公开(公告)号：KR1020150058004A

公开(公告)日：2015-05-28

申请号：KR1020140157872

申请日：2014-11-13

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다카야나기고지 ,  데라시타유이치 ,  후지모토아키히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/0273

Abstract: 본발명의과제는, 기판의외주부에원하는형상의도포막을형성하는것이다. 패턴의샷(S)이형성된웨이퍼(W)의외주연부에도포막을형성하는도포처리방법이며, 도포액을공급하는도포노즐이설치된노즐헤드(33)를, 웨이퍼(W)의최외주부의패턴의샷(Sn)의외측을따라주사시키면서, 도포노즐로부터웨이퍼(W)에대해도포액을공급한다. 도포노즐에는, 잉크젯노즐이나캐필러리노즐이사용된다.

Abstract translation: 本发明的目的是在衬底的外边界部分上形成所需形状的涂层。 根据本发明的涂布处理方法在其上形成有图案的（S）的晶片（W）的外周部分上形成涂层，并且将涂布液从涂层（W）供给到晶片 喷嘴，同时其上安装有涂料喷嘴以供应涂布液体的喷嘴头（33）沿着晶片（W）的最外部分上的图案的喷射（Sn）的外部喷射涂布液体。 涂布喷嘴可以使用喷墨喷嘴或毛细喷嘴。

公开(公告)号：KR1020080058223A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：KR1020070134132

申请日：2007-12-20

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 다키구치야스시 ,  야마모토다로 ,  후지모토아키히로 ,  니시키도슈우이치 ,  구마가이다이 ,  요시타카나오토 ,  기타노다카히로 ,  도쿠나가요이치

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/67046 ,  B08B1/04 ,  B08B7/0057 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/67051

Abstract: A substrate cleaning apparatus, a substrate cleaning method, and a recording medium are provided to exclude the need for a space for substrate inversion by cleaning a substrate in a state that a rear surface of the substrate is supported and held. A substrate cleaning apparatus includes a first substrate holding means(2), a second substrate holding means(3), a cleaning solution supply means, a dry means, and a cleaning member(5). The first substrate holding means horizontally absorbs and holds a first region of a rear surface of a substrate. The second substrate holding means horizontally absorbs and holds a second region of a rear surface of a substrate. The cleaning solution supply means supplies cleaning solution to the rear surface of the substrate absorbed and held in the first substrate holding means and the second substrate holding means. The dry means dries the second region of the rear surface of the substrate before the substrate is transferred from the first substrate holding means to the second substrate holding means. The cleaning member performs a cleaning operation to contact he rear surface of the substrate including the second region.

Abstract translation: 提供了基板清洗装置，基板清洗方法和记录介质，以便在基板的后表面被支撑和保持的状态下，通过清洗基板而不需要用于基板反转的空间。 基板清洗装置包括第一基板保持装置（2），第二基板保持装置（3），清洁溶液供应装置，干燥装置和清洁部件（5）。 第一基板保持装置水平地吸收并保持基板的后表面的第一区域。 第二基板保持装置水平地吸收并保持基板的后表面的第二区域。 清洗液供给单元向被吸收并保持在第一基板保持单元和第二基板保持单元的基板的背面供给清洗液。 在基板从第一基板保持装置转移到第二基板保持装置之前，干燥装置干燥基板的后表面的第二区域。 清洁部件执行清洁操作以与包括第二区域的基板的后表面接触。

公开(公告)号：KR100583089B1

公开(公告)日：2006-05-23

申请号：KR1020010015726

申请日：2001-03-26

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지모토아키히로 ,  요시하라고스케 ,  에노모토마사히로

IPC: H01L21/304

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명은, 기판 상에 처리액을 공급하기 위한 처리액 공급장치로서, 상기 기판에 처리액을 토출하는 토출노즐과, 상기 처리액을 수용하는 용기와, 상기 토출노즐과 상기 용기를 연결하는 공급배관과, 상기 공급배관에 배설된 펌프와 상기 펌프의 작동을 제어하는 펌프 구동기구와, 일 끝단이 상기 용기와 상기 펌프 사이의 배관으로부터 분기하고, 다른 끝단이 상기 펌프에 배설된 순환배관과, 상기 공급배관 도중에서 상기 순환배관의 일끝단과 다른 끝단의 사이에 배설되어, 상기 처리액을 여과하여 이물질을 제거하는 필터와, 이 필터에 의해 여과되는 이물질을 포함하는 처리액을 배출하는 드레인 배관과, 이 드레인 배관에 배설되어, 상기 필터로부터 배출되는 처리액의 유량을 제어하는 밸브를 가지고 있다.
본 발명에 의하면, 순환배관에 처리액의 일부를 순환시켜 처리액의 공급을 하기 때문에, 처리액의 일부는 두 번째 필터를 통과하여 토출노즐로부터 토출되게 된다. 따라서, 처리액 중에 존재하는 이물질을 효율적으로 제거할 수가 있다.

公开(公告)号：KR1019990014090A

公开(公告)日：1999-02-25

申请号：KR1019980029604

申请日：1998-07-23

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지모토아키히로

IPC: H01L21/30

Abstract: 본 발명은 도포장치에 관한 것으로서, 더 상세하게는 반도체 웨이퍼 등의 피처리체 표면에 레지스트 액 등의 도포액을 도포하는 도포장치를 개시한다. 도포장치에 사용하는 개폐밸브는 동작 지연을 수반하고, 개폐밸브의 동작 시기 및 작동속도를 조절하는 것이 곤란하여 저 점도형 도포액을 사용한 경우에 액체방울이나 기포의 발생을 완전하게 방지할 수 없는 문제가 있다. 본 발명은 개폐밸브로 작동할 때까지 지연 시간을 거의 무시할 수 있는 개폐밸브와 석백밸브를 사용하여 밸브의 개폐시기를 정확히 미세 조절 할 수 있어, 레지스트 노즐 앞측 끝의 레지스트 액을 레지스트 노즐 내로 되돌려 흡입하기 때문에 레지스트 액의 액체방울을 방지하거나 레지스트 액의 기포발생을 방지할 수 있는 도포장치가 제시되어 있다.

公开(公告)号：KR101831784B1

公开(公告)日：2018-02-23

申请号：KR1020120135225

申请日：2012-11-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠다마사히로 ,  쿠보아키히로 ,  후지모토아키히로

IPC: H01L21/302

Abstract: 기판의이면을세정하는기판세정장치및 기판세정방법으로서, 기판의이면을세정하는세정수단및 기판을보지하는기판보지수단을세정할수 있는기판세정장치및 기판세정방법을제공하는것이다. 기판의이면을세정하는기판세정장치로서, 상기이면의제 1 영역에접촉하여상기기판을보지하는제 1 기판보지수단과, 상기제 1 영역이외의상기이면의제 2 영역에접촉하여상기기판을보지하는제 2 기판보지수단과, 상기제 1 기판보지수단또는상기제 2 기판보지수단에의해보지된상기기판의이면을세정하는제 1 세정수단과, 상기기판과접촉하는상기제 2 기판보지수단의접촉면을세정하는제 2 세정수단을가지는것을특징으로하는기판세정장치에의해상기의과제가달성된다.

公开(公告)号：KR101554050B1

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：KR1020100108072

申请日：2010-11-02

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 나카시마츠네나가 ,  하야시신이치 ,  후지모토아키히로 ,  오오쿠보다카히로

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/302

CPC classification number: B05C5/0237 ,  B05C5/0225 ,  B05C13/02 ,  G03F7/162

Abstract: 본발명은저비용으로약액의건조를억제할수 있는약액공급노즐을제공하는것을목적으로한다. 본발명의약액공급노즐은, 유로부재의선단부에접속되는노즐본체에차단밸브와, 약액을흡인유로에흡인하는흡인부가설치되어있다. 따라서약액토출후에상기차단밸브의하류측에잔류하는약액을, 차단밸브의상류측으로흡인하여제거하여, 차단밸브에의해노즐본체안의약액유로를차단할수 있다. 이것에의해, 상기약액유로에서의약액의건조및 고화를억제할수 있다. 또한, 약액유로의하류에시너등을흡인하여약액유로를막을필요가없고, 더미디스펜스의횟수도억제할수 있기때문에, 처리비용의상승을억제할수 있다.

公开(公告)号：KR1020130059294A

公开(公告)日：2013-06-05

申请号：KR1020120135225

申请日：2012-11-27

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후쿠다마사히로 ,  쿠보아키히로 ,  후지모토아키히로

IPC: H01L21/302

CPC classification number: H01L21/67046 ,  H01L21/0209 ,  H01L21/67057

Abstract: PURPOSE: A substrate cleaning device and a substrate cleaning method are provided to easily wash a substrate support unit for holding a substrate. CONSTITUTION: A first substrate support unit is contacted to the first area of the rear surface of a substrate to hold a substrate. A second substrate support unit is contacted to the second area of the rear surface of the substrate to hold the substrate. A first cleaning unit(21up) cleans the rear surface of the substrate by the first and the second substrate support unit. A second cleaning unit(21dw) washes the contact surface of the second substrate support unit touching the substrate. The first cleaning unit and the second cleaning unit are fixed using a cleaning support member(21sp).

Abstract translation: 目的：提供基板清洗装置和基板清洗方法，以容易地清洗用于保持基板的基板支撑单元。 构成：第一衬底支撑单元与衬底的后表面的第一区域接触以保持衬底。 第二基板支撑单元与基板的后表面的第二区域接触以保持基板。 第一清洁单元（21up）通过第一和第二基板支撑单元清洁基板的后表面。 第二清洁单元（21dw）洗涤接触基板的第二基板支撑单元的接触表面。 第一清洁单元和第二清洁单元使用清洁支撑构件（21sp）固定。

公开(公告)号：KR1020080048917A

公开(公告)日：2008-06-03

申请号：KR1020070101991

申请日：2007-10-10

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 야마모토타로 ,  다카구치야스시 ,  후지모토아키히로 ,  교우다히데하루 ,  기타노준이치 ,  미야하라오사무 ,  츠츠미겐지

IPC: H01L21/027 ,  H01L21/31 ,  H01L21/304 ,  G03F7/16

CPC classification number: H01L21/6715 ,  H01L21/67178 ,  H01L21/67276 ,  G03F7/16 ,  G03F7/7085 ,  H01L21/67046 ,  H01L21/67098

Abstract: A coating film forming apparatus and a coating film forming method are provided to prevent defocus due to particles on a rear surface of a substrate by inspecting a state of the particles on the rear surface and an edge of a substrate. A processing unit includes one or more coating units for applying a resist film or applying the resist film and an additional film on a substrate, and one or more thermally processing units for performing a thermal process necessary for forming the coating film on the substrate. A pre-coating cleaning unit cleans at least a rear surface and an edge of the substrate before transferring the substrate into the processing unit. A pre-coating check unit checks a state of a rear surface and an edge of the substrate before transferring the substrate into the processing unit. A control unit(20) inspects the substrate before the coating process, determines a state of particles in the rear surface and the edge of the substrate on the basis of the inspected results, and transfers the substrate according to the determined results.

Abstract translation: 提供一种涂膜形成装置和涂膜形成方法，用于通过检查基板的后表面和边缘上的颗粒的状态来防止由于颗粒在基板的后表面上的散焦。 处理单元包括用于施加抗蚀剂膜或将抗蚀剂膜和附加膜施加在基板上的一个或多个涂覆单元和用于进行在基板上形成涂膜所需的热处理的一个或多个热处理单元。 在将基板转移到处理单元之前，预涂层清洁单元至少清洁基板的后表面和边缘。 在将基板转移到处理单元之前，预涂层检查单元检查基板的后表面和边缘的状态。 控制单元（20）在涂布处理前检查基板，根据检查结果确定基板的后表面和边缘中的颗粒的状态，并根据确定的结果传送基板。

公开(公告)号：KR100574303B1

公开(公告)日：2006-04-26

申请号：KR1020000059961

申请日：2000-10-12

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 요시하라코우스케 ,  후지모토아키히로

IPC: H01L21/027

CPC classification number: H01L21/6715

Abstract: 본 발명은, 기판처리장치에 관한 것으로서, 표면에 레지스트액이 공급되는 웨이퍼를 보지하기 위한 스핀척과, 상기 스핀척을 수용하고, 아랫부분으로부터 배기를 하는 것으로, 웨이퍼 주변의 분위기를 강제배기하는 컵과, 상기 컵 내에 설치되어 웨이퍼의 주위를 에워싸고, 웨이퍼 부근의 기류를 제어하는 기류제어판을 가짐으로써, 피처리기판의 둘레부에 있어서의 특수한 기류상태의 해소가 가능하며, 이것에 의해 막두께의 돌출을 방지할 수 있는 기술이 제시된다.

Abstract translation: 本发明涉及一种基板处理装置，包括一个旋转卡盘保持在其上的抗蚀剂溶液被提供给表面，杯，用于接收旋转卡盘的晶片，和从下部的排气强制围绕晶片排气的气氛 并且，该装置周围的周边是在杯的晶片，通过具有用于控制在晶片附近的空气流的空气流的控制面板，它可以在衬底的周边部分上的特殊的空气流状态来解决，并通过该膜厚度 提出了一种能够防止天线突出的技术。

公开(公告)号：KR100497299B1

公开(公告)日：2005-09-20

申请号：KR1019970065614

申请日：1997-12-03

Applicant: 도쿄엘렉트론가부시키가이샤

Inventor： 후지모토아키히로

IPC: H01L21/02

Abstract: 기판처리장치는, 기판을 실질적으로 수평으로 유지하는 아암홀더와, 이 아암홀더를 수직축을 따라 승강시키고 수직축 주위로 선회시켜 수평면내에서 전진 또는 후퇴시키는 기판반송기구와, 아암홀더와 함께 기판이 출입되는 기판반입출구를 구비한 외장케이스에 의해 주위가 둘러싸여지고 제 1 기판을 액처리하기위해서 외장케이스내에 배치된 복수의 처리부재를 갖는 제 1 액처리 유니트와, 이 제 1 액처리 유니트에 인접하여 설치되어 아암홀더와 함께 기판이 출입되는 기판반입출구를 구비한 외장케이스에 의해 주위가 둘러싸여지고, 제 2 기판을 액처리하기위해서 외장케이스내에 배치된 복수의 처리부재를 갖는 제 2 액처리 유니트를 구비한다. 제 1 액처리 유니트의 복수의 처리부재와 제 2 액처리 유니트의 복수의 처리부재는, 아암홀더에서 보아 수평면내에서 각각 선대칭으로 평면배치되어 있다.