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公开(公告)号：KR100931481B1
公开(公告)日：2009-12-11
申请号：KR1020070118785
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/20 , H01L21/027
Abstract: 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 인장시켜 고정하는 인장 유닛과; 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 접합수단이 포함되며, 상기 인장 유닛은,
상기 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와; 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과; 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에 구비되어 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단과; 상기 다수의 클램프 중 일부 클램부를 회전시키도록 상기 일부 클램프와 연결된 벤딩 수단이 포함됨을 특징으로 한다.-
公开(公告)号：KR1020090052203A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118787
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/027
CPC classification number: G03F7/12 , C23C14/042 , G03F1/64 , G03F1/42 , G03F1/68
Abstract: A method and apparatus for fabricating a vertical deposition mask capable of welding a mask sheet and a mask frame for preventing a large area mask from drooping due to the weight of the mask. The apparatus includes a tensioning device for tensioning a mask sheet and a welder for attaching a mask frame to a circumference of the mask sheet. The tensioning device includes clamps for supporting the mask sheet and tensioners coupled to the clamps for applying tensile force to the clamps and to evenly fix in place the mask sheet by the clamps.
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公开(公告)号：KR1020110122550A
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：KR1020100042117
申请日：2010-05-04
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/203 , H01L21/20 , H01L21/02 , H01L21/3065
CPC classification number: C23C14/34 , C23C14/545 , H01J37/32963 , H01J37/3299 , H01J37/34
Abstract: PURPOSE: A sputtering system and a sputtering method are provided to keep the thickness of a thin film, which is deposited in a substrate, to be uniform in a sputter apparatus using etch end point detection data which is detected from an EPD(End Point Detect) apparatus. CONSTITUTION: A sputter apparatus(100) deposits a metal thin film on a substrate with a sputtering method(S). The sputter apparatus comprises a vacuum chamber(10), a cathode electrode(30), a power supply unit(40), and a gas supply unit(50). The power supply unit supplies the AC power source of a certain frequency to a plurality of targets(31). A dry etching apparatus(200) includes an EPD(End Point Detect) apparatus(210) which generates the EPD data including an etching time. A controlling unit(300) controls the sputter apparatus according to a calculated deposition time. .
Abstract translation: 目的：提供一种溅射系统和溅射方法，以使用蚀刻终点检测数据从EPD（终点检测）检测到，使溅射装置中沉积在衬底中的薄膜的厚度均匀 ） 仪器。 构成：溅射装置（100）通过溅射法（S）将金属薄膜沉积在基板上。 溅射装置包括真空室（10），阴极电极（30），电源单元（40）和气体供应单元（50）。 电源单元将一定频率的交流电源提供给多个目标（31）。 干蚀刻装置（200）包括产生包括蚀刻时间的EPD数据的EPD（终点检测）装置（210）。 控制单元（300）根据计算出的沉积时间控制溅射装置。 。
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公开(公告)号：KR101073550B1
公开(公告)日：2011-10-14
申请号：KR1020090103683
申请日：2009-10-29
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 정민재 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 이기용 , 서진욱 , 양태훈 , 정윤모 , 소병수 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 백원봉 , 박종력 , 최보경 , 마이단축이반 , 정재완
IPC: H01L21/324
CPC classification number: F27B17/0025 , H01L21/67109
Abstract: 따라서, 공정챔버내부의온도산포를최소화할수 있고, 기판의모든영역에균일한열을공급할수 있다.
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公开(公告)号：KR1020110046955A
公开(公告)日：2011-05-06
申请号：KR1020090103683
申请日：2009-10-29
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 정민재 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 이기용 , 서진욱 , 양태훈 , 정윤모 , 소병수 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 백원봉 , 박종력 , 최보경 , 마이단축이반 , 정재완
IPC: H01L21/324
CPC classification number: F27B17/0025 , H01L21/67109
Abstract: PURPOSE: A device for processing a substrate by heat is provided to separate and control each heater, thereby minimizing temperature spreading in a process chamber. CONSTITUTION: A plurality of substrates(10) is loaded in a boat(20). The boat is inputted into a process chamber(30). A heater chamber(50) applies heat to the process chamber. A base plate(60) supports the boat. A gas injecting hole(70) is connected to a gas supply source. A gas discharging hole(80) is connected to a vacuum pump to discharge by-products and residual gases to the outside.
Abstract translation: 目的：提供用于通过加热处理基板的装置，以分离和控制每个加热器，从而最小化处理室中的温度扩散。 构成：将多个基板（10）装载在船（20）中。 船被输入到处理室（30）中。 加热器室（50）向处理室施加热量。 基板（60）支撑船。 气体注入孔（70）与气体供给源连接。 气体排出孔（80）连接到真空泵以将副产物和残余气体排放到外部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：KR101009642B1
公开(公告)日：2011-01-19
申请号：KR1020080066722
申请日：2008-07-09
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/203 , H01L21/677
CPC classification number: C23C14/54 , C23C14/35 , H01J37/3408 , H01J37/3455
Abstract: 본 발명은 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 제공한다. 상기 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치는 금속으로 이루어지는 타켓의 근방에 배치되며, 일정의 자장을 형성하는 마그네트론 부와, 상기 타켓에 형성되는 자장이 기설정되는 기준 자장의 범위에 포함되도록 상기 마그네트론 부와 상기 타켓과의 거리를 일정 거리 이격시키는 이동 유니트를 구비한다. 또한, 본 발명은 상기 자화 방지용 마그네트론 부 이송 장치를 갖는 마그네트론 스퍼터링 설비도 제공함으로써, 공정이 진행되지 않는 경우에 타켓의 자화를 방지할 수 있도록 타켓과 마그네트론을 서로 일정 거리 이격 시킬 수 있다.
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公开(公告)号：KR1020100114717A
公开(公告)日：2010-10-26
申请号：KR1020090033235
申请日：2009-04-16
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 나흥열 , 이기용 , 서진욱 , 정민재 , 홍종원 , 강유진 , 장석락 , 정윤모 , 양태훈 , 소병수 , 박병건 , 이동현 , 이길원 , 박종력 , 최보경 , 마이단축이반 , 백원봉 , 정재완
CPC classification number: H01L21/67109
Abstract: PURPOSE: A substrate processing apparatus is provided to uniformly heat the inside of a processing chamber by installing the upper heating unit, an external heating unit and a middle part heating unit. CONSTITUTION: A substrate processing apparatus includes a processing chamber(120), a boat(110), an external heating unit(130), and a transporting unit(140). A plurality of substrates is loaded on the boat. The external heating unit is placed on the external side of the processing chamber. The transporting unit transports the boat with respect to the processing chamber and includes a lower heating unit. A middle part heating unit is placed on the center part of the boat.
Abstract translation: 目的：提供一种基板处理装置，通过安装上部加热单元，外部加热单元和中间加热单元来均匀地加热处理室的内部。 构成：基板处理装置包括处理室（120），船（110），外部加热单元（130）和输送单元（140）。 多个基板装载在船上。 外部加热单元被放置在处理室的外侧。 运输单元相对于处理室传送船，并且包括下加热单元。 中间部分加热单元放置在船的中心部分。
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公开(公告)号：KR1020100100187A
公开(公告)日：2010-09-15
申请号：KR1020090018928
申请日：2009-03-05
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
Inventor： 이길원 , 이기용 , 서진욱 , 양태훈 , 박병건 , 리사첸코,막심 , 안지수 , 김영대 , 윤상연 , 박종력 , 최보경 , 정윤모 , 정민재 , 홍종원 , 나흥열 , 강유진 , 장석락
IPC: H01L21/205
CPC classification number: H01L21/02532 , H01L21/02422 , H01L21/02488 , H01L21/02592 , H01L21/0262 , H01L21/02672 , H01L27/1277 , H01L29/66757
Abstract: PURPOSE: A polycrystalline silicon manufacturing is provided to improve the charge mobility of crystallized polycrystalline silicon layer by using hydrogen gas as the carrier gas during forming the amorphous silicon layer. CONSTITUTION: A buffer layer(110) is formed on a substrate(100). An amorphous silicon layer(120) is formed on the buffer layer. A capping layer(130) is formed on the amorphous silicon layer. A crystallization guiding metal layer(140) is formed by depositing the crystallization guiding metal on the capping layer.
Abstract translation: 目的：提供多晶硅制造，以在形成非晶硅层期间通过使用氢气作为载气来提高结晶多晶硅层的电荷迁移率。 构成：在衬底（100）上形成缓冲层（110）。 在缓冲层上形成非晶硅层（120）。 在非晶硅层上形成覆盖层（130）。 结晶导向金属层（140）通过将结晶引导金属沉积在覆盖层上而形成。
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公开(公告)号：KR1020090052201A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118785
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/20 , H01L21/027
Abstract: 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 인장시켜 고정하는 인장 유닛과; 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 접합수단이 포함되며, 상기 인장 유닛은,
상기 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와; 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과; 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에 구비되어 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단과; 상기 다수의 클램프 중 일부 클램부를 회전시키도록 상기 일부 클램프와 연결된 벤딩 수단이 포함됨을 특징으로 한다.Abstract translation: 根据本发明实施例的用于制造垂直沉积型掩模的设备包括：张紧单元，用于张紧和固定掩模片; 以及粘合装置，用于粘合掩模片和与掩模片的周边区域紧密附着的掩模框架，
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公开(公告)号：KR1020090052200A
公开(公告)日：2009-05-25
申请号：KR1020070118784
申请日：2007-11-20
Applicant: 삼성모바일디스플레이주식회사
IPC: H01L21/027
Abstract: 본 발명은 증착이 수행되는 기판이 대면적화 됨에 따라 상기 기판과 대응되는 대면적 마스크를 제작할 때, 마스크 무게에 의한 처짐 현상을 방지하기 위하여 마스크 시트와 마스크 프레임을 지면으로부터 수직 상태로 용접시킬 수 있는 수직 증착형 마스크 제조장치 및 이를 이용한 수직 증착형 마스크의 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 실시예에 의한 수직 증착형 마스크 제조장치는, 마스크 시트를 지지하는 다수의 클램프와, 상기 다수의 클램프와 각각 연결되고, 상기 연결된 다수의 클램프에 인장력을 가하여 상기 클램프에 의해 고정된 마스크 시트를 평평하게 고정시키는 다수의 인장수단과 상기 각각의 클램프와 인장수단 사이에는 상기 클램프의 인장력을 측정하는 인장력 측정수단을 포함하는 인장 유닛과; 및 상기 마스크 시트 및 상기 마스크 시트의 둘레 영역에 밀착되는 마스크 프레임을 접합하는 용접수단을 포함하며, 상기 인장 유닛 중 일부 인장 유닛의 처짐을 방지하기 위해 상기 인장 유닛과 연결된 처짐 방지수단이 더 포함됨을 특징으로 한다.Abstract translation: 本发明中，当作为面对在其上沉积进行基板的优化产生对应于所述衬底的大面积掩模，其可以从掩模片的表面和荫罩框架，以防止由掩模重量偏转被焊接到垂直位置 本发明的一个目的是提供一种垂直沉积型掩模制造设备和使用该设备制造垂直沉积型掩模的方法。
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