 검 한 비례저항값에 기초하여 처리액 공급기구로부터 처리부내에 처리부내에 처리액의 공급을 제어하는 제어기를 구비하는 것이다.

公开(公告)号：KR101774427B1

公开(公告)日：2017-09-04

申请号：KR1020120021826

申请日：2012-03-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 하치야요스케 ,  신도나오키

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/67

Abstract: 실리콘산화막에대한실리콘질화막의높은에칭선택비와, 실리콘질화막의높은에칭레이트를양립시킬수 있는기술을제공한다. 에칭방법은실리콘질화막및 실리콘산화막이표면에노출된기판에가열된 HSO를공급하여기판을가열하는프리히팅공정과, 이후, 상기기판에가열된 HSO와, HF, NHF 및 NHHF중적어도어느하나와, HO와의혼합액체를공급하는에칭공정을구비하고있다.

Abstract translation: 可以实现既能够实现氮化硅膜对氧化硅膜的高蚀刻选择性又能够实现氮化硅膜的高蚀刻速率的技术。 该蚀刻方法包括：预热步骤，通过将加热的HSO供给暴露在氮化硅膜和氧化硅膜的表面上的衬底，然后通过HSO，HF，NHF和NHHF中的任一个加热衬底来加热衬底 以及用于供应混合液体的蚀刻工艺。

公开(公告)号：KR101608105B1

公开(公告)日：2016-03-31

申请号：KR1020110127651

申请日：2011-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  하치야요스케 ,  아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  신도나오키 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/68728 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: 본발명은, 노즐을지지하는노즐지지아암에부착된오물에의하여처리실내의기판이오염되는것을방지할수 있는액 처리장치및 액처리방법을제공한다. 본발명의액 처리장치(10)는, 기판(W)을유지하는기판유지부(21) 및해당기판유지부(21)의주위에배치되는컵(40)이내부에설치된처리실(20)과, 기판유지부(21)에유지된기판(W)에대하여유체를공급하기위한노즐(82a)과, 노즐(82a)을지지하는노즐지지아암(82)을구비하고있다. 액처리장치(10)에는, 노즐지지아암(82)을세정하기위한아암세정부(88)가설치된다.

Abstract translation: 本发明提供一种液体处理装置和液体处理方法，其能够防止由于附着到支撑喷嘴的喷嘴支撑臂上的污物而污染处理室中的基板。 本发明的液体处理装置10包括用于保持基板W的基板保持部21和配置在基板保持部21周围的杯40内的处理室20， 喷嘴82a用于向由基板支架21保持的基板W供给流体，喷嘴支撑臂82用于保持喷嘴82a。 液处理装置10具备用于清扫喷嘴支承臂82的臂清扫部88。

公开(公告)号：KR1020150125586A

公开(公告)日：2015-11-09

申请号：KR1020150057995

申请日：2015-04-24

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이도야스유키 ,  신도나오키 ,  오리이다케히코 ,  에가시라게이스케 ,  하치야요스케 ,  오오이시고타로 ,  가와노히사시 ,  시모무라신이치로

IPC: H01L21/67

CPC classification number: H01L21/67051 ,  B05B12/14 ,  B05C11/115 ,  H01L21/306 ,  H01L21/31 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/6715

Abstract: 노즐내에서의가수분해열화에따른실릴화액의폐기량을저감한다. 노즐(43) 내의실릴화액유로(431)에차단유체를공급함으로써, 실릴화액유로내에있는실릴화액보다토출구(434)에가까운측에존재하는차단유체에의해실릴화액유로내에있는실릴화액을토출구의외부의분위기로부터차단한다.

Abstract translation: 由于喷嘴中的水解劣化引起的消耗的甲硅烷基化液体的量减少。 向喷嘴（43）中的甲硅烷基化液体流路（431）供给封闭流体，以通过存在于更靠近排出口的一侧的阻塞流体从排出孔的外部气氛中阻断甲硅烷醇化液体流路中的甲硅烷基化液体 （434）比硅烷化液体流路中的甲硅烷基化液体。

公开(公告)号：KR1020130008458A

公开(公告)日：2013-01-22

申请号：KR1020120066770

申请日：2012-06-21

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 이토노리히로 ,  아이우라가즈히로 ,  신도나오키 ,  하치야요스케 ,  나가이다카시

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/02

CPC classification number: H01L21/02041 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  Y02E60/34 ,  Y10T137/0318 ,  Y10T137/598

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and a liquid processing method are provided to supply processing liquid to the substrate while the substrate is rotated and to facilitate a cleaning process. CONSTITUTION: A substrate holding unit horizontally maintains a substrate. A process liquid supply nozzle(82a) supplies processing liquid to the substrate. An upper plate rotation unit rotates the upper plate. A cup circumference case(50) is installed at a cup(40). A nozzle support arm supports the process liquid supply nozzle.

Abstract translation: 目的：提供一种液体处理装置和液体处理方法，以在衬底旋转的同时向衬底提供处理液体并促进清洁过程。 构成：基板保持单元水平地保持基板。 处理液供给喷嘴（82a）向处理液供给处理液。 上板旋转单元使上板旋转。 一个杯形外壳（50）安装在一个杯子（40）上。 喷嘴支撑臂支撑工艺液体供应喷嘴。

公开(公告)号：KR1020120083841A

公开(公告)日：2012-07-26

申请号：KR1020110127651

申请日：2011-12-01

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히가시지마지로 ,  하치야요스케 ,  아이우라가즈히로 ,  이토노리히로 ,  신도나오키 ,  이토유키

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/68728 ,  B08B3/04 ,  B08B3/041 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/6719 ,  H01L21/68742

Abstract: PURPOSE: A liquid processing apparatus and liquid processing method are provided to remove pollution on a nozzle support arm by setting an arm cleaner. CONSTITUTION: A substrate maintaining unit(21) and cup(40) are installed in a processing chamber(20). The cup is arranged around the substrate maintain unit. A nozzle(82a) supplies liquid to the substrate installed on the substrate maintaining unit. A nozzle support arm(82) supports the nozzle. An arm cleaner(88) cleans the nozzle support arm.

Abstract translation: 目的：提供液体处理设备和液体处理方法，通过设置手臂清洁器来消除喷嘴支撑臂上的污染。 构成：衬底保持单元（21）和杯（40）安装在处理室（20）中。 杯子围绕衬底维护单元布置。 喷嘴（82a）向安装在基板保持单元上的基板供给液体。 喷嘴支撑臂（82）支撑喷嘴。 手臂清洁器（88）清洁喷嘴支撑臂。

公开(公告)号：KR101133394B1

公开(公告)日：2012-04-09

申请号：KR1020117002762

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.

公开(公告)号：KR101061926B1

公开(公告)日：2011-09-02

申请号：KR1020060111687

申请日：2006-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다나카히로시 ,  나카오히데토시 ,  신도나오키 ,  야먀시타아츠시 ,  쯔루사키코타로 ,  히라야마츠카사

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  Y10S118/90 ,  Y10S134/902

Abstract: 본 발명은 건조 증기를 이용하여 피처리체를 양호하게 건조시킬 수 있는 건조 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명에 의한 건조 장치는 피처리체를 수용하는 처리조와, 상기 처리조에 접속되고, 상기 처리조 안에 캐리어 가스 및 건조 증기를 공급하는 공급 기구와, 상기 공급 기구에 의한 캐리어 가스의 공급 및 건조 증기의 공급을 제어하는 제어 장치를 구비한다. 상기 처리조에 수용된 피처리체를 처리할 때, 캐리어 가스와 건조 증기를 포함하는 혼합 유체는 상기 처리조 안에 간헐적으로 공급되게 되어 있다.

Abstract translation: 本发明的目的在于提供一种干燥装置，其能够使用干燥蒸汽良好地干燥被处理物。

公开(公告)号：KR1020110028534A

公开(公告)日：2011-03-18

申请号：KR1020117002762

申请日：2006-06-16

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 히로시로고우키치 ,  가미카와유지 ,  도시마다카유키 ,  신도나오키

IPC: H01L21/302 ,  H01L21/304

CPC classification number: H01L21/02057 ,  H01L21/67028 ,  H01L21/67034 ,  H01L21/67051 ,  H01L21/67057

Abstract: 본 발명은 반도체 웨이퍼 등의 기판을 세정, 건조시키기 위한 기판 처리 장치는 저류된 순수에 기판을 침지시켜 처리하는 액 처리부와, 액 처리부의 위쪽에 마련되어 기판을 건조시키는 건조 처리부와, 액 처리부와 건조 처리부 사이에서 기판을 반송하는 기판 반송 장치와, 순수의 수증기 또는 미스트와 휘발성 유기 용제의 증기 또는 미스트로 이루어진 혼합 유체를 상기 건조 처리부에 공급하는 유체 공급 기구와, 혼합 유체의 공급을 제어하는 제어부를 포함한다.

Abstract translation: 本发明是用于清洁和干燥基板的基板处理装置，例如一个半导体晶片，并通过浸渍在存储净的基板进行处理的液处理单元，干燥部，其得出的液体处理部的顶部干燥所述基材，所述液体处理和干燥 和处理部分之间的基板传送的基板传送装置，其中包括水蒸汽或雾和蒸气或纯流体供应的挥发性有机溶剂的雾的混合流体被供给到干燥部的装置和用于控制流体混合物的供给的控制部 它包括。